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文档简介

1、电 子 厂洁 净 室 系 统简 介,大 纲,HJT C/R 介紹,洁净室系统型式,为何需要Clean Room,洁净室的定义 洁净等级定义 制程线宽与洁净度之关系,Clean Room之环境因子,影响C/R洁净度的环境因子,风管系统 FFU系統 轴流风机系统,架构表及主要系统介绍 Layout 说明 MAU与空气循环系统,洁 净 室 的 定 义,洁净室为将一定空间范围内之空气中的微尘粒子、有害空气、细菌等之污染物排除,并将室内之温湿度、洁净度、室内压力、气流速度与气流分布、噪音震动及照明、静电控制在某一需求范围内,而给于特别设计之房间以符合制程工艺之需求,洁净等级,制程线宽与洁净度之关系,污染

2、物大小,影响C/R洁净度之环境因子,温度 湿度 压力 微尘粒子 照度 微振动 噪声 静电 化学物质,洁净室空调系统型式,风管系统 FFU系統 轴流风机系统,以风管输送洁净空气 循环空调箱兼处理外气,天花空间为微负压气室 独立设置外气空调箱,天花空间为正压气室 独立设置外气空调箱,风管系统(循环空调箱兼处理外气),洁净度、温度及湿度控制,FFU系統(独立设置外气空调箱),洁净度控制,温度控制,湿度控制,温度控制,轴流风机系统(独立设置外气空调箱),洁净度控制,温度控制,湿度控制,温度控制,架构表及主要系统设备介绍,LIGHTING SPEAKER FFU HARMONIC MAU&DC BANK

3、&HARMONIC FILTER HVAC MONITOR FFU MONITOR ION. SYS. FMS,ARCH,HVAC,FIRE PROTECTION,ELEC/CONTROL,ELEC,CHEMICAL,C/R,HVAC,DI,ARCH,HJT FAB 8N PROJECT,P-P,EPOXY COATING RAISED FLOOR CEILING GRID SYS. PARTITION AIR SHWOR/AIR LOCK TOOL FOUNDATION VIRBRATION DEFENCE,MAU SYS. FFU SYS 2nd CHW DRY COIL AIR WASH

4、ER SYS.,FIRE SPRINKLER DESMOKE SYS. ADRANCE DETECTOR SYS. AIR SAMPLING SYS.,CDA PCW PV HV BA IW,HJT C/R 主要洁净需求,Cleanliness Temperature Humidity,100 230.5 455% RH,1000 232 455% RH,0.1 230.5 455% RH,10000 232 4510% RH,电子厂平面配置概念图,FAB 2,FAB 1,S B,O B,C U B,W H,SUB FAB(MASK SHOP),RAP,FAB、SB3F、G/R,TRUSS、SB4F-TEST AREA,电子厂剖面概念图,RAISED FLOOR,COIL,COIL,DESMOKE FAN,DESMOKE FAN,MAU + 空气循环系统,外气空调箱功能 压力之控制 湿度之控制 外气微尘粒之预处理 气态分子之控制,空气循环系统功能 洁

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