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文档简介
电子材料分析,一、光谱分析法 原子光谱分析: 原子发射(OES) 、 原子吸收(AAS)、原子荧光(AFS) 分子光谱分析: 紫外可见光光谱法(UV-Vis)、 红外光谱法(IR) 二、 X射线分析法 X线荧光光谱法XRF 电子探针微分析EPMA 三、 表面分析方法 俄歇电子能谱AES X线光电子能谱XPS 二次离子质谱SIMS,参考书:,1. 原子光谱 邱德仁,复旦大学出版社,2002年 2. 分光光度分析罗庆尧,科学出版社,1992年 3. X射线光谱分析谢忠信,科学出版社,1982年 4. 表面分析华中一,复旦大学出版社,1987年 5. 无机质谱概论赵墨田主编,化学工业出版社,2006年 6. Modern Methods for Trace Element Determination C.Vandecasteele and C.B.Block,一、学这门课的意义,课程性质:应用 了解原理、方法 应用这些方法解决实际问题。 应用实例: 1. 产品研发: 原材料 材料 工艺 元器件 系统 应用 2. 工业生产: 几亿-几十亿晶体管数/人 IC 光刻 20次 每次合格率99.9999% 最终合格率(99.9999%)20 3. 论文制作:引言 实验 测量与分析 结论,二、如何进行分析,E.B I.B L.B X.B IR Vis UV ,试 样,光谱,能谱,质谱,结构,得到有关样品组分、杂质、化学结构等信息,1,第一章 光学分析法引论,1.1 光辐射的性质 1.2 光学分析法及其分类 1.3 光谱分析法仪器,光学分析法,什么是光学分析法: 作用: 透射/ 吸收/发射/反射/折射/散射/衍射/干涉/偏振等,一、电磁辐射的性质,1、什么是电磁辐射?,电磁辐射的范围:射线无线电波,电磁辐射的范围:射线无线电波,电磁辐射的性质,2、电磁辐射是如何产生的? 以原子举例:,电磁辐射,是特有的,不遂传播介质而变化,同一原子有许多不同的能级,故可发射出许多不同频率、不同波长的谱线; 同种原子它有固定的能级,故发射出的谱线是有特征性的,从而从中可得到组成、结构等信息,这是光学分析法的定性基础,电磁辐射的性质 2. 电磁辐射的产生,3.电磁辐射的性质,(1)粒子性:描述光的个体行为。 原子有不同的分立的能级, 发射或吸收一个光子: E=h,单位:J,eV ; 电磁辐射的强度 与光子数有关 1 mol 物质: E=hNA 光学分析法的定量基础,电磁辐射,(2)波动性:主要描述光的集体行为, 如运动轨迹、传播方式 反射、折射、散射、干涉、衍射、偏振 4. 描述电磁辐射的参数: 周期 T(s); 频率: (s-1,Hz); 波长(nm、cm);波数: (cm-1); 速度 v(光速 c); 折射率,二、光学分析法及其分类 1.光学分析法:,9,光谱法仪器 光谱仪或分光光度计 组成:5个基本单元 光源(激发源)、单色器、吸收池(样品室)、检测器和 读出器件。,光学分析方法引论,10,光谱法仪器组成 (一)光源 要求:输出功率和稳定性 分类:连续光源:用于分子吸收光谱 (带光谱) 线光源:用于原子吸收、荧光和Raman光谱(线光谱) 1连续光源 (1) UV光源: 氢灯或氘灯,160375nm,强度氘灯比氢灯大35倍 (2) 可见光源: 钨丝灯3202500nm,氙灯 250700nm (3) IR光源:能恩斯特灯、硅碳棒(15002000K惰性固体,700-10000cm-1) 2线光源 (1) 金属蒸气灯:Hg/Na 特征线 254734nm/589.0 nm+589.6 nm (2) 空心阴极灯:元素特征线 (3) 激光:红宝石 693.4nm/He-Ne:632.8nm/Ar:514.5nm+488.0nm,3. 激发源:(发射光谱) 电弧、火花、等离子体,光学分析方法引论,光谱法仪器组成,(二)单色器 :(仪器的光学系统) 作用:将复合光 分解为 单色光 组成:入射/出射狭缝,准直镜,色散器(棱镜或光栅),1.棱镜根据光的折射现象进行分光,棱镜对不同波长的光具有不同的折射率,波长长的光,折射率小;波 长短的光,折射率大。 根据折射定律: 注:空气折射率为1 当复色光以同一入射角投射到棱镜时,出射的各波长光有了不同的偏向角,这种现象就称为色散。波长越短,色散角越大。色散后的光经聚焦在焦面上的不同位置上成像,获得按波长展开的光谱;,2.光栅根据光的干涉、衍射现象进行分光,在平板玻璃或金属板上刻划出一道道等宽、等间距、平行的刻痕。 常用光栅刻痕密度每毫米为1200条、1800条或2400条; 光栅光谱的产生是多狭缝干涉与单狭缝衍射共同作用的结果,前者决定光谱出现的位置,后者决定谱线强度分布;,光栅的色散原理,光栅公式:d (sinsin)=K,、为入射角和衍射角; K为光谱级次,K=0, 1, 2, 整数 d为光栅常数(mm):相邻两刻痕间的距离,即为光栅刻痕密度b(mm-1)的倒数; 为衍射光的波长,由光栅公式 d (sinsin)=K 可见: (1)当 d 、K 相同时,波长不同,衍射角不同,因此混合光发生色散。 其色散线波长排布由入射线异侧向同侧方向增长。 (2)k=0时,光栅不起色散作用。 (3)K不同, 不同,但 K 相同, 相同 谱线重叠, 需分离:用滤光片或棱镜预色散。 例:去除二级光谱对一级光谱重叠影响的滤光片 一级光谱 滤光片 185-380nm 空气吸收 360-660nm 无色光学玻璃 660-900nm 红色滤光片,光栅的闪耀特性,闪耀特性:将光栅刻痕刻成如下三角形的形状,光栅每个小工作面与光栅平面的夹角为,光栅工作面法线与光栅法线间的夹角也为 ,当某一波长的衍射角等于入射角等于时,此波长强度极大,附近波长范围的强度也较大,这种使光衍射能量集中衍射角附近的现象就称为光栅的闪耀特性。工作面与光栅面
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