CN110347013B 蒙版框架、蒙版和蒙版框架的制备方法 （信越化学工业株式会社）

WO2018012323A1,2018.01.18WO2017030109A1,2017.02材的表面形成的厚度为2.0~7.5μm的黑色的阳2上述阳极氧化被膜的L值为35以下，L值为将黑体计为0，将相反的12.权利要求1所述的蒙版框架，其中，上述阳极氧化被膜的厚度为3.0μm以上且小于19.权利要求17所述的蒙版，其中，上述蒙版膜经由粘接剂设置在蒙版框架的一个端3在框架基材的表面通过硫酸法形成厚度为2.0μm以上且小于5.0μm的阳极氧化被膜的在上述阳极氧化被膜上形成透明的聚合物电沉上述阳极氧化被膜的L值为35以下，L值为将黑体计为0，将相反的25.半导体器件的制备方法，其具有使用权利要求22所述的带蒙版的光掩模进行曝光26.权利要求25所述的半导体器件的制备方法，27.液晶显示器的制备方法，其具有使用权利要求22所述的带蒙版的光掩模进行曝光28.权利要求27所述的液晶显示器的制备方法，29.权利要求1～16中任一项所述的蒙版框架在用30.权利要求1～16中任一项所述的蒙版框架在半导体器件的制备所使用的蒙版中的31.权利要求1～16中任一项所述的蒙版框架在32.权利要求1～16中任一项所述的蒙版框架在通过ArF激光进行的曝光所使用的蒙版4[0001]本发明涉及在半导体器件或液晶显示器的制备中用作光掩模除尘的平板印刷用[0004]将通常的蒙版的结构示于图2中。该蒙版在蒙版框架102的上端面通过粘接剂103施阳极氧化处理和黑色染色后，通过电沉积涂装形成透明的丙烯酸树脂被膜的蒙版框架。该纯铝被膜用于覆盖被误认为蒙版框架表面异物的导致亮点(缺陷)的铝合金表面的结晶5样的杂射光照射至如专利文献1所记载的实施聚合物涂覆的蒙版框架的内侧面的情况下，[0016]另一方面，在形成阳极氧化被膜的框架基材上通过电沉积涂装形成涂膜的情况67[0045]透明的聚合物电沉积涂膜优选不含有不均匀地存在于该透明的聚合物电沉积涂膜不均匀地存在的成分(特别是粒状不均匀成分)，且在蒙版框架的外观检查中产生闪烁过滤器的外侧部分装备吸附或分解环境中的化学物色的工序(着色工序)、和在阳极氧化被膜上形成透明的聚合物电沉积涂膜的工序(透明的8 氧化处理后的框架材，在处理温度40~60℃、pH5~6的处理条件下进行10分钟左右的染色处理。9[0072]用于电沉积涂装的涂装装置或电沉积涂装用涂料可从一些公司作为市售品购分钟将阳极氧化被膜着色为黑色，进而以温度110℃、相对湿度90~100%(R.H.)、压力[0087]在使用分光色差计(日本电色工业(株)制NF‑555)测定如此操作得到的蒙版框架合物电沉积涂膜不均匀的情况下观察到的色斑或在未形成透明的聚合物电沉积涂膜的情[0089]在未见到色斑或表面异常的蒙版框架的一个端面，通过粘接剂(旭硝子公司制施例1同样地测定的透明的聚合物电沉积涂膜的可见光区的透过率为合物电沉积涂膜不均匀的情况下观察到的色斑或在未形成透明的聚合物电沉积涂膜的情[0095]对与实施例1同样地制作的蒙版的框架内侧面照射设定为5mJ/cm2/pulse、500Hz定的透明的聚合物电沉积涂膜的可见光区的透过合物电沉积涂膜不均匀的情况下观察到的色斑或在未形成透明的聚合物电沉积涂膜的情[0101]对与实施例1同样地制作的蒙版的框架内侧面照射设定为5mJ/cm2/pulse、500Hz定的透明的聚合物电沉积涂膜的可见光区的透过合物电沉积涂膜不均匀的情况下观察到的色斑或在未形成透明的聚合物电沉积涂膜的情[0106]对与实施例1同样地制作的蒙版的框架内侧面照射设定为5mJ/cm2/pulse、500Hz合物电沉积涂膜不均匀的情况下观察到的色斑或在未形成透明的聚合物电沉积涂膜的情[0111]对与实施例1同样地制作的蒙版的框架内侧面照射设定为5mJ/cm2/pulse、500Hz测定的透明的聚合物电沉积涂膜的可见光区[0116]在同样地制作10个蒙版框架并进行沉积涂膜不均匀的情况下观察到的色斑或在未形成透明的聚合物电沉积涂膜的情况下观[0117]使用未见到色斑或表面异常的蒙版框架，与实施例1同样地对框架内侧面照射设定的透明的聚合物电沉积涂膜的可见光区的透过[0121]在同样地制作10个蒙版框架并进行外观检查时，5个框架见到在透明的聚合物电沉积涂膜不均匀的情况下观察到的色斑或在未形成透明的聚合物电沉积涂膜的情况下观[0122]