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文档简介
1 微影照像用材料 2 ElectronicMaterials 電子材料 2 圖2 1 a 正光阻 和 b 負光阻成像的比較 3 4 5 6 圖2 2光阻覆蓋製程 7 圖2 3 a 正光阻 b 負光阻的特性比較 8 續 圖2 3 a 正光阻 b 負光阻的特性比較 9 10 11 圖2 4電漿預處理 12 圖2 5影像反轉製程和 a 以深紫外光照像 b 曝光後 c 矽離子植入 d 氧離子植入 e 最後是光罩中透明的部份被保留了 13 圖2 6駐波現象 14 圖2 7 a 繞射現象和 b 降低繞射的比較 15 圖2 8一個光罩的例子 16 17 圖2 9光罩護膜 18 19 20 圖2 10接觸式曝光系統 21 圖2 11步進照像系統 22 圖2 12在晶圓上步進曝光 23 圖2 13霧狀晶圓的對準原理 24 圖2 14 a 傳統光罩 和 b 相移光罩的成像的解析度比像 25 圖2 15數值孔徑的表示方法 26 圖2 16焦距深度的表示方法 27 圖2 17解析力的表示方法 28 圖2 18各種紫外光和可見光光譜 29 圖2 19x光微影技術用的光罩 30 31
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