CN119493195A 匀光元件及其制造方法 （嘉兴驭光光电科技有限公司）

本发明提供一种制造匀光元件的方法，包分布是根据初始高度分布和随机高度分布确定2确定各个微透镜的高度分布，使得各个微透镜的高度分布具有随机性其中，对于每个微透镜而言，该微透镜的高度分布是根据初始高透镜的表面点的本地坐标包括所述微透镜的表面点的透镜的表面点的坐标包括所述微透镜的表面点的3述随机高度分布调节到所述初始高度分布的预定在所述基底上形成的微透镜阵列，所述微透镜阵列包括多个其中，对于每个微透镜而言，该微透镜的高度分布是根据初始高28.一种匀光元件，其特征在于，其是采用如权利要求1_21中任一项所述的方法制造45透镜的表面点的坐标包括所述微透镜的表面点的第一本地坐标和[0029]根据本发明的实施例，如果所述随机高度分布超出所述初始高度分布的预定范6[0047]图3(a)示出了根据本发明实施例的微透镜阵列的第一比较示例的布置和高度分[0048]图3(b)示出了根据本发明实施例的微透镜阵列的第一应用示例的布置和高度分[0049]图3(c)示出了根据本发明实施例的微透镜阵列的第二应用示例的布置和高度分[0050]图3(d)示出了根据本发明实施例的微透镜阵列的第三应用示例的布置和高度分[0053]图5(b)示出了根据本发明实施例的匀光片的第一应用示例的照度分布的仿真结[0054]图6(a)示出了根据本发明实施例的微透镜阵列的第二比较示例的布置和高度分[0055]图6(b)示出了根据本发明实施例的微透镜阵列的第四应用示例的布置和高度分7便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使8镜的初始面型之后，仅需要对每个微透镜简单添[0075]图1示出了根据本发明实施例的制造匀光元件的方法的示9[0100]r=、,为当前坐标(x,y)位置与微透镜中心的距离。[0105]在设计单个微透镜的初始镜面的面型公式并且由此确定该微透镜的初始高度之[0115]具体地，微透镜的随机高度分布与该微透镜的表面点的第一本地坐标呈线性关[0118]具体地，微透镜的随机高度分布与该微透镜的表面点的第二本地坐标呈线性关随机系数和第二随机系数)，并且微透镜的随机高度分布随着微透镜的表面点的两个本地本地坐标)和纵坐标(即第二本地坐标)，微透镜i的本[0133]如上式所示，微透镜i的随机高度分布hi(xi,yi)与微透镜i的表面点的横坐标xi=0。[0153]di表示与微透镜i对应的缩放系数，缩放系数di是由微透镜i[0164]微透镜阵列中的各个微透镜的随机高度分布(即线性随机高度函数)形成的表面[0168]图3(a)示出了根据本发明实施例的微透镜阵列的第一比较示例的布置和高度分[0169]图3(b)示出了根据本发明实施例的微透镜阵列的第一应用示例的布置和高度分[0170]图3(c)示出了根据本发明实施例的微透镜阵列的第二应用示例的布置和高度分[0171]图3(d)示出了根据本发明实施例的微透镜阵列的第三应用示例的布置和高度分5(a)示出了位于匀光片后200mm处探测平面上的照度分布的仿真结果，该匀光片的微透镜[0177]图5(b)示出了根据本发明实施例的匀光片的第一应用示例的照度分布的仿真结[0178]图6(a)示出了根据本发明实施例的微透镜阵列的第二比较示例的布置和高度分[0179]图6(b)示出了根据本发明实施例的微透镜阵列的第四应用示例的布置和高度分[0180]图7(a)示出了基于图6(a)所示微透镜阵列的匀光片的照度分布的仿真结果。图7[0181]图7(b)示出了基于图6(b)所示微透镜阵列的匀光片的照度分布的仿真结果。图7相位以消除干涉。[0182]图8(a)示出了根据本发明实施例的微透镜阵列的第三比较示例的形貌的示意[0183]图8(b)示出了根据本发明实施例的微透镜阵列的第五应用示例的形貌的示意以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。