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文档简介
杂质半导体中的载流子浓度
2024/4/272杂质半导体中的载流子浓度结论:①杂质半导体中,自由电子和空穴浓度的乘积等于同温
度下本征半导体中自由电子或空穴的浓度平方。②杂质半导体中,多子的浓度近似等于掺杂浓度,少子浓度随温度升高而迅速增大。nnpn=ni2=pi2nppp=ni2=pi2nn=ND+pnpp=NA+npN型半导体:P型半导体:式中:nn表示N型半导体中自由电子浓度,pn表示N型半导体中
空穴浓度,np表示P型半导体中自由电子浓度,pp表示P
型半导体中空穴浓度,ni、pi分别表示本征半导体中自由
电子和空穴浓度,ND表示施主杂质浓度,NA表示受主杂
质浓度记忆2024/4/273N型半导体概念:在本征半导体中掺入高价元素(施主杂质)使
自由电子浓度大大高于空穴浓度的半导体。2024/4/274图1.1.3掺杂五价元素原子的
N型半导体示意图+4+4+5+4多余电子磷原子
掺杂浓度远大于本征半导体中载流子浓度,所以,自由电子浓度远大于空穴浓度。自由电子称为多数载流子(多子),空穴称为少数载流子(少子)。2024/4/275P型半导体概念:在本征半导体中掺入低价元素(受主杂质)使
空穴浓度大大高于自由电子浓度的半导体。2024/4/276+4+4+3+4硼原子P型半导体中空穴是多子,自由电子是少子。空穴2024/4/277杂质半导体的示意表示法:------------------------P型半导体++++++++++++++++++++++++N型半导体
杂质型半导体中多子和少子的定向移动都能形成电流。但由于数量的关系,起导电作用的主要是多子。近似认为多子与杂质浓度相等。2024/4/2781.1.3载流子在半导体内的运动载流子在电场作用下的漂移运动概念:在外加电场作用下,自由电子和空穴产生定向运动Jpt=μpqpEJnt=-(-q)nμnE=μnqnEJt=Jpt+Jnt=(pμp+nμn)qE式中:Jpt表示空穴漂移电流密度
Jnt表示电子漂移电流密度;
Jt表示漂移电流密度;
μn表示自由电子迁移率;
μp表示空穴迁移率。2024/4/279载流子在浓度梯度作用下的扩散运动概念:在浓度差的作用下,自由电子和空穴产生的定向运动式中:JnD
表示电子电流密度;
JpD
表示空穴电流密度;
Dn
表示自由电子扩散率;
Dp
表示空穴扩散率。图1.1.5光照产生的载流子浓度分布2024/4/27101.2PN结与晶体二极管在同一片半导体基片上,分别制造P型半导体和N型半导体,经过载流子的运动,在它们的交界面处就形成了PN
结。1.2.1PN结的动态平衡过程和接触电位差(书中P5!)
⑴
P型区到N型区的过渡带两边的自由电子和空穴浓度相差很大,在浓度差下形成扩散运动,P区的空穴(多子)向N区扩散,N区的自由电子(多子)向P区扩散⑵在过渡区域产生强烈的复合作用使自由电子和空穴基本消失,在过渡带中产生一个空间电荷区(耗尽区)⑶扩散运动使过渡带内失去了电中性,产生电位差和电场,分别称为接触电位差和内建电场⑷内建电场由N区指向P区阻碍多子的扩散运动,却促进过渡带中少子的漂移运动2024/4/2711⑸漂移运动中和过渡区中的电荷从而削弱内建电场,随着扩散运动和漂移运动的进行,最后达到一个平衡状态,即内建电场的强度恰好使扩散运动和漂移运动的速度相等,这种平衡称为动态平衡PN结的接触电位差:T=300K时,VT≈26mV,为热力学电压;锗的Vφ,硅的Vφ⑹这时过渡带中的接触电位差,内建电场强度,空间电荷区宽度均处于稳定值,这时我们认为PN结已经形成,并把P、N的过渡带称为PN结,PN结的宽度为空间电荷区的宽度。2024/4/2712P型半导体区------------------------N型半导体区++++++
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