Nikon光刻机

Nikon光刻机Tag内容描述：<p>1、光刻机就是一台大照相机，带光刻胶的wafer就是底片，reticle上的图形就是风景，光源（汞灯或者激光）就是太阳光，当快门打开，光投射到reticle上，经过镜头的投射，就在wafer上成像了。和照相机不一样，每个风景只要拍一次就好了，reticle上的图形要拍很多次，要把整个wafer布满才算曝光结束。从我熟悉的nikon光刻机说起：NIKON曾经是半导体行业的光刻之王，全世界80%的st。</p><p>2、第一章 修理操作前的各项准备工作1.1修理操作的先决条件1.2使用工具第二章 照明系统修理程序2.1超高压汞灯电源异常2.2照明均匀性异常和曝光功率降低第三章 硅片传输系统的修理程序3.1硅片传输系统的真空异常3.2 OF检测失灵3.3预对准工作异常3.4上下片臂定位不良（以上全部维修程序请参考微高公司提供的维修手册）第一章 修理操作前的各项准备工作1.1修理操作的先决条件能进行操作和精读检验能够使用示波器 照度计等测量仪器注意事件：抽出电路板时，请先关断电源拿起电路板时请勿用手指接触链接点打开或关断控制单元电源时，先将控制计算。</p><p>3、标题 NIKON 光刻机开关机操作规范 Version 9C07 Document 秘密秘密 The information contained herein is the exclusive property of CSMC and shall not be distributed reproduced or disclosed in whole or in part without prio。</p><p>4、衬底材料对光刻机对准精度的影响研究 何峰 作者简介 何峰 1984 男 湖南邵阳人 硕士研究生 目前从事MEMS设计与制造 Email hefeng84928 吴志明 王军 袁凯 蒋亚东 电子科技大学 电子薄膜与集成器件国家重点实验室 四川。</p><p>5、铝板的分类常识 根据铝板含有的金属元素不同 铝板大概可以分为9个大类 也就是可以分9个系列 下面逐步大概介绍一下 一 1000系列 代表 1050 1060 1070 1000系列铝板又被称为纯铝板 在所有系列中1000系列属于含铝量最。</p><p>6、ASMLScannerGeneralIntroduction,CourseOverview,SystemOverviewBasicOperationRecovery,PAS5500WAFERSCANNEROVERVIEWPurposeThePAS5500isafullyautomaticstep-and-repeatcameraforexposingwafersusedformanufactu。</p><p>7、光刻机简单介绍 郑鸿光2012 09 01 目录 1 发展史2 光刻机概述3 光刻机构造4 相关技术 光刻机发展过程 1 接触式光刻机2 接近式光刻机3 投影式光刻机4 扫描式光刻机5 步进式光刻机6 步进扫描式光刻机 光刻教育资料 光。</p><p>8、光刻机的匹配和调整周虎明 韩隽(中国电子科技集团公司第58研究所，江苏 无锡 214035)摘要：光刻机的匹配使用是半导体工艺大生产线上提高生产效率的一项重要措施。光刻机的匹配主要包括场镜误差的匹配和隔栅误差的匹配，如何调整相同型号光刻机的匹配使用将是本文论述的重点。 关键词：套刻精度；误差；匹配；调整中图分类号：TN305 文献标识码：A1引言在超大规模集成电。</p><p>9、第一章 引言 1 1光刻背景 受功能增加和成本降低的要求所推动 包括微处理器 NAND闪存与DRAM等高密度存储器以及SoC 片上系统 和ASSP 特殊应用标准产品 在内的集成电路不断以快速的步伐微缩化 光刻则使具有成本优势的器。</p><p>10、ASMLScannerGeneralIntroduction CourseOverview SystemOverviewBasicOperationRecovery PAS5500WAFERSCANNEROVERVIEWPurposeThePAS5500isafullyautomaticstep and repeatcameraforexposingwafersusedformanufactur。</p><p>11、第十一章光刻,光刻是一种图象复印的技术，是集成电路制程中一项关键的工艺技术。在整个工艺流程中，光刻的步骤占到50以上，其成本占总制造成本的1/3以上。,光刻：Photolithography,光刻步骤占整个工艺流程50%,简单的说，光刻就是用照相复印的方法，将掩膜版上之图形精确地复印到涂在硅片表面的光致抗蚀剂（Photoresist）（下面统称光刻胶）上面，然后在光刻胶的保护下对硅片进行离子注入。</p><p>12、泓域咨询MACRO/ 光刻机项目投资规划说明光刻机项目投资规划说明规划设计 / 投资分析 光刻机项目投资规划说明说明该光刻机项目计划总投资19151.86万元，其中：固定资产投资15633.33万元，占项目总投资的81.63%；流动资金3518.53万元，占项目总投资的18.37%。达产年营业收入34390.00万元，总成本费用26915.01万元，税金及附加339.38万元，利润总额7474.99万元，利税总额8845.40万元，税后净利润5606.24万元，达产年纳税总额3239.16万元；达产年投资利润率39.03%，投资利税率46.19%，投资回报率29.27%，全部投资回收期4.92年，提供就业职位49。</p><p>13、光刻机的匹配和调整 周虎明 韩隽 中国电子科技集团公司第58研究所 江苏 无锡 214035 摘要 光刻机的匹配使用是半导体工艺大生产线上提高生产效率的一项重要措施 光刻机的匹配主要包括场镜误差的匹配和隔栅误差的匹配。</p><p>14、泓域咨询MACRO 光刻机项目投资建设报告 光刻机项目 投资建设报告 投资建设报告参考模板 仅供参考 摘要 该光刻机项目计划总投资16375 51万元 其中 固定资产投资11601 10万元 占项目总投资的70 84 流动资金4774 41万元。</p><p>15、光刻设备产生的铬版缺陷介绍 光刻机产生的缺陷分类 位置精度总长超标正交精度超标线条质量接口Stitching超标错位线边波浪黑线最小图形能力方角不锐圆弧度太差其他多余图形图形丢失死机 Stitching的由来 光刻机的曝光。</p><p>16、十三章 光刻II 光刻机和光掩膜版 十三章 光刻II 光刻机和光掩膜版 前几章讲述了光刻胶材料的性质和工艺技术。 在这一章里， 我们介绍如 何将图形转移到硅片表面上，包括以下内容：a)将图形投影到硅片表面的装 置（即。</p>