CN119404295A 研磨材浆料及其研磨方法 （三井金属矿业株式会社）

2024.12.17PCT/JP2023/0227072023.06.20WO2024/004750JA2024.01.0423.根据权利要求2所述的研磨材浆料，其特征在于，所述无机磷化合物为焦磷酸化合4.根据权利要求1所述的研磨材浆料，其特征在于，进一步含有纤维素系表面活性剂6.根据权利要求1～3中任一项所述的研磨材浆料所述高锰酸根离子的含量为0.5质量％以上且3.2质量所述磷酸类的含量为0.01质量％以上且0.1质量所述高锰酸根离子的含量为0.5质量％以上且3.2质量所述磷酸类的含量为0.01质量％以上且0.1质量所述纤维素系表面活性剂和/或所述阳离子表面活性剂的总含量为1.0质量3这些材料形成的基板由于与以往的硅基板相比具有大的带隙，因此变得可耐受更高的电此作为SiC基板的制造工序中将SiC基板的表面精加工成镜面的工序、利用所谓的CMP开发了例如专利文献1中所公开的含有氧化锰粒子作为磨[0008]然而，专利文献1中公开的那样的含有氧化锰粒子作为磨粒的研磨材浆料大多分[0013]氧化锰磨粒中所含的氧化锰粒子可列举出氧化锰(II)(MnO)、三氧化二锰(III)(Mn2O323O4)等4[0015]此外，氧化锰磨粒若由激光衍射/散射式粒度分布测定法得到的累积体积50％的光衍射/散射式粒度分布测定法得到的累积体积50％的粒径(D50)更优选为0.15μm以上且[0016]这里，对于氧化锰磨粒的由激光衍射/散射式粒度分布测定法得到的累积体积50％的粒径(D50)，其通过对后述的本发明的研磨材浆料的制造方法中的将氧化锰磨粒通子(MnO4_53PO427758_11_4)。35270_09_8)或偏7790_53_6。[0024]作为焦磷酸化合物，可列举出焦磷酸钠(焦磷酸钠(无水)(Na4P2O7)、CAS编号：68956_75_2。6[0032]本发明的研磨材浆料通过进一步含有纤维素系表面活性剂和/或阳离子表面活性___1合而成的吡啶环也可以被烷基或氨基取代，此外芳基烷基中的亚甲基也可以被_O_取代。_[0040]而且，上述通式(1)所表示的阳离子表面活性剂例如可列举出氯化二硬脂基二甲7C18H37、长链烷基))、苄索氯铵(分子式C27H42ClNO2)、氯化十六烷基吡啶鎓(分子式C21H38NCl)、溴化十六烷基三甲基铵(示构式(C16H33)N+(CH3)3Br_)、地喹氯铵(分子式剂和/或阳离子表面活性剂的总含量相对于本发明的研磨材浆料的总量优选为0.1质量%剂和/或阳离子表面活性剂的总含量相对于本发明的研磨材浆料的总量优选为1质量％以有特殊的说明，则在仅含有纤维素系表面活性剂和/或阳离子表面活性剂中的任一者的情类的含量为0.01质量％以上且0.1质8成只要是在调整研磨材浆料时能充分发挥其[0051]被本发明的研磨材浆料研磨的被研磨物例如为莫氏硬度为8以上的高硬度材料。外曼效应引起的翘曲及开裂的产生。SiC基板通常使用单晶碳化硅基板，结果是作为其晶以在所得到的研磨材浆料中间体中添加纤维素系表面活性剂和/或阳离子表面活性剂。9碎。这些成分的含量按照相对于实施例1的研磨材浆料总量，二氧化锰的含量成为30质[0065]将该容器内的包含经混合粉碎的二氧化锰的混合物使用离心分离器((日立工机成为后述的分散性试验中的高锰酸钾的添加[0067]然后，通过将研磨材浆料中间体与KMnO4质量％浓度为3.2质量％的高锰酸钾研磨材浆料总量成为0.25质量％的方式制备的作为纤维素系表面活性剂的羧甲基纤维素[0077]实施例6中，将研磨材浆料中间体与KMnO4质量％浓度为5.6质量％的高锰酸钾(KMnO4)水溶液混合，按照高锰酸根离子的含量相对于实施例6的研磨材浆料总量成为3.2料。需要说明的是，实施例6的磷酸类的合计含量相对于氧化锰磨粒含量的质量比率为[0079]实施例7中，按照焦磷酸钠的含量相对于实施例7的研磨材浆料总量成为0.01质[0081]实施例8中，按照焦磷酸钠的含量相对于实施例8的研磨材浆料总量成为0.1质[0083]实施例9中，按照焦磷酸钠的含量相对于实7320_34_4分别各等量地混合而成的试样)成为0.002质量％的方式制备(磷酸类的合计量为0.02质实施例1的研磨材浆料中间体中添加按照相对于实施例10的研磨材浆料总量成为0.1质[0091]比较例3中，将研磨材浆料中间体与KMnO4质量％浓度为5.6质量％的高锰酸钾(KMnO4)水溶液混合，按照高锰酸根离子的含量相对于比较例3的研磨材浆料总量成为4质[0093]比较例4中，按照焦磷酸钠的含量相对于比[0095]比较例5中，按照焦磷酸钠的含量相对于比较例5的研磨材浆料总量成为0.5质[0098]通过将实施例1～10及比较例1～5的研磨材浆料中的含有以涂料摇动器混合粉碎[0100]在高锰酸根离子的供给源即高锰酸钾的添加前和添加后，分别评价1、3～5的研磨材浆料中的含有以涂料摇动器混合粉碎后的磨粒的混合物按照它们的混合例1、3～5的研磨材浆料的浓度成为0.01质量％左右的方式用水进行稀释，制备样。然后，使用激光衍射/散射法粒度分布测定装置(MicrotracBEL株式会社制：由于在其研磨材浆料中间体中没有添加高锰酸钾(KMnO4)，因此没有进行上述的分散性评价。[0104]实施例1～10及比较例1～5的研磨材浆料的附着性是由试验者对使装有上述的高锰酸钾添加后的分散性评价中使用的试样的容器(ASONE公司制广口瓶IBOY250ml)翻转时浆料中间体中没有添加高锰酸钾(KMnO4)的浆料[0106]通过以下的步骤来评价实施例1～10及比较例1～5的研磨材浆料的研磨速率。研进行。研磨装置使用M.A.T.公司制单面研磨机BC_15。安装于平台的研磨垫使用NITTA体转速设定为60rpm，外周部速度设定为961cm/min。进而研磨时的载荷设定为2.8psi[0108]制备实施例1～10及比较例1～5的研磨材浆料的各样品。将所制备的各样品在设[0110]如以下那样评价实施例1、3及10的研磨材浆料的摩擦特性。将研磨垫(NITTA实施例1、3及10的研磨材浆料的摩擦系数。如果摩擦系