MR高分辨磁敏感加权成像在颅脑弥漫性轴索损伤中的应用价值+韩艳红+王梅云.ppt

3.0T MR高分辨磁敏感加权成像 在颅脑弥漫性轴索损伤 中的应用价值,河南省人民医院 韩艳红 王梅云,概要,背景与目的 材料和方法 结果 结论,研究背景,弥漫性轴索损伤（diffuse axonal injury, DAI），占重型颅脑损伤的28%50% 旋转、加速等外力作用，不同脑组织产生相对移位，致脑白质剪切伤，轴索断裂 颅脑外伤中最严重的一种原发性闭合脑损伤 死亡率和致残率很高 临床预后差,研究背景,以往DAI的诊断多依赖于临床症状 CT可显示弥漫性脑肿胀和出血灶 MR的应用，明显提高了病灶的检出率 影像学表现和临床症状严重程度不相符,磁敏感加权成像（SWI）,一种新的MR成像方法 采用高空间分辨率的3D梯度回波序列 不同组织间磁敏感度的差异 对血红蛋白、含铁血黄素等顺磁性的物质及铁沉积较敏感，能够检出脑内的微出血灶,研究目的,探讨高分辨SWI序列在颅脑弥漫性轴索损伤诊断中的价值 探讨SWI上病灶数目与患者临床预后的关系,概要,背景与目的 材料和方法 结果 结论,材料和方法,收集我院21例经临床确诊为DAI的患者 采用Siemens Magnetom Trio 3.0 T 扫描仪，头部12通道线圈 患者伤后的4h15天内行MRI常规序列和SWI扫描 格拉斯哥评分（Glasgow Coma Scale, GCS）评估病情,致伤原因,车祸伤（18例，占85.7%） 高处坠落伤（3例，占14.3%）,临床表现,不同程度的意识障碍 肢体感觉障碍 肢体运动功能障碍 合并伤：四肢骨折、截瘫、腹腔脏器损伤等,格拉斯哥评分（Glasgow Coma Scale, GCS）,DAI诊断标准,有明确的外伤史； 伤后立即出现昏迷； 非脑疝性瞳孔改变或眼球位置改变； 颅内压增高程度与临床病情严重程度不相符； CT/MR发现胼胝体、脑干、基底节、大脑半球皮髓质交界区、小脑、脑室等部位灶性损伤（包括出血性及非出血灶）或弥漫性脑肿胀,MRI常规扫描序列-SE（FSE）,T1WI T2WI FLAIR（液体衰减反转恢复序列）,多个180 脉冲的 聚相位作用,对由出血产物所导致的 磁敏感效应不敏感,对出血灶的检出率不高,磁敏感加权成像（SWI）,高分辨的、3D梯度回波序列 TR 30ms，TE 20ms，翻转角15 FOV 256mmx256mm，矩阵 256x512mm，层厚 2.0mm，层数：56层 SWI后处理技术：原始图像层厚2.0mm，采用3DMIP对所得磁矩图进行实时在线技术最小密度投影(minimalindensity Projection，MinIP)重建，层厚6.0mm,以保证病灶观测及测量的一致性,数据处理,对常规序列图像和处理后的SWI图像进行分析，包括病灶的形态、数目、部位及分布特点 采用SPSS17.0统计学软件对SWI和常规MRI（T1、T2、和FLAIR）对DAI病灶的检出率进行统计学分析， p0.05认为差异有统计学意义 SWI显示病灶数目与 GCS 相关性分析采用Pearson相关分析，p0.05认为差异有统计学意义,概要,背景与目的 材料和方法 结果 结论,结果 - 形态和分布,常规MR表现：21例病例显示脑内DAI的病灶多位于皮髓质交界区、基底节，呈散在分布，表现为大小不等的点、片状高或稍高信号影，病灶直径多2cm，边界尚清或欠清; FLAIR可发现T2WI为阴性的病灶 SWI表现：可见脑内皮髓质交界区、脑白质、基底节、脑干、小脑等部位散在分布的、大小不等的点状、串珠状、斑片状或团状低信号，边界清楚。 皮髓质交界区的病灶多呈斑点状或串珠状；脑白质和小脑病灶多呈团状、点片状或线状；基底节、脑干病灶多呈斑片或点状,女， 20岁 车祸伤后意识模糊 10h GCS 14分,同一 病 人,男，40岁 车祸伤后7h入院 头痛、烦躁5天 GCS 8分,同 一 病 人,男，13岁，车祸伤后1天入院，浅昏迷7天，GCS 10分,男 32岁 车祸伤后即昏迷7天 右侧瞳孔对光反射消失 GCS 5分,皮髓质交界区的病灶 斑点状或串珠状； 脑白质和小脑病灶 团状或点片状； 基底节、脑干病灶 斑片或点状,结果 - 数目,21例病例在MRI常规扫描上共检出183个病灶，而在SWI序列共检出467个病灶 常规序列以FLAIR序列检出最多，发现86个病灶，T1WI检出的数目最少，发现32个病灶 有些常规MR显示正常的部位，在SWI上有阳性发现,结果,21例病例显示的病灶明显多于常规MR (t = -2.210, p 0. 05). 两种序列检出DAI的部位和数目比较（见表1） GCS评分不同分级组的病灶数目比较，结果示：GCS评分8分组（6例）检出的病灶数目少于GCS8分组（15例）(t = 0.034 ，p 0. 05 )，随访发现预后较好。,结果,结果,概要,背景与