CN113557591B 基板处理装置及其搬送控制方法 （株式会社斯库林集团）

2021.09.13PCT/JP2020/0040182020.02.04WO2020/195175JA2020.10.01WO2018216476A1,2018.11.29US2017345680A1,2017.11.30US2012064727A1,2012.03.15用液膜覆盖基板表面的状态下搬送基板的基板处理装置(1)，为了防止因搬送中的振动或液体的挥发等而导致的基板表面的露出，而具送机构搬送的基板并执行预定的处理；拍摄部至通过搬送机构将基板搬入第2处理部的期间的2控制部，其基于上述拍摄部分别在从形成上述液膜起至通过上搬入上述第2处理部为止的期间的互不相同的时刻拍摄的多个图像的差分，来控制上述搬在上述差分超出预先设定的基准量的情况和未超出预先设控制部使从上述第1处理部搬送至上述第2处理部为止所花上述第1处理部在处理腔室内进行针对上述基板的上分别在从形成上述液膜起至将上述基板搬入上述第2处理部为止的期间的互不相同的上述差分作为两个图像间的每一像素的差的绝对在上述差分超出预先设定的基准量的情况和未超出预先设定上述第1处理部搬送至上述第2处理部为止所3至通过上述搬送机构将上述基板搬入上述第2处理部为止的期间的互不相同的时刻拍摄的4入上述第2处理部为止的期间的互不相同的时刻分别拍摄上述液膜，并基于所拍摄的多个[0017]本发明的上述以及其他目的与新颖的特征只要参照附图分结构，而容易理解地表示其内部结构的示意图。该基板处理装置1例如是设置于无尘室5板处理部10结合的分度器部(indexer)20。分度器部20具备容器保持部21和分度器机器人置壳体。多关节臂222被设置成能够相对于基底部221绕铅垂轴转动。在多关节臂222的前其他2个基板处理单元13A、14A负责从湿式处理后的基板S去除残存液并使基板S干燥的处[0036]各基板处理单元11A～14A中，执行针对基板S的处理的基板处理主体收纳于在面11A具有处理腔室110和设置于处理腔室110中的面向中心机器人15的侧面的挡板[0037]同样地，基板处理单元12A具有处理腔室120和设置于处理腔室120中的面向中心机器人15的侧面的挡板121。此外，基板处理单元13A具有处理腔室130和设置于处理腔室设置于处理腔室140中的面向中心机器人15的侧面的[0038]并且，在上下方向上配置多级(本例中为2级)如此以水平方向配置的基板处理单6[0039]图2是表示中心机器人的结构以及设置环境的图。中心机器人15能够从分度器机[0041]伸缩臂154在水平方向上进行伸缩，从而能够使保持于机械手155的基板S在水平需要将从低表面张力液供给部供给的低表面张力液供给取出1片未处理基板S并移交给中心机器人15。中心机器人15将所接收的基板S搬入至要执降部152调整旋转部153的高度，将保持于机械手155的基板S定位在基板处理单元11A的处送空间TS。基板处理单元11A使处理腔室110的设置有挡板111的侧面面向搬送空间TS而安7控制单元90至少包含CPU(CentralProcessingUnit，中央处理单元)91以及存储器92。CPU91通过执行预先准备的控制程序而使装置各部执行预定的动作。此外，存储器92存储在湿式处理后搬出的基板S的上表面暴露在周围大气中，湿式处理部30一并执行用低表面张力液的液膜覆盖湿式处理后的基板S的上表面的液膜形卡盘311的周缘部设置有多个卡盘销(chuckpin)312。卡盘销312与基板S的周缘部抵接而支持基板S，由此旋转卡盘311能够以从基板S的上表面离开的状态将基板S保持为水平姿[0052]旋转卡盘311通过从其下表面中央部朝下延伸的旋转支轴313而以上表面成水平的方式被支持。旋转支轴313通过安装在处理腔室110的底部的旋转机构314而旋转自如地进行旋转，由此与旋转支轴313直接连结的旋转卡盘311绕以单点链线表示的铅垂轴旋转。[0053]将防溅罩32设置成从侧方包围基板保持部31。防溅罩32具有以覆盖旋转卡盘311的周缘部的方式设置的大致筒状的杯部321以及设置于杯部321的外周部的下方的液体接8在如图3A所示从基板S的上方朝侧方退避的退避位置与如图3B所示基板S上方的处理位置[0057]喷嘴334与设置于控制单元90的处理液供给源(省略图示)连接。若从处理液供给臂343前端的喷嘴344对湿式处理后的基板S的上表面Sa供给用于形成液膜的低表面张力在将湿式处理后的湿润的基板S干燥的过程中，有时因进入到图案内的液体的表面张力而上方俯视旋转卡盘311所保持的基板S而使其落入拍摄视野。照明光源352将用于拍摄的照9[0064]在上表面Sa被液膜LF覆盖的状态下从基板处理单元11A搬出的基板S被搬送至基板处理单元13A的内部结构的侧面剖视图。超临界干燥处理的原理以及为此所需的基本结台41设置于高压腔室130内。平台41通过吸附保持或机械保持而保持上表面Sa被液膜覆盖一起绕由单点链线表示的铅垂方向的旋转轴[0067]在高压腔室130的内部且在平台41的上方设置有流体分散部件44。流体分散部件从二氧化碳供给部45供给至高压腔室130的上部，二氧化碳气体通过流体分散部件44被整基板处理装置1是对基板S依序执行湿式处理和干燥处理的装置。该处理的主要流程如下。面张力液的液膜，将该基板S搬送至执行干燥处理的基板处理单元而去除液膜使基板S干[0074]搬入有基板S的基板处理单元11A对基板S执行湿式处理(步骤S104)。如之前说明的那样，湿式处理的内容是将处理液供给至基板S而进行基板上表面Sa的加工、清洗的处[0075]将通过液膜形成处理而在上表面Sa形成有液膜LF的基板S通过中心机器人15从基将基板S从基板处理单元11A移送至基板处理单元13A的移送处理(步骤S106)。作为移送处[0076]搬入有基板S的基板处理单元13A对基板S执行去除所附着的液体而使基板S干燥的处理后的基板S从中心机器人15移交给分度器机器人22(步骤S109)。分度器机器人22将[0082]更具体而言，例如在步骤S102中将基板S从分度器机器人22移交给中心机器人15[0085]图6是表示移送处理的第1方式的流程图。首先，在基板处理单元11A的处理腔室[0087]将通过拍摄获得的图像与最初拍摄的基准图像进行比较。即，求出由CCD照相机(步骤S208中的“是”)，则基板S从中心机器人15移载至高压腔室130内的平台41(步骤[0091]例如在因振动或急剧的加减速而低表面张力液从基板S落下的案例中，通过将基分(步骤S241)。所谓的理想图像是与基板S的上表面Sa被预定厚度的液膜LF均匀地覆盖的期间的不同时刻所拍摄的多个液膜的图像进行比较，并根据其结果来决定以后的搬送动[0105]此外，上述实施方式中将由处理腔室110内的CCD照相机351拍摄的液膜的图像作[0107]此外，在中心机器人15还可以设置用于接住回收从搬送中的基板S落下的液体的[0116]本发明能够应用于在将基板表面用液膜覆盖的状态下进行在执行互不相同的处