纳米科技导论-5-纳米材料

纳米科技导论-5-纳米材料Tag内容描述：<p>1、纳米材料应用,目前IC行业硅表面超微图形加工技术,涂光致抗蚀剂,曝光,显影,腐蚀,去胶,光刻 技术,当前的光刻技术，采用193nm曝光波长，可实现大于100nm线宽的图形。下一代光刻技术，*157nm曝光，小于50nm线宽图形。再下一代光刻技术，*126nm曝光。,* 157nm曝光技术研究单位:德国的Carl Zeiss公司美国的劳伦斯利弗莫尔国家实验室、SVGL公司 日本的尼康公司荷兰的ASML公司,* 126nm曝光技术研究单位:德国的Carl Zeiss公司美国的劳伦斯利弗莫尔国家实验室,光刻技术IC产业的关键技术,STM 技术在Si(111)面上形成的“中国”字样。最邻近硅原子间的。</p><p>2、纳米材料应用,目前IC行业硅表面超微图形加工技术,涂光致抗蚀剂,曝光,显影,腐蚀,去胶,光刻技术,当前的光刻技术，采用193nm曝光波长，可实现大于100nm线宽的图形。下一代光刻技术，*157nm曝光，小于50nm线宽图形。再下一代光刻技术，*126nm曝光。,*157nm曝光技术研究单位:德国的CarlZeiss公司美国的劳伦斯利弗莫尔国家实验室、SVGL公司日本的尼康公司荷兰的。</p><p>3、纳米材料应用 目前IC行业硅表面超微图形加工技术 涂光致抗蚀剂 曝光 显影 腐蚀 去胶 光刻技术 当前的光刻技术 采用193nm曝光波长 可实现大于100nm线宽的图形 下一代光刻技术 157nm曝光 小于50nm线宽图形 再下一代光刻技术 126nm曝光 157nm曝光技术研究单位 德国的CarlZeiss公司美国的劳伦斯 利弗莫尔国家实验室 SVGL公司日本的尼康公司荷兰的ASML公司 126。</p><p>4、纳米材料应用,目前IC行业硅表面超微图形加工技术,涂光致抗蚀剂,曝光,显影,腐蚀,去胶,光刻技术,当前的光刻技术，采用193nm曝光波长，可实现大于100nm线宽的图形。下一代光刻技术，*157nm曝光，小于50nm线宽图形。再下一代光刻技术，*126nm曝光。,*157nm曝光技术研究单位:德国的CarlZeiss公司美国的劳伦斯利弗莫尔国家实验室、SVGL公司日本的尼康公司荷兰的。</p><p>5、纳米材料,主要内容,二、磁性纳米材料,一、纳米材料和纳米技术简介,三、碳纳米材料,四、简单介绍纳米材料在各领域中的应用,什么是纳米,纳米是一个长度计量单位，1纳米=10-9米。,一、纳米材料和纳米技术简介,？,千米米厘米毫米微米纳米103110-210-310-610-910倍左右原子大小，万分之一头发粗细（几十微米）,Howsmallis1nanometer?,头发,生活中的纳米。</p>