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制备工艺专利数量增加+相关标准日趋完善带动镍铬合金溅射靶材市场高质量发展

镍铬合金溅射靶材，是以高纯度镍（Ni）和铬（Cr）合金制成的溅射镀膜靶材。根据溅射面形状不同，镍铬合金溅射靶材分为平面靶和管靶直靶（又称旋转靶），其中平面靶包括矩形平面靶和圆形平面靶。

镍铬合金溅射靶材具有耐热性好、抗氧化性优异、高电阻率、耐腐蚀性优等特性，可用于光学器件镀膜、芯片电极制备、航天器关键结构件与功能涂层、薄膜太阳能电池制造等，在半导体、光学工业、平板显示、航空航天、光伏、医疗器械等领域广泛应用。

根据新思界产业研究中心发布的《2026年中国镍铬合金溅射靶材市场专项调研及企业“十五五规划”建议报告》显示，受益于半导体等下游行业对溅射靶材需求不断增长，镍铬合金溅射靶材市场保持较高速增长趋势。2025年全球镍铬合金溅射靶材市场规模约为51.2亿元，预计未来全球市场规模将持续扩大，2026-2030年期间年复合增长率将高达9.6%。

随着研发工作持续推进，我国相关镍铬合金溅射靶材发明专利数量逐渐增加，有力推动行业的技术进步与产品迭代，2020年以来包括“一种镍铬合金溅射靶材用热压机”、“一种镍铬合金溅射靶材及其热等静压制备方法”、“一种热压制备镍铬合金溅射靶材的球磨机”等。

在数字经济蓬勃发展的背景下，我国逐渐成为全球溅射靶材的最大需求市场之一。但受工艺瓶颈、产品品质等因素影响，我国镍铬合金溅射靶材等高性能靶材长期依赖进口。随着布局企业增多，以及企业研发投入力度加大、技术水平不断提升，我国镍铬合金溅射靶材国产替代进程加快推进。长沙鑫康新材料、宁波江丰电子、北京瑞弛、西安方科新材料、北京坤星元科技等是我国镍铬合金溅射靶材市场主要参与者。

为规范镍铬合金溅射靶材的生产流程、保障产品质量，推动行业高质量发展，我国出台了多项相关标准，包括行业标准《镍铬合金靶材（YS/T1635-2023）》、团体标准《半导体用高纯溅射靶材（T/CIET722—2024）》（涵盖镍铬合金溅射靶材）等。

新思界行业分析人士表示，作为半导体、平板显示、光伏等行业的核心材料，镍铬合金溅射靶材市场具有广阔发展空间。随着技术迭代、标准体系日趋完善，以及长沙鑫康新材料等国产企业通过加大研发投入、完善人才储备等方式，不断提升产品性能与规模化供给能力，我国镍铬合金溅射靶材国产化率将持续提高。新思界产业研究中心还提供，产业大数据、行业研究报告、行业地位

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