气相沉积技术

气相沉积技术Tag内容描述：<p>1、西北工业大学材料学院 表面工程技术 1 3 物理气相沉积 3.1 概述 气相沉积过程： 1、供给气相膜料 2、膜料的输运 3、薄膜的形成 膜料输运到基片（衬底、基底、基体）上后沉积下来形成薄膜。 气相沉积分类： 1、物理气相沉积（PVD，Physical Vapor Deposition） 2、化学气相沉积（CVD，Chemical Vapor Deposition） PVD：沉积过程中沉积粒子通过蒸发、溅射等物理过程获得。 1、真空蒸镀 2、溅射镀膜 3、离子镀 CVD：气态物质在衬底表面发生化学反应，从而在衬底表面上生成所要的膜层。沉积过程中沉积 粒子来源于化合物的气相分解反应。 3.2 。</p><p>2、物理气相沉积技术 第八章 低维材料 z定义：二维、一维和零维材料，统称低维材料。 z二维材料：是指当材料的任一维度，如Z方向的尺寸小到纳米量级 ，则此材料就成为X，Y方向延展的二维材料。 薄膜材料(纳米薄膜） z一维材料：当材料在Z方向缩小的同时，Y方向也缩小到纳米尺度 。又称量子线，纳米管 z零维材料：当材料在X，Y，Z方向上的尺寸都缩小到纳米量级。 纳米粉体材料 PVD是制备低维材料的手段，特别是薄膜材料！ What is the Deposition? Gas Liquid Solid Condensation Vaporization Deposition Freezing Melting Sublimation 薄膜。</p><p>3、集成电路制造技术 第五章 物理气相淀积 西安电子科技大学 微电子学院 戴显英 2010年3月 第五章 物理气相淀积 nPVD：physical vapor deposition n淀积特点：物理过程； n技术： 蒸发：早期工艺制备金属薄膜； 溅射：已取代蒸发。 5.1 真空蒸发的基本原理 n材料的三态：solid，liquid，gas； n蒸气：任何温度下，材料表面都存在自身的气体； n蒸气压：平衡时的饱和蒸气压； n升华：低于熔化温度时，产生蒸气的过程； n蒸发：熔化时，产生蒸气的过程； n真空蒸发： 利用蒸发材料熔化时产生的蒸气进行薄膜淀积； 优点：工艺及设备简单，淀积速。</p><p>4、中国石油大学(华东),气相沉积技术,专业班级：材料物理081-3开课单位：材料物理系任课教师：韩治德,上次课主要内容回顾,高能束表面改性特点11五种激光表面处理工艺11三种高能束表面改性的特点比较离子注入概念11表面扩渗11、表面淬火热处理、高密度太阳能表面处理11、表面形变强化的概念,日常所见的器具,门把手,门把手,玩具,奖杯,精美的刀叉,精美的刀叉,气相沉积技术概述,薄膜制备技术之一，利用气相。</p><p>5、10 气相沉积技术,教学目的和要求,学习蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀膜、化学气相沉积等气相沉积技术的基本原理、主要特点、常见方法(技术种类)，薄膜的形成过程等。 重点掌握各种气相沉积技术的基本原理、主要特点。 参考书： 杨邦朝、王文生，薄膜物理与技术，电子科技大学出版社，1994,前言,一、薄膜材料的定义及分类 二、薄膜技术(材料)的作用 三、薄膜技术的发展 四、薄膜材料的制备方法 五、真空基础,一、薄膜材料的定义及分类,1、定义 膜（材料）：其一维线性尺度远远小于其他二维尺度的固体或液体（材料）。（二维材料） 厚膜：厚度1。</p><p>6、第7章气相沉积技术 第一节概述 气相沉积技术是利用气相之间的反应 在各种材料或制品表面沉积单层或多层薄膜 从而使材料或制品获得所需的各种优异性能 气相沉积技术 物理气相沉积 PVD 分类 化学气相沉积 CVD 1 1 物理。</p><p>7、1 第七章气相沉积技术 19世纪末 德国的Erlwein等利用化学气相沉积 简称CVD 在氢气的参与下 用挥发性的金属化合物与碳氢化合物反应 在白炽灯丝上形成TiC 后来Arkel和Moors等又分别报道了在灯丝上用CVD制取高熔点碳化。</p><p>8、物理气相沉积(PVD)，1。物理气相沉积的概念。物理气相沉积的基本过程。物理气相沉积的分类。蒸发涂层。溅射涂层6。离子镀，1。物理气相沉积的概念，物理气相沉积，PVD)是指在真空条件下将材料源(固体或液体表面)蒸发成气体原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)工艺在衬底表面沉积具有特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积技术的基本过程，从原料中发射粒子(通过蒸发、升华、溅射和分解等。。</p>