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文档简介
置显示区域以及位于所述有效显示区域外围的边所述有效显示区域内的第一钝化图案和第一开第二钝化图案位于所述有效显示区域的至少一2第一平坦层,设置在所述第一子钝化层与所述第二子6.根据权利要求1至5任一项所述的显示基板,其开孔的侧面与所述衬底基板所在平面之间的夹角大于或等于60°。8.一种显示母板,包括阵列排布的多个显示基板,所述第一开孔在所述衬底基板上的正投影面积与第一数量13.一种显示基板的制备方法,所述显示基板包括有效显示区域以及位于所述有效显3在所述衬底基板的一侧形成金属层,所述金属层位于在所述金属层背离所述衬底基板的一侧形成第一钝化所述有效显示区域内的第一钝化图案和第一开孔,以及位于所述边缘区域的第二钝化图采用掩膜版以及曝光设备中的挡板,对所述光刻胶进行遮挡4所在平面之间的夹角大于或等于60°。5[0017]所述第二钝化图案在所述衬底基板上的正投影面积与第一数量的乘积为第一面[0020]在一个基板组内,所述显示基板的第一侧设置有同属一个基板组的其它显示基[0029]在所述金属层背离所述衬底基板的一侧形成第一钝化[0036]采用化学气相沉积工艺,在所述金属层背离所述衬底基板的一侧形成所述钝化[0037]上述说明仅是本公开技术方案的概述,为了能够更清楚了解本6[0040]图2a和图2b示例性地示出了本公开提供的第一种和第二种显示母板的结构示意[0045]图7示例性地示出了本公开提供的显示基板的有效显示区域与边缘区域的交界处盘的工艺过程中,通常是对显示母板所包括的每个显示基板100的周边区域的钝化层全部7示区域AA内的部分中除第一开孔106以外的图案。第一钝化层104可以包括多个第一开孔[0061]示例性地,在对有效显示区域AA的三侧进行刻蚀的情况下(如图2b中间两行显示显示区域AA的两侧进行刻蚀的情况下(如图2b第一行和第四行的显示基板100所示),第二钝化图案107位于有效显示区域AA的两侧(如图6中的b所示);在对有效显示区域AA的一侧进行刻蚀的情况下(如图3中的显示基板100所示),第二钝化图案107位于有效显示区域AA[0063]本公开通过在显示基板100的有效显示区域AA的至少一侧设置第二化层104时可能产生的氟化硅类产物,进而减少焊盘图案103表面所吸附的氟化硅类产物,[0065]由于本公开为解决由于边缘区域BA的第一钝化层104刻蚀产生氟化硅类产物导致的镍铜膜层生长异常的问题,尽可能地减少边缘区域BA的第一钝化层104的刻蚀面积,因对有效显示区域AA的四侧的第一钝化层104均不进行刻蚀,最大程度地避免氟化硅类产物8[0068]在一些实施方式中,如图7所示,第二钝化图案107与第一钝化图案105的厚度相或等高于(图中未示出)第二钝化图案107背[0072]在一些实施方式中,如图5所示,第一钝化层104包括层叠设置的第一子钝化层202的孔壁在衬底基板101上的正投影部分交叠。第一平坦层201可以包括多个第二开孔与衬底基板101所在平面之间的夹角a大于或等于60°。[0080]示例性地,发光二极管301可以为次毫米发光二极管(MiniLightEmitting板100的有效显示区域AA外围的间隔区域CA,其中,显示母板11包括第一数量的显示基板9[0086]示例性地,第一面积表征显示母板11中多个显示基板100未被刻蚀的边缘区域BA为三侧的第二钝化图案107在衬底基板101上的正投影的总一个显示基板100的有效显示区域AA包括三个第一开孔106,则第二面积为三个第一开孔刻蚀所产生的氟化硅类产物被吸附到有效显示区域AA的焊盘图案103表面进而形成异物膜成缓冲层401,在缓冲层401背离衬底基板101的一侧镀膜、曝光、刻蚀后形成第二金属层的边缘区域BA内的部分。位于有效显示区域AA内的第一钝化层104包括有至少一个第一钝化图案105和至少一个第一开孔106,位于边缘区域BA内的第一钝化层104包括第二钝化图[0108]本公开通过位于边缘区域BA内的第一钝化层104对优先显示区域AA内的金属层物Y),而采用化学气相沉积工艺形成钝化膜最终制备得到的显示基板100质量检测无异物[0124]在一些实施方式中,也可以对于同一显示母板11上的多个显示基板100采用不同[0125]示例性地,采用物理气相沉积工艺形成钝化膜最终制备得到的显示基板100质量定……”或“在检测到[所陈述的条件或事件]时”或“响应于检测到[所陈述的条件或事件]”。接受偏差范围如由本领域普通技术人员考虑到正在讨论的测量以及与特定量的测量相关中近似相等的可接受偏差范围内例如可以是相等的两者之间的差值小于或等于其中任一[0146]本文参照作为理想化示例性附图的剖视图和/或平面图描述了示例性实施方式。以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;
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