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文档简介

MOSFETBasicCharacterization(MOS晶体管基本特性表征),WenyuGao2008/04/18,MOSFET的特性曲线与特征参数短沟效应(SCEmajority-carrier(多子),minority-carrier(少子).Accumulation(积累),depletion(耗尽),inversion(反型)。,N+poly,PW,e,e,e,+,h,h,h,NMOSFET,NMOSCapacitor,C-V特性曲线-cont1,Poly等效厚度与其掺杂浓度有关,一般Lmin器件便于电路设计;机理是Pocket注入和B横向扩散。SCEVth随沟道缩短而变小;机理是SDEpn结自建电场引起的耗尽层;SDE越深,SCE越严重;一般要求Vth(Lrule-1)/Vth(Lrule)90%。,CDctrl与短沟效应,SCE越小、CDctrl越好,Lg(nom)就可以越小,Idsat就可以更大。练习:一个产品的电路设计时器件尺寸选在Lg(nom)(绿园圈所示),红线工艺和黑线工艺比较,CDctrl一定,产品有何优点?蓝线工艺和红线工艺比较,CDctrl一定,产品有何优点?,Ioff限定时:Lg(nom)=Lg(min)+CDctrl,MOSFET的特性曲线与特征参数短沟效应(SCEDoublehump在衬底加压和高温下更加明显。

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