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文档简介

1、黄光制造工艺,1。一般流程图,2。黄光制造工艺:涂在玻璃表面的感光物质(也称为光致抗蚀剂或光致抗蚀剂)曝光和显影后留下的部分保护底层,然后蚀刻并去除薄膜,最终获得永久图案。3、工艺流程;4、清洗、烘干后,平光玻璃进入真空室溅射氧化铟锡/金属有机玻璃。玻璃、玻璃、玻璃、清洁、玻璃清洁:清除玻璃表面的污垢和油渍,清洁玻璃表面,确保后续光刻胶的涂覆效果和附着力。主要控制参数:清洗液浓度、清洗速度和脱脂刷压入量。成膜前的清洗过程:料液切割、洗涤剂喷射、洗涤剂刷洗、清洗、纯水刷洗、高压喷射、中压喷射、双液喷射、末端di水喷射气刀吹干和放电、清洗、7、溅射、溅射原理:靶材连接阴极,玻璃连接阳极或接地,通入

2、氩气。电子在加速过程中与氩原子碰撞,在电场的作用下飞向玻璃,电离出大量的氩和电子,形成等离子体。氩在电场作用下轰击靶,溅射出大量靶原子,中性靶原子(或分子)沉积在玻璃上形成薄膜。氧化铟锡(ITO):是一种宽能隙的N型半导体,具有很高的透光率和导电性,非常适合应用于对透光率和导电性要求也很高的显示屏和其他相关产品材料。氧化铟锡会吸收空气中的二氧化碳和H2O,导致“发霉”,这需要防潮。氧化铟锡层在活性正离子溶液中容易发生离子置换反应,形成其他导电性和透射性较差的反应物质,因此在加工过程中应避免将其长时间置于活性正离子溶液中。主要参考参数:涂层厚度、薄膜附着力。喷涂机、8、清洁、玻璃清洁:清除污垢、

3、油渍等。以保证后续光刻胶的涂覆效果和附着力。主要控制参数:清洗液浓度、清洗速度和脱脂刷压入量。9,Clean,清洗过程:料液切割,洗涤剂喷洒,洗涤剂刷洗,清洗,纯水刷洗,高压喷洒,中压喷洒,双流体喷洒,末端去离子水喷洒,气刀干燥和排放,10,红外/紫外/阴极保护,红外紫外阴极保护,红外:高温干燥玻璃表面水分。紫外线:去除玻璃表面的有机物,这样可以进一步清洁玻璃。将玻璃冷却至室温。主要控制参数:红外温度和传导速度。11、CT、镀膜:在玻璃正面均匀地涂上一层感光材料光刻胶。光致抗蚀剂:光致抗蚀剂是一种利用材料的光化学反应来转移图案的介质,可分为正性光致抗蚀剂和负性光致抗蚀剂。在正型光致抗蚀剂被紫外

4、线曝光后,曝光区域将经历光降解或降解反应,这将使性质改变并优先溶解在正型显影剂中,而未曝光部分将保留以形成正型图案。相反,未曝光部分溶解在负显影剂溶液中。主要控制参数:辊筒的正向挤压和向下压力、涂布速度、泵频率和泵强度。主要参考参数:膜厚(过渡光刻胶,膜厚1 . 42 . 3 m),膜均匀性。主要质量异常:涂层针孔和涂层箭头阴影。涂层、12、CT、涂层和涂层一般分为滚涂、滑涂和旋涂。我们公司使用压路机。我们公司的BMOC1采用喷墨印刷,而OC2采用APR凸版印刷。13,预烘焙,预烘焙:也称为软烘焙。将光致抗蚀剂中的大部分有机溶剂烘焙至4%至7%,以固化原始液体光致抗蚀剂。主要控制参数为:烘烤时

5、间、烘烤温度和烘烤热板的针高。主要质量异常:玻璃加热不均匀导致光刻胶局部过度烘烤或烘烤不充分,导致后续显影不干净或过度显影。这一步是黄灯过程中的关键。通过曝光,光致抗蚀剂的照射部分溶解在显影剂中的速度不同于光致抗蚀剂的未曝光部分的速度,从而将图案转移到掩模上。有三种曝光方法:接触式、投影式主要控制参数:曝光能量、曝光间隙、曝光机的载物台温度。主要质量异常:曝光偏差、固定光刻胶异常残留和过度曝光。A,曝光,15,EXPO,曝光波长:I线(365纳米),H线(405纳米),G线(436纳米)。面具:也叫面具。电路图通过曝光从掩模转移到玻璃上。高压汞灯的发光原理:在真空石英管中加入一定量的高纯汞,通

6、过在两个电极之间提供高压差产生高温,使汞汽化,汞蒸气在高电位差下被激发放电,从而产生紫外辐射。里面的卤素元素具有催化和保护作用。A、曝光、16、DEV、显影:将(正)光刻胶的曝光部分溶解在快速显影剂中(负光刻胶正好相反,未曝光部分溶解在显影剂中),未曝光部分溶解缓慢,因此可以通过控制显影时间来显示掩模上的图形。主要控制参数:显影时间、显影剂浓度、显影温度和显影喷雾压力。主要质量异常:脏显影、过度显影和光刻胶回粘。显影,17,DEV,显影剂:tmah(四甲基氢氧化铵),四甲基氢氧化铵,分子式(CH3)4NOH,是一种有机弱碱,浓度为2.38%(ITO1TO2MAM)或0.4%(BMOC1)。我们

7、公司使用氢氧化钾。显影,18,后烘焙,后烘焙:也叫硬烘焙。显影的光致抗蚀剂被固化,因此其图案是稳定的。主要控制参数:烘烤温度和烘烤时间。19岁,ADI公司,发展后检查:检查玻璃质量。A,ADI,20,CDC,临界尺寸:临界尺寸,线宽。覆盖:适合度。总间距:第一层的拟合度。A,CDC,21,SR,抗蚀剂厚度:光致抗蚀剂的厚度测量。蚀刻:用强酸蚀刻玻璃中未受光刻胶保护的氧化铟锡部分,以留下所需图案的过程。主要控制参数:蚀刻液浓度、蚀刻液温度、蚀刻时间和喷射压力。主要质量异常:蚀刻不干净、氧化铟锡过度蚀刻和由涂层异常引起的蚀刻异常。蚀刻,蚀刻溶液:我们使用硝酸和盐酸的混合酸。妈妈,我们使用硝酸、磷酸和醋酸的混合酸。A,A

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