CN112782935B 抗蚀剂组成物及图案形成方法 （信越化学工业株式会社）

US2018004087A1,2018US2018024435A1,2018.本发明的课题为提供在以KrF准分子激光、电子束、极紫外线等高能射线作为光源的光学光刻中，展现特别良好的掩膜尺寸依存性(掩膜误差更含有至少1种具有芳香族取代基的重复单元的表示2AR62表示亦可插入杂原子的碳数1～8的直链31可含有杂原子的直链状或分支状或环状的碳数1～20的2R22有氧原子的直链状或分支状或环状的碳数1～35的1价烃基、或含氮杂环基或前述式(i)表+表示的鎓阳离子为选自于如下所示者中的至少1种：4567893表示碳数1～20的亦可经杂原子取代的直Z4为氧原子或NH，分别独立将根据权利要求1至5中任一项所述的抗蚀剂组成物涂布于基板上并进行加热处理来入到抗蚀剂膜与投影透镜之间来实施的浸润式该液体插入到该保护膜与投影透镜之间来实[0002]伴随LSI的高集成化与高速化，微细化也在急速进展。就最先进的微细化技术而言，现已实施将水等液体插入于投影透镜与基板之间来实施曝光的ArF浸润式光刻达成的C(＝O)-Z2-3表示碳数1～20的亦可经杂原子取代的直分别独立[0037]本发明的抗蚀剂组成物通过使用如此的(A)成分，可展现更为良好的掩膜尺寸依[0042]本发明的抗蚀剂组成物通过更含有如此的(D)成分，可改善抗蚀剂膜表面与水的[0046]又，前述曝光可为使折射率1.到该保护膜与投影透镜之间来实施浸润式曝光以进行图式(B-1)表示的酸产生剂的抗蚀剂组成物，会展现良好的掩膜尺寸依存性(掩膜误差系数：C(＝O)-Z2-3表示碳数1～20的亦可经杂原子取代的分别10的直链状或分支状或环状L01L02L03分别表示碳数1～18，宜为1～10[0113]式(L3)中，RL05表示碳数1～8的也可经取代的直链状或分支状或环状的烷基或碳[0114]式(L4)中，RL06表示碳数1～8的也可经取代的直链状或分支状或环状的烷基或碳L07与RL09L08与RL10L09与RL10L11与RL1215的直链状或分支状或环状的烷[0118]RL24表示和其所键结的碳原子一起形成有取代或无取代的环戊烷环、环己烷环或[0120]RL28表示和其所键结的碳原子一起形成有取代或无取代的环戊烷环、环己烷环或[0122]RL32表示和其所键结的碳原子一起形成有取代或无取代的环戊烷环、环己烷环或[0202]树脂A((A)成分的基础树脂)的重均分子量(Mw)宜为1,000～50[0204]合成树脂A的方法可列举例如将用以获得式(a1)表示的重复单元及因应需要的式[0205]树脂A中，得自于各单体的各重复单元的理想含有比例可设定为例如下列所示的[0206](I)式(a1)表示的重复单元宜含有1～99摩尔含有20～95摩尔％更佳，含有30~60摩尔％再更佳，[0208](III)选自于式(A-2)～(A-4)表示的重复单元中的至少1种宜含有1～40摩尔%,[0209](IV)选自于式(a2)～(a4)表示的重复单元中的至少1种宜含有0～99摩尔[0210](V)其它重复单元宜含有0～99摩尔含有0～70摩尔％更佳，含有0～50摩尔%[0226]W2宜为碳数7～14的不含杂原子的多环状1价烃基。就W2而言特佳者可[0232]式(B-1)表示的光酸产生剂为具有如此的Rf者的话，会由于氟原子的效果而改善[0240]式(B-1)中，M+表示的鎓阳离子宜为选自于下式(b1)及式(b2)表示的阳离子中的[0243]式(b1)及(b2)中，R41～R45分别独立地为也可含有杂原子的直链状或分支状或环R33为也可含有杂原子的直链状或分支状或环状的碳数1～20的21和前述相同。[0284]式(B-2)中，M+表示的鎓阳离子宜为选自于前述式(b1)及式(b2)表示的阳离子中有杂原子的直链状或分支状或环状的碳数1～20的1价烃基。p及q分别独立地为0～5的整2,6]癸基2223及R24宜为乙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、乙二醇单乙醚、丙二醇二甲醚、二乙二醇二甲醚等醚类；[0306]本发明的抗蚀剂组成物中也可含有和前述树脂A不同的树脂，且包含选自于下式54烷基等。前述碳数1～15的氟化1价烃基可列举键结于前述1价烃基的碳原子的一部分或全[0314]R57表示的碳数1～20的(v+1)价烃基或氟化烃基可列举从前述1价烃基或氟化1价[0328]本发明的抗蚀剂组成物也可因应需要含有胺化合物、磺酸盐或羧酸盐作为淬灭[0329]如此的淬灭剂之中，胺化合物可列举日本特开2008-111103号公报的段落[0146]的化合物般将伯或仲胺以氨基甲酸酯基形式予以保护的化合物。如此的经保护的胺化合基)-2-氧代乙基等2-芳基-2-氧代乙基等芳基[0347]本发明的抗蚀剂组成物也可含有不溶或难溶于水且可溶于碱显影液的表面活性剂及/或不溶或难溶于水及碱显影液的表面活性剂成分。如此的表面活性剂可参照日本特剂之中，宜为FC-4430(3M公司制)、SURFLON(注册商标)S-381(AGCSEIMICHEMICAL(股)2常的曝光法之外，也可用使折射率1.0以上的液体插入抗蚀剂膜与投影透镜之间来实[0361]又，就图案形成方法的手段而言，可通过在光抗蚀剂膜形成后实施纯水淋洗[0371]IR(D-ATR)：ν=3087,3002,2906,2852,1785,1727,1477,1448,1344,1240,1180,1103,1076,1035,1010,997,943,[0376]IR(D-ATR)：ν=3089,2907,2853,1785,1729,1476,1449,1344,1237,1180,1104,1076,1035,1010,947,761,合物的Mw是利用使用THF或DMF作为溶剂的GPC测得的聚苯[0424]将本发明的抗蚀剂组成物(R-1～R-40)及比较用的抗蚀剂组成物(R-41～R-78)，[043