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原子力显微镜对薄膜样品的测量

演讲人：向超宇学号：0530048内容提要背景原理和实验数据分析结论致谢提问背景AFM是研究材料表面的重要手段由于信息技术的发展，以Fe、Co、Ni为代表的磁光性质材料备受关注验证膜参数拟合过程中对表面粗糙层计算原理和实验AFM测量原理：微弱力的作用主要是范德华力接触方式：轻敲式

setpiont20mN测量数据:表面形貌、表面硬度、表面厚度、断裂化学键或、附力RF磁控溅射溅射是一种物理沉积过程掺Fe量5%20%本底真空（10-5Pa）8.67.8溅射真空（Pa）1.01.0溅射高压（V）520～470519～480溅射功率（W）100100溅射时间2h10min2h30min磁控溅射示意图Si基底贴片控制掺杂比数据和分析标准样品X：10.0μm，标准差的百分比0.1%；Y：10.1μm，标准差的百分比0%；Z：11.1nm，与标准差的百分比为88.7%。范德华力叠加示意图掺铁20%粗糙层平均厚度为7.053nm。拟合的粗糙层厚度为11.38nm。两者百分差为38.0%。Z方向的粗糙度R=1.082nm。掺铁5%粗糙层平均厚度为7.164nm。拟合的粗糙层厚度为7.987nm。两者百分差为10.3%。Z方向的粗糙度R=2.494nm膜生长掺铁5%的厚度为81.8nm，掺铁20%的厚度为116.6nm厚度问题占空比，即介质在粗糙层中占的体积比结论AFM测量是表面力叠加的综合结果，溅射的厚度（溅射时间）影响着样品的表面形态，粗糙层的厚度与占空比的选择直接相关致谢感谢实验室的白老师悉心指导，感谢提供XED公司

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