薄膜制备方法

薄膜制备方法Tag内容描述：<p>1、薄膜制备技术 综合实验,真空技术在二十世纪得到迅速发展，并有广泛的应用。二十世纪初，在真空获得和测量的设备方面取得进展，如旋转式机械泵，皮氏真空计，扩散泵，热阴极电离真空计的发明，为工业上应用高真空技术创造了条件接着，油扩散泵，冷阴极电离真空计的出现使高真空的获得及测量取得一大进展五十年代，真空技术进入超高真空时代，发明了B-A规，离子泵，涡轮分子泵近二十年来，高能加速器，受控热核反应装置、空间技术，表面物理，超导技术笋，对真空技术提出了更新，更高的要求，使真空技术在超高真空甚至极高真空方面迅速发展,。</p><p>2、薄膜材料与薄膜技术,数理学院,第二章 薄膜的化学制备方法(1),薄膜制备技术,直流溅射,射频溅射,磁控溅射,离子束溅射,真空 蒸发,溅射 沉积,离子镀,物理气相沉积 （PVD）,化学气相沉积 （CVD）,分子束外延 （MBE）,气相沉积,电 镀 法,溶胶-凝胶法,电阻加热,感应加热,电子束加热,激光加热,直流二极型离子镀,射频放电离子镀,等离子体离子镀,HFCVD,PECVD,LECVD,DC,RF,MW,ECR,热壁,冷壁,化学气相沉积(CVD) 1. 化学气相沉积: 沉积过程中发生化学反应，薄膜与原料的化合状态不一样。 2. 代表性技术：低压CVD(LPCVD), 常压CVD(APCVD), 等离子体增强C。</p><p>3、薄膜材料与薄膜技术,数理学院,第二章 薄膜的化学制备方法（2）,一、化学镀 二、溶胶-凝胶法 三、阳极反应沉积 四、电镀 五、LB技术 六、水热法,主要内容,一、 化学镀膜,化学镀膜是在催化条件下的氧化还原过程,一般靠被镀金属本身的自催化作用完成镀膜过程。 并非所有金属都有自催化沉积作用，具有催化潜能的金属数量有限。但是非催化金属的表面可以用活性剂激活，然后，在其表面实现化学沉积。所以使用活性剂的催化反应也可当作化学镀。,催化剂是指能提供或激活化学反应，而本身又不发生化学变化的物质。自催化是指参与反应物或产物之一具。</p><p>4、薄膜材料及制备概述,应用工程师 吴西 2015.03.03,目录,1）固体材料概述 分类、材料研究过程、结构与性能 2）薄膜材料的概念 概念、制备、衬底、附着力、内应力 3）薄膜材料的应用 结构性薄膜、功能性薄膜 4）总结。</p><p>5、薄膜的制备工艺,贾增民53所,主要内容,1.什么是薄膜1.1薄膜的几种定义1.2薄膜的分类1.3薄膜的特点2.薄膜的制备工艺2.1物理气相沉积2.2化学气相沉积2.2.1金属有机化学气相沉积2.3溶胶凝胶法2.4电沉积,1.什么是薄膜。</p><p>6、第二章薄膜制备方法,薄膜制备方法概述,按成膜机理分类，薄膜的制备方法可大致分为物理方法和化学方法两大类。物理气相沉积（PVD）指的是利用某种物理的过程，如物质的热蒸发或在受到粒子束轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质从源物质到薄膜的可控的原子转移过程。这种薄膜制备方法相对于化学气相沉积（CVD）方法而言，具有以下几个特点：需要使用固态的或者熔化态的物质作为沉积过程的源物质；源物质要经过物理过。</p>