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變化量 時間 穿透式光學膜厚監控方式 變化量 時間 穿透式光學膜厚監控方式 A C B D 1 以光學膜厚來講 成膜時間與監控片變 化量成函數變化 蒸著電流固定情形下 A點至B點與C點至D點蒸著時間相同 但 變化量卻不同 2 以此圖穿透式光學膜厚監控方式來看 若此監控基板未曾使用的情形下 變化量 由基準點向正方向增加 代表藥材折射率 小於監控基板折射率 變化量由基準點向 負方向減少 代表藥材折射率大於監控基 板折射率變化量越大 代表藥材折射率與 監控基板折射率相差越大 例如 藥材ND為2 0與1 8作用於監控基板ND 1 5 1上 變化量往負方向減少 而ND 2 0的 變化量大於ND 1 8的藥材變化量 蒸著電 流 基準點 回頭點 1 基準點至回頭點的變化量為此藥材作 用於單一波長的折射率 2 固定電流的情形下 當給氧量增加 時 藥材折射率會變小 提早回頭 如圖 中紫色虛線 3 固定氧氣量的情形下 當電流減少 時 藥材折射率會變小 提早回頭 如圖 中紫色虛線 4 固定電流的情形下 當給氧量減少 時 藥材折射率會變大 較晚回頭 如圖 中綠色虛線 3 固定氧氣量的情形下 當電流增加 時 藥材折射率會變大 較晚回頭 如圖 中綠色虛線 氧氣增加或電流 減少 氧氣減少或電流 增加 變化量 時間 穿透式光學膜厚監控方式 正常回頭點 電流減少 電流增加 基準點 1 若氧氣量 環境及融藥手法無太大變化情形 下 當發現有回頭點的層回頭點提早時 代表無 回頭層也需鍍膜到右圖紫色虛線 若鍍成紅色 線 代表此層多鍍 可增加電流 讓有回頭層與 設計值吻合 如此 不至使第二層多做 1 以光學膜厚來講 成膜時間與監控片變 化量成函數變化 蒸著電流固定情形下 A點至B點與C點至D點蒸著時間相同 但 變化量卻不同 2 以此圖穿透式光學膜厚監控方式來看 若此監控基板未曾使用的情形下 變化量 由基準點向正方向增加 代表藥材折射率 小於監控基板折射率 變化量由基準點向 負方向減少 代表藥材折射率大於監控基 板折射率變化量越大 代表藥材折射率與 監控基板折射率相差越大 例如 藥材ND為2 0與1 8作用於監控基板ND 1 5 1上 變化量往負方向減少 而ND 2 0的 變化量大於ND 1 8的藥材變化量 1 基準點至回頭點的變化量為此藥材作 用於單一波長的折射率 2 固定電流的情形下 當給氧量增加 時 藥材折射率會變小 提早回頭 如圖 中紫色虛線 3 固定氧氣量的情形下 當電流減少 時 藥材折射率會變小 提早回頭 如圖 中紫色虛線 4 固定電流的情形下 當給氧量減少 時 藥材折射率會變大 較晚回頭 如圖 中綠色虛線 3 固定氧氣量的情形下 當電流增加 時 藥材折射率會變大 較晚回頭 如圖 中綠色虛線 變化量 時間 正常 電流減少 電流增加 基準點 1 若氧氣量 環境及融藥手法無太大變化情形 下 當發現有回頭點的層回頭點提早時 代
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