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文档简介
衬底基板上的正投影与对应的光敏检测单元在光的损失,增大射向光敏检测单元的光线的强2所述发光层背离所述第二电极一侧的多个光敏所述第三开口在所述衬底基板上的正投影与对应的所述光敏检测单元在所述衬底基所述光敏检测单元位于子像素之间的非开口区域中,所述光敏检测单元板上的正投影与所述第一开口在所述衬底基板上2.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第二电极覆盖所述第二开口的侧在所述衬底基板指向所述发光层的方向上,所述第二开口在平在所述衬底基板指向所述发光层的方向上,所述第四开口在平所述第一倾斜角为所述第二开口的侧壁与所述像素定义层的底面所述第二倾斜角为所述第四开口的侧壁与所述像素定义层的顶面所述光敏检测单元位于所述衬底基板与所述3在所述第一电极所在膜层之上形成像素定义层,采用掩膜版对除各所述光敏检测单元外的位置进行遮挡,在所述发4[0002]随着显示技术的飞速发展,有机电致发光(OrganicLight-EmittingDiode,[0008]所述第三开口在所述衬底基板上的正投影与对应的所述光敏检测单元在所述衬5述像素定义层的底面为所述像素定义层靠近所述衬底基板述像素定义层的顶面为所述像素定义层远离所述衬底基板[0030]在所述第一电极所在膜层之上形成像素定义层,并对所述像素定义层进行图形6[0041]图4至图6为本发明实施例中第二电极在第二开口和第四开口处形成的聚光器的二电极13之间的发光层14,以及位于发光层14背离第二电极13一侧的多个光敏检测单元[0051]第三开口U3在衬底基板10上的正投影与对应的光敏检测单元15在衬底基板10上三开口在衬底基板上的正投影与对应的光敏检测单元在衬底基板上的正投影具有交叠区7阴极为例进行说明。在具体实施时,第一电极11可以采用氧化铟锡(Indiumtinoxide,开口U3在衬底基板10上的正投影与对应的光敏检测单元15在衬底基板10上的正投影具有[0056]如图1所示,图中以指纹识别区域C设置在显示面板中靠下的位置处为例进行示光学胶将硅基衬底贴附在衬底基板10背离发光层8[0070]第一倾斜角α为第二开口U2的侧壁与像素定义层12的底面之间的夹角;像素定义层12的底面为像素定义层12靠近衬底基[0071]第二倾斜角β为第四开口U4的侧壁与像素定义层12的顶面之间的夹角;像素定义层12的顶面为像素定义层12远离衬底基9[0076]图4至图6为本发明实施例中第二电极在第二开口和第四开口处形成的聚光器的[0082]在具体实施时,参照图2,光敏检测单元15位于平坦层17背离衬底基板10的一侧测单元15中的P型半导体层153通过透明电极19与对应的信号线L电连接;光敏检测单元15[0087]在实际工艺过程中,一般采用蒸镀工艺并采用开放式掩膜版(OpenMask)制作第层包括多个分别与各光敏检测单元15对应的多个有机抑制单元201,然后采用开放式掩膜单元15的作用。[0095]本发明实施例提供的上述显示面板的制作方法中,通过对像素定义层进行图形[0101]在实际工艺过程中,一般采用蒸镀工艺并采用开放式掩膜版(OpenMask)制作第层包括多个分别与各光敏检测单元15对应的多个有机抑制单元201,然后采用开放式掩膜
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