CN119439527A 显示装置及其制备方法 （京东方科技集团股份有限公司）

显示装置包括显示面板以及设置于显示面板出显示面板的一侧，覆盖第一光栅层上的透镜单投影至少部分覆盖相邻透镜单元之间的间隔区2第一光栅层，设置于所述显示面板的出光侧，所第二光栅层，设置于所述第一光栅层远离所述显示面遮光层，所述遮光层在所述显示面板上沿第一方向的正所述透镜单元沿所述第一方向的最大尺寸的五所述第二光栅层沿所述第一方向的最小尺寸的五6.一种显示装置，其特征在于，包括显示面板以第一光栅层，设置于所述显示面板出光侧的表面显示面板上的平坦化层以及位于所述平坦化层远离所述显示面板的一侧的多个阵列排布第二光栅层，设置于所述第一光栅层远离所述显示面8.一种显示装置，其特征在于，包括显示面板以所述光栅结构包括第一光栅层和第二光栅层；所述第一光3所述显示装置还包括遮光层，所述遮光层位于所述显示面板的所述显示面板上沿第一方向的正投影至少部分覆盖相邻所述透镜单元之间的间隔区域在在所述显示面板上形成光栅结构，其中，所述光栅结根据所述对位标记在所述显示面板上形成遮光层，所述遮在150℃及以下的温度条件下对所述光栅过渡图形进行低温热回流处理形成多个阵列令所述光栅结构靠近所述透镜基板的一侧与所述显在所述透镜基板上形成阵列排布的所述透镜单4令所述光栅结构靠近所述透镜基板的一侧与所述显提供第一压印模板，所述第一压印模板包括基板和设置在所述第一压印模板靠近所述透镜单元的一侧涂覆压印材料采用所述第二压印模板对所述透镜基板上的所述第二感光材料层进行压模处理之后在所述显示面板上形成光栅结构，其中，所述光栅结远离所述透镜单元的一侧的表面为连续平面，所述平坦化层和所述透镜单元的材料相同；在所述第二光栅层远离所述透镜基板的一侧形成所述第一光栅层，得到所述光栅结令所述光栅结构靠近所述第一光栅层的一侧与所述显提供第三压印模板，所述第三压印模板包括基板和设置采用所述第三压印模板对所述透镜基板上的所述第三感光材料层进行压模处理之后在所述遮光层远离所述显示面板的一侧形成光栅结构，所5在所述透镜基板上形成阵列排布的所述透镜单令所述光栅结构靠近所述第二光栅层的一侧与所述遮光层远离所述显示面板的一侧6透镜光栅分别进入左眼视区和右眼视区。相关技术中的3D显示装置虽然能够满足显示效[0006]根据上述实施例可知，相比于传统技术中仅采用单一光栅结构将多方向光线聚7述遮光层沿所述第一方向的尺寸小于所述第二光栅层沿所8[0027]在150℃及以下的温度条件下对所述光栅过渡图形进行低温热回流处理形成多个[0045]采用所述第二压印模板对所述透镜基板上的所述第二感光材料层进行压模处理9[0058]采用所述第三压印模板对所述透镜基板上的所述第三感光材料层进行压模处理[0063]在一个实施例中，所述在所述遮光层远离所述显示面板的一侧形成光栅结构包[0067]令所述光栅结构靠近所述第二光栅层的一侧与所述遮光层远离所述显示面板的[0070]图1a～图1f是本申请实施例提供的一种显示装置的制备方法的各步骤结构示意[0071]图2a～图2d是本申请实施例提供的另一种显示装置的制备方法的各步骤结构示[0072]图3a～图3d是本申请实施例提供的又一种显示装置的制备方法的各步骤结构示[0073]图4a～图4e是本申请实施例提供的图3a步骤中的一种显示装置的制备方法的各[0074]图5a～图5c是本申请实施例提供的又一种显示装置的制备方法的各步骤结构示[0075]图6a～图6b是本申请实施例提供的图5a步骤中的一种显示装置的制备方法的各[0076]图7a～图7e是本申请实施例提供的又一种显示装置的制备方法的各步骤结构示[0080]在本申请使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本申字无掩膜光刻系统利用微反射镜作为空间光调制器用来取代传统光刻中的掩膜版的方式，[0085]本发明实施例提供的一种显示装置，可以是液晶显示器(LiquidCrystal透镜单元41之间的间隔区域在显示面板1上沿第一方向x的正投影，第一方向x为第二光栅[0087]根据上述实施例可知，相比于传统技术中仅采用单一光栅结构将多方向光线聚3位于相邻透镜单元41之间的间隔区域内，遮光层3沿第一方向x的尺寸h1小于透镜单元41[0089]需要说明的是，相关技术中的透镜在光刻工艺中无法实现透镜之间完全没有间[0090]在一些实施例中，遮光层3沿第一方向x的尺寸是透镜单元41沿第一方向x的最大坦化层42以及位于平坦化层42远离显示面板1的一侧的多个阵列排布的透镜单元41，平坦化层42远离透镜单元41的一侧的表面为连续平面，平坦化层42和透镜单元41的材料相同；第二光栅层5设置于第一光栅层4远离显示面板1的一侧，覆盖第一光栅层4上的透镜单元[0099]本实施例中的光栅结构中，由于第一光栅层4包括平坦化层42以及位于平坦化层42远离显示面板1的一侧的多个阵列排布的透镜单元41，并且平坦化层42的材料和透镜单[0103]光栅结构包括第一光栅层4和第二光栅层5；第一光栅层4包括多个阵列排布的透上沿第一方向x的正投影至少部分覆盖相邻透镜单元41之间的间隔区域在显示面板1上沿遮光层3在显示面板1上沿第一方向x的正投影至少部分覆盖相邻透镜单元41之间的间隔区域在显示面板1上沿第一方向x的正投影，第一方向x为第二光栅层5指向第一光栅层4的方[0120]本实施例中步骤2133中通过紫外光曝光处理(Bleaching)可有效提升第一光栅层100℃)的温度条件进行低温热回流处理解决了透镜制作不能兼容平板显示工厂设备工艺[0123]在一些实施例中，采用本实施例制备得到的显示装置中透镜的口径偏差≤±[0131]本实施例中的制备方法中由于增设一个透镜基板6对光栅结构单独进行制备之后[0138]本实施例中的制备方法采用先形成第一光栅层4和第二光栅层5，再形成遮光层3造成的偏差程度，然后反着推导设计出需要对模板图案做怎样的修饰才能得到目标图案。板1上的第一光栅层4和第二光栅层5，第一光栅层4包括覆盖于显示面板1上的平坦化层42以及位于平坦化层42远离显示面板1的一侧的多个阵列排布的透镜单元41，平坦化层42远基板上的多个阵列排布的透镜单元41以及[0158]本实施例中采用一次压模的纳米压印工艺可实现先形成具有凹陷的第二光栅层可实现无需遮光层3即可避免光栅结构漏光，因此在简化工艺的同时可提升显示装置的显镜单元41的凸面朝向显示面板1的出光侧；第二光栅层5位于第一光栅层4和显示面板1之述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定者适应性变化遵循本申请的一般性原理并包括本申请未公开的本技术领域中的公知常识