标准解读

《GB/T 11498-2018 半导体器件 集成电路 第21部分:膜集成电路和混合膜集成电路分规范(采用鉴定批准程序)》相比于《GB/T 11498-1989》,主要在以下几个方面进行了更新与调整:

  1. 技术内容的更新:新标准根据近三十年来半导体技术和材料科学的进步,对膜集成电路和混合膜集成电路的技术要求、测试方法及质量评定准则进行了全面修订,以适应当前行业技术水平和市场需求。

  2. 标准结构优化:2018版标准对标准的结构进行了重新组织,使之更加清晰、逻辑性更强,便于使用者理解和执行。增加了对新分类产品的定义和描述,删除了已过时或不再适用的内容。

  3. 测试方法的改进:引入了更先进的测试手段和评估方法,提高了测试精度和效率。对关键性能参数的测量方法给出了详细指导,确保产品性能的一致性和可靠性。

  4. 质量控制加强:新标准加强了生产过程中的质量控制要求,明确了从原材料选择到成品检验的全过程控制措施,以及不合格品的处理流程,提升了产品质量管理体系的标准。

  5. 环境保护与安全要求:考虑到环境保护和生产安全的重要性,2018版标准加入了环保材料使用和生产安全的相关要求,鼓励采用绿色制造工艺,减少对环境的影响。

  6. 国际接轨:为促进国际交流与贸易,新标准尽可能地与国际标准接轨,参考并采纳了相关国际标准中的先进理念和要求,提高了我国半导体器件在全球市场的竞争力。

  7. 采用鉴定批准程序:特别指出该标准中包含了采用鉴定批准程序的具体规定,这意味着产品需经过严格的鉴定和批准流程,以确保其符合规定的性能指标和质量要求,增强了标准的权威性和执行力。


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  • 现行
  • 正在执行有效
  • 2018-12-28 颁布
  • 2019-07-01 实施
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GB∕T 11498-2018 半导体器件 集成电路 第21部分:膜集成电路和混合膜集成电路分规范(采用鉴定批准程序)_第1页
GB∕T 11498-2018 半导体器件 集成电路 第21部分:膜集成电路和混合膜集成电路分规范(采用鉴定批准程序)_第2页
GB∕T 11498-2018 半导体器件 集成电路 第21部分:膜集成电路和混合膜集成电路分规范(采用鉴定批准程序)_第3页
GB∕T 11498-2018 半导体器件 集成电路 第21部分:膜集成电路和混合膜集成电路分规范(采用鉴定批准程序)_第4页

文档简介

ICS31200L57 .中 华 人 民 共 和 国 国 家 标 准 GB/T114982018/IEC60748-211997 代替 : GB/T114981989 半导体器件 集成电路 第21部分 : 膜集成电路和混合膜集成 电路分规范 采用鉴定批准程序 ( ) SemiconductordevicesInteratedcircuitsPart21 g : Sectionalspecificationforfilmintegratedcircuitsandhybridfilm integratedcircuitsonthebasisofthequalificationapprovalprocedures (IEC60748-21:1997,IDT)2018-12-28发布 2019-07-01实施 国 家 市 场 监 督 管 理 总 局 发 布 中国国家标准化管理委员会 GB/T114982018/IEC60748-211997 : 前 言 半导体器件 集成电路 已经或计划发布以下部分 : 半导体器件 集成电路 第 部分 总则 GB/T164641996 1 : (idtIEC60748-1:1984) 半导体器件 集成电路 第 部分 数字集成电路 GB/T175741998 2 : (idtIEC60748-2: 1985) 半导体器件 集成电路 第 部分 模拟集成电路 GB/T179402000 3 : (idtIEC60748-3: 1986) 半导体器件 集成电路 第 部分 接口集成电路 第一篇 线性数 GB/T18500.12001 4 : : 字 模拟转换器 空白详细规范 / (DAC) (idtIEC60748-4-1:1993) 半导体器件 集成电路 第 部分 接口集成电路 第二篇 线性模 GB/T18500.22001 4 : : 拟 数字转换器 空白详细规范 / (ADC) (idtIEC60748-4-2:1993) 半导体器件 集成电路 第 部分 半定制集成电路 GB/T205152006 5 : (idtIEC60748-5) 半导体器件 集成电路 第 部分 半导体集成电路分规范 不包括混 GB/T127502006 11 : ( 合电路 )(idtIEC60748-11:1990) 膜集成电路和混合膜集成电路总规范 GB/T89761996 (idtIEC60748-20:1988) 半导体器件 集成电路 第 部分 膜集成电路和混合膜集成电路分 GB/T114982018 21 : 规范 采用鉴定批准程序 ( )(IEC60748-21:1997,IDT) 半导体器件 集成电路 第 部分 膜集成电路和混合膜集成电路 GB/T130622018 21-1 : 空白详细规范 采用鉴定批准程序 ( )(IEC60748-21-1:1997,IDT) 膜 集 成 电 路 和 混 合 膜 集 成 电 路 分 规 范 采 用 能 力 批 准 程 序 GB/T164651996 ( )(idt IEC60748-22) 膜集成电路和混合膜集成电路空白详细规范 采用能力批准程序 GB/T164661996 ( )(idt IEC60748-22-1) 本部分为 半导体器件 集成电路 的第 部分 21 。 本部分按照 给出的规则起草 GB/T1.12009 。 本部分代替 膜集成电路和混合膜集成电路分规范 采用鉴定批准程序 与 GB/T114981989 ( ), 相比主要技术变化如下GB/T114981989 : 试验程序由一个鉴定程序扩展为程序 和程序 两个鉴定程序 A B 。 本部分使用翻译法等同采用 半导体器件 集成电路 第 部分 膜集成电路 IEC60748-21:1997 21 : 和混合膜集成电路分规范 采用鉴定批准程序 ( )。 本部分做了下列编辑性修改 : 原文为 以逐批和周期试验为基础的鉴定批准程序见表 和表 或表 和表 有误 现改 IEC “ 2 3 6 7” , 为 以逐批和周期试验为基础的质量一致性检验程序见表 和表 或表 和表 见 “ 2 3 6 7”( 3.2); 原文为 评定水平应从表 或表 和表 或表 中选取 有误 改为 评定水平应从表 或 IEC “ 2 6 3 2 ” , “ 2 表 和表 或表 中选取 见 6 3 7 ”( 3.3); 表 的 分组试验后 增加脚注 建议试验后进行终点电测试 见表 3b C2、C3、C4、D1 , , ( 3b)。 表 中 分组可焊性试验原文为 即非破坏性 有误该项试验性质为破坏性 因此改为 5 1.2 “ND” , , 见表 “D”( 5)。 请注意本文件的某些内容可能涉及专利 本文件的发布机构不承担识别这些专利的责任 , 。 GB/T114982018/IEC60748-211997 : 本部分由中华人民共和国工业和信息化部提出 。 本部分由全国半导体器件标准化技术委员会 归口 (SAC/TC78) 。 本部分起草单位 中国电子科技集团公司第四十三研究所 中国电子技术标准化研究院 : 、 。 本部分主要起草人 冯玲玲 陈裕焜 雷剑 王琪 王婷婷 管松林 : 、 、 、 、 、 。 本部分所代替标准的历次版本发布情况为 : GB/T114981989。 GB/T114982018/IEC60748-211997 : 半导体器件 集成电路 第21部分 : 膜集成电路和混合膜集成 电路分规范 采用鉴定批准程序 ( )1 范围和目的 半导体器件 集成电路 的本部分适用于作为目录内电路或定制电路而制造的 其质量是以鉴定 、 批准为基础评定的膜集成电路和混合膜集成电路 。 本部分的目的是为额定值和特性提供优先值 从总规范中选择合适的试验和测量方法 并且给出根 , , 据本部分制定的膜集成电路和混合膜集成电路详细规范使用的通用性能要求 。 优先值的概念直接应用于目录内电路 但是不必应用于定制电路 , 。 参照本部分制定的详细规范所规定的试验严酷等级和要求可等于或高于分规范的性能水平 不准 , 许有更低的性能水平 。 同本部分相联系的有一个或多个空白详细规范 每个空白详细规范均给以编号 按照 规定填 , 。 2.3 写空白详细规范 即构成一个详细规范 按 体系的规定 该类详细规范可用于膜集成电路和混合 , 。 IECQ , 膜集成电路鉴定批准的授与和质量一致性检验 。 注 对于试验程序有两个选择 程序 和程序 但是不准许在程序 和程序 之间进行个别试验项目的调换 : : A B。 A B 。 通常 程序 更适用于基于无源元件的膜集成电路 程序 更适用于基于半导体集成电路技术的膜集成电路 , A , B 。2 总则 优先特性 额定值和环境试验严酷等级 、 、21 规范性引用文件 . 下列文件对于本文件的应用是必不可少的 凡是注日期的引用文件 仅注日期的版本适用于本文 。 , 件 凡是不注日期的引用文件 其最新版本 包括所有的修改单 适用于本文件 。 , ( ) 。 电阻器和电容器优先数系 GB/T24711995 (idtIEC60063:1963) 膜集成电路和混合膜集成电路总规范 GB/T89761996 (idtIEC60748-20:1988) 半导体器件 集成电路 第 部分 膜集成电路和混合膜集成电路总规 IEC60748-20-1:1994 20-1 : 范 第 部分 内部目检要求 1 : (SemiconductordevicesIntegratedcircuitsPart20:Genericspecifica-tionforfilmintegratedcircuitsandhybridfilmintegratedcircuitsSection1:Requirementsforinter-nalvisualexamination )22 优先额定值和特性 . 电压和电流应选 用 中 给 出 的 优 先 值 电 阻 器 和 电 容 器 应

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