图形发生器.doc

图形发生器21世纪是纳米科技时代，纳米加工是纳米科技的关键技术。中国科学院电工研究所自主开发的DY-2000A纳米通用图形发生器是纳米加工的重要装备。它可以配备到扫描电子显微镜（SEM）、聚焦离子束系统(FIB)和扫描探针显微镜（SPM）上，构建成纳米加工设备，进行纳米图形加工和纳米微结构制造。它适用于科研院所和高等院校的半导体、光电子、MEMS实验室。DY-2000A与高分辨率SEM、FIB等结合，可组成高分辨率专用电子束曝光机，用于小面积微纳米器件的研究。DY-2000A与高分辨率SEM光控制精密工件台结合，可组成高分辨率通用电子束曝光机，它不仅可用于微纳米器件的研究，而且还可以制作大面积掩模版和各类光栅。DY-2000A纳米通用图形发生器组成：l 高速数字信号处理器（DSP）l 高精度图形数据采集器l 先进、快速的SCSI接口l 带有温控的16位数模转换器（D/A）l 5”液晶跟踪显示器（LCD）l 控制用PC计算机（Windows操作系统）DY-2000A纳米通用图形发生器软件功能：l 接受GDS、CIF和DXF图形数据格式l 绘图功能（矩形、三角形、梯形、圆形、圆环、扇 形和任意曲线图形）l 加工过程控制（曝光、工件台移动、束闸通断）l 扫描场位置、尺寸和旋转修正l 标记检测与位置修正l 邻近效应修正l 加工过程跟踪显示DY-2000A纳米通用图形发生器由中国科学院电工研究所制造。我们愿意与广大纳米科技工作者共同开发和研究微纳加工中的各种技术问题，竭诚为客户服务。制造：中国科学院电工研究所地址：北京中关村北二条6号 100080联系人：智绪领电话AX：（8610）82620346E-mail:DY-9纳米电子束曝光系统21世纪是纳米科技时代，纳米加工是纳米科技的关键技术。电子束曝光是纳米图形加工的重要手段之一，也是目前最成熟的一种微纳图形加工方法。利用电子束直刻技术可以研究开发纳米量级半导体器件、光电子器件和微机电系统。电子束曝光技术还可以制作高精度掩模版和特种光栅器件。商品化电子束曝光系统价格昂贵，运行成本高，难以被一般的科研院所和大学实验室接受。中国科学院电工研究所在知识创新工程重大项目带动下，利用多年研究经验的积累，自主研究开发出了DY-9高精度纳米电子束曝光系统，该系统以扫描电子显微镜为基础，配备多功能图形发生器和激光控制精密工件台，构建成科研用纳米电子束曝光系统。系统价格合理、操作方便、功能齐全、运行成本低，是科研院所和大学实验室购置微细加工设备的理想选择。DY-9纳米电子束曝光系统组成：l 扫描电子显微镜（基本型为JSM-6360，可根据客户要求选型）l 激光控制精密工件台l 多功能图形发生器l 控制用PC机l 超高真空系统l 软件系统DY-9纳米电子束曝光系统性能：l 最小电子束斑：4nm（基本型）（此参数根据客户选定的SEM而定）l 加速电压：0.5KV-30KVl 扫描场尺寸：80-800ml 扫描速度: 5MHzl 工作模式：可进行图形拼接和套刻l 工件尺寸：硅片5英寸(max)掩模版6英寸(max)可装入非标准试片l 工件台移动速度：10mm/secl 工件台移动范围：160140mml 激光测量分辨率：0.6nm(/1024)l PC机操作系统：Windows 2000/NTl 输入数据格式：GDS、CIF和DXFl 装片方式：自动输片DY9纳米电子束曝光系统将于2005年推向市场。我们愿意与广大纳米科技工作者共同开发和研究微纳加工中的各种技术问题，竭诚为客户服务。中国科学院电工研究所地址：北京中