CN119395937A 光学模型的模型参数优化方法、设备、存储介质及产品 (深圳晶源信息技术有限公司)_第1页
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文档简介

道福保社区红棉街8号英达利科技数本申请公开了一种光学模型的模型参数优光学模型的预设模型参数构建待测试的图形对结果满足检测通过条件。本申请能够基于OPC和LRC的检查结果对模型参数进行迭代优化,改善了光学模型适配调整后的版图在OPC过程中难以2基于光学模型的预设模型参数构建待测试的图形对应在所述检查结果不满足检测通过条件的情况下,根据所述检在所述待测试的图形为一个或多个的情况下,基于光学模型在所述待测试的图形为多个的情况下,基于光学模型的模型参5.根据权利要求3或4所述的光学模型的基于所述目标检查结果和所述目标图形,对光学模型的模型参数进基于所述目标检查结果和所述目标图形,对所述光学模型的所述处理器执行所述计算机程序指令时实现如权利要求1_7任意一项所述的光学模型9.一种计算机可读存储介质,其特征在于,所述3程序指令,所述计算机程序指令被处理器执行时实现如权利要求1_7任意一项所述的光学实现如权利要求1_7任意一项所述的光学模型的模4[0002]在集成电路设计过程中,经过EDA软件设计后的版图需要通过光学模型进行适配[0003]OPC能够调整掩膜版上图形的边缘或添加额外的多边形,以改善OPE(Optical够改善相关技术中经过光学模型调整的版图文件在OPC过程中难以优化5[0030]处理器执行计算机程序指令时实现上述方面的光学模型的模型参数优化方法的6[0041]下面将详细描述本申请的各个方面的特征和示例性实施例,为了使本申请的目实施例的描述仅仅是为了通过示出本申请的示例来提供对本申请更[0043]在集成电路设计过程中,经过EDA软件设计后的版图需要通过光学模型进行适配[0044]OPC能够调整掩膜版上图形的边缘或添加额外的多边形,以改善OPE(Optical的覆盖率不足、OPC工程师的实际经验不足以及光学模型的模型参数所呈现的物理性不足[0047]图1示出了本申请一个实施例提供的光学模型的模型参数优化方法的流程示意78[0064]作为一种可选的实施方式,上述构建得到的版图文件可以是GDS(GeometryData后的光学模型能够对多个图形构成的整体版9标检查结果,并基于该目标检查结果及其对应的目标图形对光学模型的模型参数进行调件自动进行迭代调整,另一部分模型参数则可以由工程师基于光刻规则检查的检查结果,[0102]构建模块501,用于基于光学模型的预设模型参数构建待测试的图形对应的版图其可操作来执行参考根据本公开的上述方面的指令被处理器执行时实现上述实施例中的任意一种光学模型的被处理器执行时可实现前述方法实施例的步骤本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内,可轻易想到各种等效的修改或替换,

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