CN119394235A 一种膜厚测量校准片及制作和监测方法 （芯恩（青岛）集成电路有限公司）

本发明公开了一种膜厚测量校准片及制作使每个所述校准区域中的各所述校准单元之间具有与所在处的所述薄膜厚度对应的梯度变化的表面高度。本发明可对膜厚测量设备精准校2在各所述校准区域中形成数量相同的多个校准单元，使各在各所述校准区域中选取数量相同的多个校准对每个所述校准区域中选取的其中一个所述校准单元选定区域以外的其他所述校准在各所述校准区域中选取数量相同的多个校准在各所述校准单元选定区域之间，形成由具有层数依次递增与所在处的所述薄膜叠层厚度对应的梯度变化的表述晶片上排列为覆盖所述晶片表面的阵列。面高度一致的所述校准单元之间在所述校准区域各所述校准区域中形成有数量相同的多个校准单3厚测量校准片制作方法制作的校准片或根据权利要求6_8任意一项所述的膜厚测量校准选取所述校准片上位于不同位置的校准区域，使用膜厚测量设备对将测量数据输入所述膜厚测量设备，对所述膜厚测量设备进行测量标4校准的校准片(通常采用晶片制作)价格昂贵，且每片校准片对应着不同的薄膜厚度等级[0015]对每个所述校准区域中选取的其中一个所述校准单元选定区域以外的其他所述5具有与所在处的所述薄膜叠层厚度对应的梯度变[0031]将测量数据输入所述膜厚测量设备，对所述膜厚测量设[0033]进一步地，所述测量标准包括与不同位置的所述校准区域对应的多个子测量标6取的测量数据与所述测量标准进行比对，对所述膜厚测量设备的精度进行监测以实时监[0037](1)通过在校准片上的不同位置形成多个校准区域，并在每个校准区域中形成具[0038](2)通过选取校准片上位于不同位置的校准区域对膜厚测量设备进行校准，可建立与不同位置的校准区域对应的多个子测量标准，在对膜厚测量对象薄膜进行膜厚测量[0039](3)制作校准片时，通过使作为校准单元的薄膜形成在晶片上的与膜厚测量对象[0041](5)利用相一致的第一校准片和第二校准片作为校准片，并采用第一校准片对膜7片10的校准片晶片衬底11上可以具有与用于形成膜厚测量对象薄膜的产品晶片一致的工片衬底11上的中心1(如图2中的带有纵向平行线条的方格显示的区域)和边缘2(如图2中的带有弥散黑点的方格显示的区域)区域上定义出一个或多个矩形区域作为校准区域12。除底11表面的阵列形式的多行多列的校准区域12(如图2中的中心1和边缘2的全部区域)。其[0055]如图3所示，其显示在定义的一个校准区域12中选取并期望形成的多个校准单元8个校准区域中的各校准单元之间具有与所在处的薄膜厚度对应的梯度变化的表[0064]在各校准区域12中选取的第一个校准单元121选定区域的薄膜13上形成第一掩位于校准区域12中的第一行第一列位置，选取的第二个校准单元122选定区域可位于校准区域12中的第二行第一列位置，选取的第三个校准单元123选定区域可位于校准区域12中的第三行第一列位置，选取的第四个校准单元124选定区域可位于校准区域12中的第三行第二列位置，选取的第五个校准单元125选定区域可位于校准区域12中的第二行第二列位要满足各校准区域12中的各校准单元的相对位置固定的厚度的第二厚度的薄膜13，并在第一个校准单元121选定区域形成由具有第一厚度的薄膜埃第一厚度的一半。从而在具有第一掩膜遮挡的第一个校准单元121选定区域形成由具有10000埃第一厚度的薄膜13形成的第一个校[0066]接着，在各校准区域12中的第一个校准单元121选定区域和选取的第二个校准单厚度的薄膜13。这样就在第二个校准单元122选定区域形成由具有5000埃第二厚度的薄膜9[0067]以此类推，可在第三个校准单元123选定区域形成由具有1000埃第三厚度的薄膜13形成的第三个校准单元123，在第四个校准单元124选定区域形成由具有500埃第四厚度的薄膜13形成的第四个校准单元124，在第五个校准单元125选定区域形成由具有100埃第埃第六厚度的薄膜13形成的第六个校准单元126。从而在各校准区域12中形成所需的相同数量的6个校准单元121～126，使各校准单元由形成于校准片晶片衬底11上的同质的薄膜13形成，并使每个校准区域12中的6个校准单元121～126之间具有与所在位置处的薄膜13[0074]在各校准区域12中选取的第一个校准单元121选定区域的薄膜13上形成第一掩[0075]在校准片晶片衬底11上再次形成第二厚度的薄膜13，将定义的各校准区域12覆[0076]在各校准区域12中的第一个校准单元121选定区域和选取的第二个校准单元122选定区域的薄膜13上形成第二掩膜，露出第三个校准单元123选定区域至第六个校准单元校准区域12覆盖，在各校准区域12中选取的第六个校准单元126选定区域形成由具有第六元121选定区域对应形成由包括具有第六厚度的薄膜13在内的相应厚度的薄膜13的叠层对应形成的多个校准单元。即第五个校准单元125由具有第六厚度的薄膜13和具有第五厚度的薄膜13的叠层形成，第四个校准单元124由具有第六厚度的薄膜13至具有第四厚度的薄膜13的叠层形成，第三个校准单元123由具有第六厚度的薄膜13至具有第三厚度的薄膜13的叠层形成，第二个校准单元122由具有第六厚度的薄膜13至具有第二厚度的薄膜13的叠层形成，第一个校准单元121由具有第六厚度的薄膜13至具有第一厚度的薄膜13的叠层形形成于校准片晶片衬底11上的同质的薄膜13形成，并使每个校准区域12中的6个校准单元121～126之间具有与所在位置处的薄膜13总厚度对应的例如10000埃至50埃的6个梯度递质及制作工艺条件与膜厚测量对象薄膜的材质及制作工艺条件一致。由于薄膜沉积制程产品膜层特征相吻合的校准片10录入膜厚测量设备数据库的数据将域12中形成有数量相同的多个校准单元，例如每个校准区域12中都形成有数量相同的6个的各校准单元(第一个校准单元121至第六个校准单元126)之间具有与所在处的薄膜13厚[0085]本发明的校准片10，可采用上述本发明的一种膜厚测量校准片制作方法制作形于中心1和边缘2不同位置处的校准区域12，使用膜厚测量设备对校准区域12中的6个校准[0092]