标准解读
《GB/T 37051-2018 太阳能级多晶硅锭、硅片晶体缺陷密度测定方法》是一项国家标准,主要针对太阳能级多晶硅锭和硅片中晶体缺陷密度的测量方法进行了规定。该标准适用于评估太阳能级多晶硅材料的质量,特别是对于晶体缺陷如位错等微观结构不完美性的定量分析。
根据此标准,晶体缺陷密度指的是单位体积内存在的晶体缺陷数量。这些缺陷可能包括但不限于位错、堆垛层错以及其他类型的点缺陷或线缺陷。准确测定这些缺陷的数量对于理解材料性能及其对最终光伏器件效率的影响至关重要。
在具体操作上,《GB/T 37051-2018》提供了详细的步骤来指导如何准备样品、选择适当的测试设备(如扫描电子显微镜SEM)、设置实验参数以及进行数据分析。此外,还明确了不同类型缺陷识别的标准,并给出了计算缺陷密度的方法。通过遵循这些指南,可以确保不同实验室之间获得一致且可比的结果,从而提高行业内的标准化水平。
该文件强调了正确处理样品的重要性,包括切割、抛光及清洗过程中的注意事项,以避免引入额外的人为损伤或污染。同时,也提到了关于数据记录与报告格式的具体要求,旨在促进信息交流的一致性和透明度。
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- 现行
- 正在执行有效
- 2018-12-28 颁布
- 2019-04-01 实施
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文档简介
ICS29045H 80 .中 华 人 民 共 和 国 国 家 标 准 GB/T370512018 太阳能级多晶硅锭 硅片晶体 、 缺陷密度测定方法 Testmethodfordeterminationofcrystaldefectdensityin PVsiliconingotandwafer2018-12-28发布 2019-04-01实施 国 家 市 场 监 督 管 理 总 局 发 布 中国国家标准化管理委员会GB/T370512018 目 次 前言 范围1 1 规范性引用文件2 1 方法概要3 1 试剂和材料4 1 仪器和设备5 2 试样制备6 2 测试步骤7 2 数据处理8 4 精密度9 5 干扰因素10 5 报告11 6 GB/T370512018 前 言 本标准按照 给出的规则起草 GB/T1.12009 。 本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会 归口 (SAC/TC203) 。 本标准起草单位 英利集团有限公司 中国电子技术标准化研究院 江西赛维 太阳能高科技 : 、 、 LDK有限公司 泰州中来光电科技有限公司 晋能清洁能源科技有限公司 镇江仁德新能源科技有限公司 天 、 、 、 、津英利新能源有限公司 。 本标准主要起草人 李锋 李英叶 段青春 张伟 吴翠姑 冯亚彬 裴会川 程小娟 唐骏 : 、 、 、 、 、 、 、 、 。 GB/T370512018 太阳能级多晶硅锭 硅片晶体 、 缺陷密度测定方法1 范围 本标准规定了太阳能级多晶硅锭 硅片的晶体缺陷密度测定方法 包含方法概要 试剂和材料 仪器 、 , 、 、 和设备 试样制备 测试步骤 数据处理 精密度 干扰因素和报告 、 、 、 、 、 。 本标准适用于太阳能级多晶硅锭 硅片晶体缺陷密度的测定 、 。2 规范性引用文件 下列文件对于本文件的应用是必不可少的 凡是注日期的引用文件 仅注日期的版本适用于本文 。 , 件 凡是不注日期的引用文件 其最新版本 包括所有的修改单 适用于本文件 。 , ( ) 。 测量方法与结果的准确度 正确度和精密度 第 部分 确定标准测量方 GB/T6379.22004 ( ) 2 : 法重复性与再现性的基本方法 洁净室及相关受控环境 第 部分 空气洁净度等级 GB/T25915.12010 1 : 太阳能级铸造多晶硅块 GB/T29054 太阳电池用多晶硅片 GB/T29055 3 方法概要 用硝酸 氢氟酸混合液对硅片表面进行化学抛光 再使用重铬酸钾 氢氟酸混合液腐蚀硅片 硅晶体 、 , 、 , 缺陷被优先腐蚀 使用显微镜观察试样腐蚀表面 可观察到硅片的晶体缺陷特征并对缺陷计数 , , 。 通过对不同位置的硅锭取样硅片样片 测量得到不同部位硅片样片的晶体缺陷密度 其最终结果可 , , 以表征硅锭的晶体缺陷密度 。4 试剂和材料 41 重铬酸钾 分析纯 . : 。42 氢氟酸 质量分数 电子级 . : 40%, 。43 硝酸 质量分数 电子级 . : 65%, 。44 化学腐蚀抛光液 V氢氟酸 V硝酸 . : =14。45 去离子水 电导率小于或等于 . : 1S/cm。46 无水乙醇 密度 分析纯 . : 0.79g/mL, 。47 重铬酸钾溶液 质量浓度 称取 重铬酸钾置于烧杯中 用去离子水完全溶解后 移入 . : 44g/L。 44g , , 容量瓶中 用去离子水稀释至刻度 混匀1000mL
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