标准解读

《YS/T 893-2013 电子薄膜用高纯钛溅射靶材》是一项针对用于制造电子薄膜的高纯度钛溅射靶材的技术标准。该标准详细规定了此类材料的技术要求、试验方法、检验规则以及包装、标志、运输和贮存等方面的内容。

在技术要求方面，明确了靶材的化学成分、物理性能等关键指标。对于化学成分，主要关注的是杂质元素的最大允许含量，以保证钛材料具有足够的纯度；而物理性能则包括密度、硬度等参数，这些都直接影响到最终电子薄膜的质量与性能。此外，还对靶材的外观质量提出了具体要求，比如表面应无裂纹、气孔等缺陷，确保其能够满足后续加工工艺的需求。

试验方法部分，则提供了测定上述各项性能指标的具体操作步骤和技术手段。例如，通过电感耦合等离子体发射光谱法（ICP-OES）来检测化学成分；采用阿基米德原理测量体积并计算出密度值等。

检验规则中，则定义了产品出厂前必须进行的各项检查项目及其合格判定准则，并且说明了当出现争议时如何处理的方法。同时，也指出了型式检验与常规检验之间的区别及适用场合。

最后，在包装、标志、运输和贮存章节里，给出了关于如何妥善保护产品免受损坏的具体指导，比如使用何种材料进行包装，标签上需要包含哪些信息，以及在不同条件下存储时应注意的安全事项等。


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  • 现行
  • 正在执行有效
  • 2013-10-17 颁布
  • 2014-03-01 实施
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文档简介

ICS7715050 H 64 . . 中华人民共和国有色金属行业标准 YS/T8932013 电子薄膜用高纯钛溅射靶材 High-puritysputteringtitaniumtargetusedinelectronicfilm2013-10-17发布 2014-03-01实施 中华人民共和国工业和信息化部 发 布 YS/T8932013 前 言 本标准按照 给出的规则起草 GB/T1.12009 。 本标准由全国有色金属标准化技术委员 归口 (SAC/TC243) 。 本标准起草单位 有研亿金新材料股份有限公司 宁波江丰电子材料有限公司 : 、 。 本标准主要起草人 何 金 江 董 亭 义 袁 海 军 罗 俊 锋 滕 海 涛 喻 洁 贺 昕 钱 红 兵 周 辰 刘 丹 : 、 、 、 、 、 、 、 、 、 、陆灵芝 王学泽 熊晓东 、 、 。 YS/T8932013 电子薄膜用高纯钛溅射靶材1 范围 本标准规定了电子薄膜用高纯钛溅射靶材的要求 试验方法 检验规则和标志 包装 运输 贮存及 、 、 、 、 、 质量证明与合同 订单 等内容 ( ) 。 本标准适用于电子薄膜制造用的各类钛溅射靶材 。2 规范性引用文件 下列文件对于本文件的应用是必不可少的 凡是注日期的引用文件 仅注日期的版本适用于本文 。 , 件 凡是不注日期的引用文件 其最新版本 包括所有的修改单 适用于本文件 。 , ( ) 。 产品几何技术规范 表面结构 轮廓法 表面粗糙度参数及其数值 GB/T1031 (GPS) 海绵钛 钛及钛合金化学分析方法 氧量 氮量的测定 GB/T4698.7 、 、 海绵钛 钛及钛合金化学分析方法 碳量的测定 GB/T4698.14 、 海绵钛 钛及钛合金化学分析方法 氢量的测定 GB/T4698.15 、 金属平均晶粒度测定方法 GB/T6394 变形金属超声检验方法 GJB1580A 溅射靶材 背板结合质量超声波检验方法 YS/T837 - 高纯钛化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法 YS/T891 高纯钛化学分析方法 痕量杂质元素的测定 电感耦合等离子体质谱法 YS/T892 3 术语和定义 下列术语和定义适用于本文件 。31 . 靶材 target 在溅射沉积技术中的阴极部分 该阴极材料在带正电荷的阳离子撞击下以分子 原子或离子的形 。 、 式脱离阴极而在阳极表面沉积 。32 . 靶坯 targetblank 阴极上用作溅射材料的部分 。33 . 背板 backingplate 用来支撑或固定靶材的部分 靶坯与背板可以通过焊接 如钎焊 扩散焊等 机械复合 粘接等方 。 ( 、 )、 、 式
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