离子溅射仪和高真空镀膜机价格.docx

润联网 登录【润联网】查询价格离子溅射仪和高真空镀膜机价格标题:离子溅射仪ETD-2000和离子溅射仪ETD-900型价格库号：JX164033 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：仪器简介：本仪器主要适用于扫描电子显微镜样品镀膜导电膜(金膜),仪器操作简单方便, 是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。技术参数：1.靶（上部电极）：材料：金，直径：50mm，厚度：0.1mm纯度：99.999%2、真空室：直径：160mm，高：110mm3.样品台（下部电极）：溅射面积：直径：50mm4工作真空： 210-110-1 mbar5.离子电流表：最大电流：50mA6.计时器：根据溅射习惯设定单次溅射时间。7.最高电压：-1600DVC8.机械泵:2升/每秒9.工作室工作媒介气体：空气或氩气，10真空气阀： 配有氩气专用进气口和微量充气调节，可连接4*2.5mm软管。主要特点：轻便、溅射面积大 靶材可按用户要求加工制作标题:溅射蒸碳仪和高真空离子溅射仪参数库号：JX164034 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：ETD-2000C 溅射蒸碳仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。同时增加了热蒸发附件，具有溅射和蒸发两种功能。 满足电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备和非导体材料实验电极制作。特点：在 ETD-2000/3000 离子溅射仪基础上，增加了热蒸发附件，可以蒸发碳丝，具有溅射和蒸发两种功能。因此扩展了应用范围，特别适用于扫描电镜实验室样品制备。型号ETD-2000c仪器尺寸400mm300mm400mm（LWH）靶（上部电极）50mm0.1mm（DH）真空样品室硼硅酸盐玻璃 160mm110mm（DH）样品台50mm (D)操作真空410-1mbar至210-2mbar工作电压0-1600V (DC)可调溅射电流0-50mA溅射定时1-9999S蒸碳电流0-10A(AC)真空泵2升机械旋转泵标题:真空磁控离子溅射镀膜仪和小型高真空离子溅射仪价格库号：JX164035 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数： 高性能离子溅射仪系统是现阶段配套扫描电镜SEM，透射电镜TEM和电子探针最佳的配套前级样品处理系统以及均匀高质量的电极薄膜制备Cressington 108/108Auto离子溅射仪是用于电镜样品前处理，制作电极的最先进高质量的镀膜仪系统主要优势功能：自动的换气与泄气功能，可以得到一致的膜厚，和最佳的导电喷镀效果。通过高效低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程，避免样品表面受损。操作容易快捷，可全自动或手动进行喷镀操作，控制的参数包括自动放气以及氩气换气控制。在自动模式下，可通过两种方式进行控制镀膜过程。可通过数字显示器控制得到可重现的喷镀效果。可配备MTM-10高分辨膜厚监控仪（选件）(分辨率优于0.1nm，-99.9nm到+999.9nm)数字化的喷镀电流控制不受样品室内氩气压力影响，可得到一致的镀膜速率和最佳的镀膜效果。可使用多种金属靶材：Au， Au/Pd,，Pt,，Pt/Pd，靶材更换快速方便。技术规格：样品仓尺寸： 120 x 120mm（高） (4.75 x 4.75)，高强度不锈钢结构样品台：可放置12个标准SEM样品座，高度可在 60mm内调节溅标题:离子溅射仪ETD-900C型和高真空镀膜机价格库号：JX164036 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数： 150 T的机壳是整体成型的，结构坚固耐用，配有气冷的70L/S的涡轮分子泵，自动进气控制保证了溅射期间最佳的真空水平，真空腔室直径为165mm并带有防爆装置。150T具有“真空闭锁”功能，可在设备不工作时维持腔室的真空度，从而保证高真空的性能。150T系列全自动高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪给用户以类似傻瓜相机的简单操作、顶级的镀膜质量和对熟手/新手都很理想的用户界面，让用户真正领略至臻完美的镀膜品质！根据不同的应用方向，150T细分为三个型号：150TS：高分辨率溅射镀膜仪High Resolution Turbomolecular Pumped Sputter Coater，可溅射易氧化和不易氧化金属，可选各种溅射靶材，包括场发射电镜常用的铱和鉻。150TE：高真空镀碳仪，可制作高稳定的碳膜和表面覆形膜，是TEM应用最理想的选择。150TES：集合了离子溅射和热蒸镀两种真空沉积镀膜方式，镀膜标题:高真空离子溅射仪EMSQ150和离子溅射镀膜仪参数库号：JX164037 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数： ETD-2000型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备，非导体材料实验电极制作。特点：1. 配置有样品溅射室真空表和溅射电流表，用以指示、监控仪器状态；2. 溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体，获得最佳镀膜效果；3. 特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈，可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象；4. 陶瓷密封高压头比通常采用橡胶密封的更经久耐用；5. 根据电场中气体电离特性，采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶，使溅射镀层更均匀纯净。型号ETD-2000主机规格L360mm*W300mm*H380mm 靶（上部电极）金：直径：50mm，厚度：0.1mm真空样品室直径：160mm，高：120mm溅射面积50mm真空指示表最高真空度： 4X10-2 &nb标题:三靶射频磁控溅射镀膜仪和台式溅射仪参数库号：JX164038 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数： Features优势说明：源自1973年英国先进的电镜配套镀膜工艺，60多年专业技术及全球5000名科研工作者的信赖； 独特的受反馈控制的碳棒蒸发系统可以在膜厚为20nm左右进行多次蒸发，无须切削或调整碳棒形状；108C中使用的高纯碳棒可以在高倍下得到高质量的镀膜效果，以便进行电镜成像和能谱仪X射线EDS或EBSD分析； 使用新型的蒸发装置：电流和电压通过磁控头传感监控，蒸发源作为反馈回路一部分被控制，该蒸发装置使常规碳棒具有优良的镀膜稳定性和重现性； 自动模式下，蒸发源按程序设定进行镀膜，手动模式下，独特的设计允许以脉冲或连续方式操作，并通过旋钮控制输出电压样品仓尺寸120 mm x 120mm, 高强度不锈钢结构样品台可放置12个标准SEM样品座，高度可在 60mm内调节溅镀材料Bradley 型高纯度碳棒, 无需削减或调整溅镀优点基于微处理器反馈控制，远程电流/电压感应；提供真空安全联锁装置，最大180A，配有过流保护 模拟计量真空Atm - 0.001mb,电流: 0 - 200A 标题:真空磁控离子溅射镀膜仪和高真空镀膜机价格库号：JX164039 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：150R 型镀膜仪（真空镀膜仪/喷碳仪/蒸镀仪）采用最新技术研制而成，彩色触摸液晶屏，快速的参数输入，数种碳丝匹配，友好的用户界面，带给你不一般的操作感受！产品参数：仪器尺寸585mm(W) x 470mm(D) x 410mm(H)包装尺寸725mm W x 660mm D x 680mm H (36.8kg)工作腔室硼硅酸盐玻璃152mm (内直径)x 127mm H安全钟罩聚乙烯对苯二酸，柱形显示屏彩色液晶320 x 240用户界面直观的图形界面，触摸键。记忆功能：维护提醒及最后十个镀膜方案日志记录重量28.4Kg样品台直径为50 mm的旋转样品台，上有6个样品座，可配15mm, 10mm, 6.5mm或者3.1mm样本座，转速为8-20rpm真空泵Edwards RV3 50L/s两级真空泵，Pirani 真空计极限真空度洁净系统可达 2x10-2 mbar，充氮气喷镀真空范围3 x 10-2 -5 x 10-1mbar安培计碳绳：0-60 Amps，1.4mm 碳棒：1-90 Amps标题:高真空离子溅射仪EMSQ150和全自动磁控溅射系统NSC-3000(A)价格库号：JX164040 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：ETD-900C是一款具有溅射和蒸发两种功能的镀膜设备，由一台ETD900型溅射仪和一个蒸发电源箱及样品室蒸发上盖组成，由电缆将两个机箱中的控制部件连接起来，通过面板上的按键状态，经溅射机箱中的CPU判别操作项，以确定允许与否（具体操作见说明书）。设备使用简便，性能可靠，蒸发材料为碳绳，溅射材料为金、铂等。型号ETD-900c仪器尺寸400mm300mm400mm（LWH）靶（上部电极）50mm0.1mm（DH）真空样品室硼硅酸盐玻璃 160mm110mm（DH）样品台50mm (D)工作电压0-1200V (DC)可调溅射电流0-50mA溅射定时1-3600S蒸碳电流0-50A(AC)真空泵2升机械旋转泵标题:离子溅射仪ETD-2000和溅射仪参数库号：JX164041 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：主要优势功能：自动的换气与泄气功能，可以得到一致的膜厚，和最佳的导电喷镀效果。通过高效低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程，避免样品表面受损。操作容易快捷，可全自动或手动进行喷镀操作，控制的参数包括自动放气以及氩气换气控制。在自动模式下，可通过两种方式进行控制镀膜过程。可通过数字显示器控制得到可重现的喷镀效果。可配备MTM-10高分辨膜厚监控仪（选件）(分辨率优于0.1nm，-99.9nm到+999.9nm)数字化的喷镀电流控制不受样品室内氩气压力影响，可得到一致的镀膜速率和最佳的镀膜效果。可使用多种金属靶材：Au， Au/Pd,，Pt,，Pt/Pd，靶材更换快速方便。 技术规格：样品仓尺寸： 120 x 120mm（高） (4.75 x 4.75)，高强度不锈钢结构样品台：可放置12个标准SEM样品座，高度可在 60mm内调节溅镀优点：基于微处理器反馈控制，远程电流/电压感应；提供真空安全联锁装置，最大180A，配有过流保护溅射控制：微处理器控制，安全互锁，可调，最大电流40mA，程序化数字控制溅射头：低电压平面磁控管，靶材更换快速，环绕暗区护罩模拟计量：真空 标题:电镜专用高真空镀碳仪和小型高真空离子溅射仪价格库号：JX164042 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：仪器简介：ETD-2000/3000型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备，非导体材料实验电极制作。技术参数：配置参数如下： 1、靶（上部电极）：金：直径：50mm，厚度：0.12mm 2、真空样品室： 直径：160mm，高：120mm 3、溅射面积： 50mm，最大放置 4、真空指示表： 最高真空度： 4X10-2 mbar 5、离子电流表： 最大