企业培训_光刻机简单介绍

光刻机简单介绍 郑鸿光2012 09 01 目录 1 发展史2 光刻机概述3 光刻机构造4 相关技术 光刻机发展过程 1 接触式光刻机2 接近式光刻机3 投影式光刻机4 扫描式光刻机5 步进式光刻机6 步进扫描式光刻机 光刻教育资料 光刻Team 4 光刻机概述 一 腔体 CHAMBER 主体 MAINBODY 传片单元 WAFERLOADER 上版单元 RETICLELOADER 照明系统 ILLUMINATION 工作台 WAFERSTAGE 控制柜 CONTROLRACK 光刻教育资料 光刻Team 5 光刻设备概述 二 微细加工技术的核心 是微细光刻技术 主要有光学曝光 电子束曝光 X射线曝光 离子束曝光 目前生产上大量采用的是光学曝光技术 Nikon光刻机 重复步进式光刻机 NSR 光刻教育资料 光刻Team 6 NSR 2205i12C NSR為 NikonStepandRepeatexposuresystems 的略称 表示最大曝光範囲 200為正方形 20 0mm的曝光範囲 表示投影鏡頭的投影倍率 5是表示将Reticle上的図形以1 5倍投影到Wafer上 表示曝光光波長 i是表示使用由超高圧水銀灯発出的光中的i線 表示NSR本体的型式名 此数字越大意味着是越新模型的NSR 表示投影鏡頭的型式 同様的 20mm1 5倍 使用i線的鏡頭中 以A或B等進行区別 光刻教育资料 光刻Team 7 光刻机 光刻机 采用重复步进的方式将掩膜版 Reticle 的图形以5 1的比例转移到硅片 Wafer 上 光刻教育资料 光刻Team 8 光刻机基础 光刻机曝光光源为超高压水银灯 高压水银灯光线组成 光刻教育资料 光刻Team 9 光学基础知识 i线 波长 365nmg线 波长 436nm波长越长频率越低i g 光刻教育资料 光刻Team 10 光刻机整体构造 光刻教育资料 光刻Team 11 光学系构造 RA E HgLAMP M1 M2 S I MF SF C F R1 R2 B MC ML 光刻教育资料 光刻Team 12 光刻机构造 干涉滤光镜 玻璃衬底上涂一层半透明金属层 接着涂一层氟化镁隔层 可以减少镜头界面对射入光线的反射 减少光晕 提高成像质量 再涂一层半透明金属层 两金属层构成了法布里 珀罗标准具的两块平行板 当两极的间隔与波长同数量级时 透射光中不同波长的干涉高峰分得很开 利用别的吸收型滤光片可把不允许透过的光滤掉 从而得到窄通带的带通滤光片 其通频带宽度远比普通吸收型滤光片要窄 光刻教育资料 光刻Team 13 光刻机构造 复眼lens 1 有多个具有共焦面小凸透镜组成 2 为了确保照度 均一性 reticle 光刻教育资料 光刻Team 14 光刻机构造 SHUTTERUNIT 位置 光路焦点处 结构 马达 直流 计数器扇叶 计数器 马达 扇叶 功能 开曝光闭掩膜版对准 ISS 光刻教育资料 光刻Team 15 光刻机构造 Stageunit 1 防震台 YSTAGE XSTAGE ZSTAGE TSTAGE LEVELINGSTAGE WAFERHOLDER WAFER 主视结构图 光刻教育资料 光刻Team 16 光刻机构造 STAGEUNIT 2 Motor Fiducialmark FC2mark 移动镜 Waferholder Wafer Illuminationuniformitysensor Monitor 插槽 定位块 光刻教育资料 光刻Team 17 光刻机构造 Stageunit 3 光刻教育资料 光刻Team 18 工作台定位 HP干涉计 光刻教育资料 光刻Team 19 工作台定位 HP干涉计 在氦氖激光器上 加上一个约0 03特斯拉的轴向磁场 由于塞曼分裂效应和频率牵引效应 激光器产生1和2两个不同频率的左旋和右旋圆偏振光 经1 4波片后成为两个互相垂直的线偏振光 再经分光镜分为两路 一路经偏振片1后成为含有频率为f1 f2的参考光束 另一路经偏振分光镜后又分为两路 一路成为仅含有f1的光束 另一路成为仅含有f2的光束 当可动反射镜移动时 含有f2的光束经可动反射镜反射后成为含有f2 f的光束 f是可动反射镜移动时因多普勒效应产生的附加频率 正负号表示移动方向 多普勒效应是奥地利人C J 多普勒提出的 即波的频率在波源或接受器运动时会产生变化 这路光束和由固定反射镜反射回来仅含有f1的光的光束经偏振片2后会合成为f1 f2 f 的测量光束 测量光束和上述参考光束经各自的光电转换元件 放大器 整形器后进入减法器相减 输出成为仅含有 f的电脉冲信号 经可逆计数器计数后 由电子计算机进行当量换算 乘1 2激光波长 后即可得出可动反射镜的位移量 光刻教育资料 光刻Team 20 工作台定位 移动境 固定境 通过移动境 固定境反射后的光线 形成干涉光 被检知器检知 光刻教育资料 光刻Team 21 光刻机构造 LENSCONTROLLER 镜头控制器 简称LC 对镜头倍率及焦点进行控制的关键部件 构成 控制基版BELLOWSPUMPLENSTEM SENSOR压力计等 光刻教育资料 光刻Team 22 LC倍率控制的实现 reticle 压力调节机构 lens wafer A B A室与大气相连 B室气压可以调节 通过改变B室气压 从而改变其折射率使倍率进行实时追踪A室中集中了大部分光学镜头 光刻教育资料 光刻Team 23 LC与AUTOFOCUS的关系 Lens lamp reticle wafer detect Slit Halvingglass Lens的实际焦点随着B室气压的变化实时在变化 Autofocus系统实现z工作台与lens焦点的追踪 vibrator up down 光刻教育资料 光刻Team 24 光刻机 相关特性参数 1 数值孔径 numericalaperture N A 2 分辨率 resolvingpower 3 焦点深度 depthoffocus 光刻教育资料 光刻Team 25 数值孔径 数值孔径 N A 物镜 焦点 N A N sin N 折射率 折射角 光刻教育资料 光刻Team 26 分辨率 R 分辨率 R衡量物镜的一个重要指标 与数值孔径有关 数值孔径越大 分辨率越高 R k N A K与光刻胶相关的常数 使用光的波长N A 镜头的数值孔径 光刻教育资料 光刻Team 27 焦点深度 DOF 焦点深度 即焦深 即焦点的有效曝光深度 DOF K N A K与光刻胶有关的常数 使用光的波长N A 镜头的数值孔径 光刻教育资料 光刻Team 28 分辨率 焦深 NA关系 d1 d2 d3 较好的焦深 较差的焦深 d3 d4焦深 d1 d4 如果d1 d2 则d3 d4 lens lens 光刻教育资料 光刻Team 29 离轴照明 在采用离轴照明的曝光系统中 掩模上的照明光线都与投影物镜主光轴有一定的夹角 入射光经掩模发生衍射 左侧光源的0级 1级衍射光与右侧光束的 1级 0级衍射光参与成像 环形照明 四极照明和二极照明都属于离轴照明方式 光刻教育资料 光刻Team 30 离轴照明的优点 1 离轴照明可以提高分辨率 2 离轴照明可以提高焦深 3 离轴照明可以提高对比度 我们考虑掩模图形为一维密集线条的光栅 同轴照明 1级以及更高阶衍射光都被物镜的光阑遮挡 只有0级衍射光进入物镜 离轴照明 0级衍射光和1级衍射光都可能进入成像系统的光瞳 R同轴 3NAR离轴 4NA从信息光学的观点看 掩模图形经投影物镜成像时 由于投影物镜的数值孔径有限 高频部分不能进入光瞳 对成像无贡献 使硅片面上的掩模像的对比度降低 影响成像质量 由于0级衍射光不包含掩模图形的任何空间调制信息 所以要对掩模图形成像 至少要包含1级衍射光 在投影曝光系统中 掩模图形的空间像的对比度依赖于投影物镜中参与成像的1级衍射光的比例 离轴照明技术通过降低成像光束中的低频成分来提高高频成分在总光强中的比例 从而提高了空间像的对比度 光刻教育资料 光刻Team 31 掩膜版对准系统 一 以shutter反射的E线光源作为对准光源 将掩膜版对准MARK与工作台上基准MARK进行对准 对准过程复杂 精度要求高 对准的后