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薄膜的制备

薄膜的制备。一、薄膜的物理气相沉积。二、薄膜的化学气相沉积。二、薄膜的物理气相沉积 PVD 1、衬底的准备 2、真空蒸镀法 3、脉冲激光沉积法。第四章薄膜的制备。薄膜制备是一门迅速发展的材料技术。薄膜的制备方法综合了物理、化学、材料科学以及高技术手段。薄膜生长理论和薄膜制备技术。

薄膜的制备Tag内容描述:<p>1、2020/4/26,.,第四章薄膜的制备,薄膜制备是一门迅速发展的材料技术,薄膜的制备方法综合了物理、化学、材料科学以及高技术手段。薄膜的应用前景十分广泛。半导体器件,电路连接,电极,光电子器件,半导体激光器,光学镀膜,PreparationofCompositeMaterials,2020/4/26,.,薄膜科学的研究内容,薄膜生长理论和薄膜制备技术;薄膜的结构、成分和微观状态;薄膜的宏观特性及。</p><p>2、收稿日期: 2004- 08- 25.? 基金项目: 四川省科技攻关项目(03GG009- 005- 2) ; 国家 ? 863?计划项目(2003AA513010). 材料、 结构及工艺 玻璃衬底上 CdTe 薄膜的制备及其性质 曾广根, 冯良桓, 黎 ? 兵, 张静全, 蔡亚平, 郑家贵, 蔡 ? 伟, 郑华靖, 陈 ? 茜, 李 ? 卫 (四川大学 材料科学与工程学院, 四川 成都 610064) 摘? 要: ? 利用近空间升华法在经过不同打磨处理的玻璃衬底上制备了 CdTe 薄膜, 用 X 射线 衍射仪, 扫描电镜表征了 CdTe 薄膜的微结构。结果表明 CdTe 薄膜的微观结构依赖于衬底粗糙 度, ( 111) 晶面的择优取向随衬底表面粗糙。</p><p>3、材料 物理制备基础 第四讲:薄膜的制备,一、薄膜的物理气相沉积,2、脉冲激光沉积法,二、薄膜的化学气相沉积,1、薄膜的蒸镀法,3、薄膜的溅射沉积,二、薄膜的物理气相沉积 PVD 1、衬底的准备 2、真空蒸镀法 3、脉冲激光沉积法,4、溅射沉积法,1、衬底的准备,(1)衬底的选取 膨胀系数与薄膜相接近; 对于需要外延生长的薄膜,要选取晶格相匹配的单晶衬底; 根据制备薄膜的目的,还要考虑衬底的电阻率、介电常数、磁性、硬度、弹性模量等等 i、玻璃是常用的衬底材料 石英玻璃-SiO2 ; 99.5% ;软化温度:1580oC;使用温度:950oC; 膨胀系数:5。</p><p>4、浙江理工大学硕士学位论文 摘要 二氧化钛( T i 0 2 ) 具有良好的光催化性和亲水性能,并由于其化学稳定性好、 反应活性高,成本低而受青睐。光催化T i 0 2 材料可用于降解有机物、杀菌消毒、 污水处理、空气净化、防。</p><p>5、2020 2 9 21 56 55 材料合成与制备 李亚伟赵雷无机非金属材料系 2020 2 9 21 56 55 第四章薄膜的制备 薄膜制备是一门迅速发展的材料技术 薄膜的制备方法综合了物理 化学 材料科学以及高技术手段 薄膜的应用前景十分。</p><p>6、2020/6/16/14:03:06,材料合成与制备,李亚伟赵雷无机非金属材料系,2020/6/16/14:03:06,第四章薄膜的制备,薄膜制备是一门迅速发展的材料技术,薄膜的制备方法综合了物理、化学、材料科学以及高技术手段。薄膜的应用前景十分广泛。半导体器件,电路连接,电极,光电子器件,半导体激光器,光学镀膜,PreparationofCompositeMaterials,2020/6/16。</p><p>7、2020/7/29/07336021336045、材料合成与制备、李亚伟赵雷无机非金属材料系、2020/7/29/07336021336045、第四章薄膜制备、薄膜制备快速,薄膜应用前景非常广阔。 半导体老虎钳、电路连接、电极、光电老虎钳、激光半导体、光学镀、preparationofcompositematerials,2020/7/29/07:21:45,薄膜科学的研究内容薄膜的结构成分微观状。</p>
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