-C3N4新型聚合物光催化材料的研究.ppt

C3N4聚合物光催化材料性能提升的探索 朱永法清华大学化学系zhuyf http 166 111 28 1182014 12 02北京 中国地质大学 室外空气污染的严重性 清华大学环境与能源催化实验室 制约健康的室内污染 我国每年由室内空气污染引起的非正常死亡人数达11 1万人有68 的疾病是室内污染造成的 清华大学环境与能源催化实验室 建筑材料装饰材料人的活动室外污染物 清华大学环境与能源催化实验室 染料废水 主要工业废水之一 其毒性大 色泽深 严重危害了生态环境 农药污染 我国每年农药产量大约20万吨 还从国外进口农药75万吨 通过喷施 地表径流及农药工厂的废水排入水体中洗涤剂污染 每年大量的洗涤剂进入水体 并难以降解 工业污水 煤化工 石油化工 化工废水 矿山废水等 Ref 国家环境保护总局 长江三峡工程生态与环境监测公报 难以寻觅到清纯的流水 清华大学环境与能源催化实验室 光催化技术的优势 常温省能源 仅需低功率UV光源 不需要加温 可以直接利用太阳光杀菌广普和能力强 无耐药性有毒有机物的彻底矿化 均可降解效率高 寿命长维护简单 运行费用底无污染 无毒 卫生安全 光催化的应用前景 6 光催化应用于环境净化 FoxMA etal ChemRev 1993 93 341 HoffmannMR etal ChemRev 1995 95 69 光催化环境应用的关键问题 低浓度 难降解污染物 内容提要 纳米结构提高C3N4光催化活性多孔结构 纳米片 纳米棒 量子点价带调控提高C3N4光催化矿化能力和活性C60 P3HT TCNQ核壳结构及掺杂提高C3N4光催化性能C3N4 Ag K掺杂表面杂化结构提高光催化性能C3N4 ZnO C3N4 Bi2WO6 C3N4 BiPO4光电协同催化提高C3N4光催化降解性能 2020 3 23 清华大学化学系 8 类石墨相氮化碳 g C3N4 石墨结构C3N4的光催化应用 共轭材料g C3N4优异半导体特性可见光响应 载流子传输能力强光生电子 空穴的快速分离和迁移 光催化制氢降解污染物有机反应 WangXC etal NatMater 2009 8 76 ChenX etal JAmChemSoc 2009 131 11658 GoettmannF etal AngewChemIntEdit 2007 46 2717 如何提高光催化性能 形貌调控 贵金属沉积 WangXC etal JAmChemSoc 2009 131 1680 MaedaK etal JPhysChemC 2009 113 4940 LiuG etal JAmChemSoc 2010 132 11642 LiaoGZ etal JMaterChem 2012 22 2721 提高g C3N4的光催化性能 纳米结构提高光催化性能 多孔结构单分子层纳米片结构 11 纳米棒结构化学剪切量子点 多孔结构提高C3N4的光催化性能 Langmuir 2013 29 10566 AppliedCatalysisB Environmental 2014 147 229 FukasawaY etal ChemAsianJ 2011 6 103 ParkSS etal JMaterChem 2011 21 10801 JunYS etal AdvMater 2009 21 4270 LeeEZ etal AngewChemIntEd 2010 49 9706 ChenX etal ChemMater 2009 21 4093 GroenewoltM etal AdvMater 2005 17 1789 多孔g C3N4研究进展 硬模板法 不环保 过程复杂 2020 3 23 14 气泡模板法制备多孔C3N4 气泡模板法 以硫脲和尿素为发泡剂 单氰胺 双氰胺和三聚氰胺作为聚合前驱体多孔g C3N4呈絮状和片状 表面有气泡状突起及凹陷 厚度薄 具有多孔结构和高比表面积家 制备方法简单 环保 不会残留其他杂质 硫脲含量对形貌的影响 Langmuir 2013 29 10566 比表面积和孔分布 升温速率越快 比表面积越高 孔体积越大 比表面积和孔分布 硫脲加入量越多 比表面积越高 孔体积越大1 4 8比表面积是g C3N4的3 4倍 孔体积是g C3N4的3 6倍 多孔g C3N4的结构和性质 XRD FTIR DRS PL XRD FTIR 变化不大DRS PL 蓝移 纳米结构 多孔C3N4的降解性能 升温速率为8 C min 可见光催化降解活性最好 吸附性最强 硫脲加入量越多 光催化降解性能越好2 1 4 8可见光降解MB活性是g C3N4的3 4倍3 1 4 8太阳光降解MB活性是g C3N4的3 0倍4 1 4 8脱去部分MB的1个或2个甲基生成中间产物天青B AB 和天青A AA 光催化降解MB性能 光催化降解苯酚性能 1 4 8可见光降解苯酚活性是g C3N4的2 1倍2 1 4 8将部分的苯酚转化为中间产物对苯二酚 HQ 吸附性能及光电流性能 硫脲加入量越多 吸附性能越好2 1 4 8吸附MB活性是g C3N4的3 2倍3 1 4 8可见光电流响应值是g C3N4的2 0倍4 多孔g C3N4有效地提高光生电子空穴分离和迁移 光催化性能提高机理 1 高比表面有利于表面产生更多光催化和吸附的反应活性位2 吸附性能的提高有助于光催化反应的进行3 多孔结构有利于光生电子空穴的分离和光生载流子的迁移 EIS 尿素气泡模板法制备多孔C3N4的研究 23 尿素为气泡模板剂 孔容和高比表面积随添加量和温度增加 AppliedCatalysisB Environmental 2014 147 229 尿素气泡模板法制备多孔C3N4的研究 24 活性可以提高2 3倍 不影响对污染物的降解机理 单分子层纳米片结构提高光催化性能 2020 3 23 清华大学化学系 25 JournalofMaterialsChemistryA 2013 1 46 14766 NiuP etal AdvFunctMater 2012 22 4763 ZhangX etal JAmChemSoc 2013 135 18 g C3N4纳米片研究 氧化减薄法溶胀剥离法 无法获得单分子层结构 g C3N4单分子层米片的合成 g C3N4 浓H2SO4 g C3N4纳米片 带缺陷 g C3N4纳米片 带缺陷 CH3OH 回流g C3N4 g C3N4纳米片的形貌 g C3N4 g C3N4纳米片 体相g C3N4 大块状剥离后以及回流处理获得g C3N4纳米片回流主要消除剥离过程引起的缺陷结构 回流纳米片 JournalofMaterialsChemistryA 2013 1 46 14766 g C3N4纳米片的厚度 1 体相g C3N4的平均厚度约为5nm2 g C3N4纳米片平均厚度为0 4nm 单分子层纳米片 g C3N4 g C3N4纳米片 回流纳米片 g C3N4纳米片结构和光谱 XRD FTIR DRS PL XRD 100晶面基本消失 002晶面减弱FTIR 变化不大 说明剥离过程不改变组分DRS PL 蓝移 说明纳米结构变小 g C3N4纳米片C N基本不变g C3N4纳米片比表面积是g C3N4的20倍g C3N4纳米片可见光解水制氢能力是g C3N4的2 6倍 比表面积和光催化产氢性能 光催化降解性能 紫外光降解MB提高了2 8倍 可见光降解MB提高了2 4倍太阳光降解MB提高了2 9倍 可见光降解苯酚提高了3 1倍 光电流的增强效应 紫外光 可见光 420nm 紫外光光电流响应值提高了3倍2 可见光光电流响应值提高了3 5倍3 g C3N4纳米片有效地提高光生电子空穴分离和迁移 光催化性能提高机理 EIS 1 高比表面有利于表面产生更多光催化反应活性位2 单层纳米片结构有利于光生电子空穴的分离和光生载流子的迁移3 回流有效消除了g C3N4纳米片的结构缺陷 抑制了光生电子空穴的复合 量子点结构提高光催化性能 2020 3 23 清华大学化学系 35 JournalofMaterialsChemistryA 2014 2 41 17521 方法特点 无模板原位剪裁g C3N4可实现纳米孔和量子点的转换剪裁g C3N4在纳米孔 量子点 梭形形貌之间可调可拓展到石墨烯剪裁 有望实现层状材料剪裁方法简单环境友好 化学剪裁制备g C3N4量子点 化学剪裁法 基于传统工业生产的肟化反应的特点和原理 发现了一种简单可控的剪裁g C3N4尺寸的方法 36 37 g C3N4 化学剪裁制备g C3N4量子点 JournalofMaterialsChemistryA 2014 2 41 17521 采用双氧水和氨水可以把体相C3N4裁剪为量子点结构 38 化学剪裁制备g C3N4量子点 通过对体相C3N4裁剪程度调控 实现形貌结构调控 39 纳米片的厚度2 5nm 大约7层C N 量子点厚度约0 7nm 约两层 化学剪裁制备g C3N4量子点 40 化学剪裁制备g C3N4量子点 经化学裁剪后C3N4的组份基本没有变化 2020 3 23 41 化学剪裁制备g C3N4量子点 经化学裁剪后C3N4的电荷分离能力增加光解水制氢活性提高了3倍 42 剪裁机理 化学剪裁制备g C3N4量子点 C3N4纳米棒结构提高光催化性能 2020 3 23 清华大学化学系 43 TheJournalofPhysicalChemistryC 2013 117 9952 C3N4纳米棒研究 44 1 WangX C etal JAm Chem Soc 2009 131 16802 ZhengY etal EnergyEnviron Sci 2012 5 67173 XuJing etal Langmuir 2013 29 10566 纳米棒结构不完善 硬模板法多晶结构工艺复杂 长度分布在0 5 3 m 直径在100 150nm 结晶度提高 纳米棒结构提高g C3N4的光催化性能 XiaojuanBaietal TheJournalofPhysicalChemistryC 2013 117 19 9952 9961 45 2 3倍 有效地光生电子和空穴的分离效率以及迁移速率 1241cm 1 C N 和1631cm 1 C N 处 并且在791cm 1出现新吸收峰 较多的富三嗪环结构 无模板法合成g C3N4棒状 光催化活性明显提高经历了一个剥离再生长的层状纳米材料的卷曲过程结晶度增加和表面缺陷的消除是活性提高的原因 纳米棒结构提高g C3N4的光催化性能 等离子核壳结构提高光催化性能 2020 3 23 清华大学化学系 47 AppliedCatalysisB Environmental147 2014 82 91 48 等离子核壳结构提高光催化性能 AppliedCatalysisB Environmental 2014 147 82 91 Ag g C3N4核壳结构提高性能 核壳结构 5 15nmAg核 60 80nmg C3N4 Ag核 111 d 0 24nmC3N4壳 002 d 0 32nm 49 50 活性提高1 8倍光电流的4倍 Ag g C3N4核壳结构提高性能 51 h 是主要活性物质 Ag g C3N4核壳结构提高性能 结构和活性稳定对其它污染物均有高的催化活性 Ag g C3N4核壳结构提升性能 价带调控提高C3N4光催化剂的活性和矿化能力 2020 3 23 清华大学化学系 53 AppliedCatalysisB Environmental 2014 152 153 262 54 C60 C3N4复合结构提高光催化性能 形成了均匀的复合结构 C60以微晶形式存在 拉曼光谱上C60特征不明显 与相互作用有关 AppliedCatalysisB Environmental 2014 152 153 262 C60 C3N4复合结构提高光催化性能 活性提高了3倍 光电流提高了4倍 可以完全矿化苯酚 56 C60 C3N4复合结构提高光催化性能 价带位置下调了0 3eV 提高了矿化能力促进了电荷的分离活性组份为空穴和羟基自由基 57 C60 C3N4复合结构提高光催化性能 C3N4与P3HT复合提升性能 2020 3 23 清华大学化学系 58 形成均匀的复合结构 产生了相互作用 2020 3 23 59 C3N4与P3HT复合提升性能 价带位置下调了0 3eV 提高了矿化能力光催化活性提高一倍 2020 3 23 60 C3N4与P3HT复合提升性能 C3N4与TCNQ复合提升性能 2020 3 23 61 J Mater Chem A 2014 2 11432 形成均匀的复合TCNQ仍保持微晶结构 2020 3 23 62 C3N4与TCNQ复合提升性能 光催化活性提高6倍 光电流提高8倍 可见光活性拓展到600nm 2020 3 23 63 C3N4与TCNQ复合提升性能 TCNQ与C3N4产生了相互作用促进了电荷的分离 2020 3 23 清华大学化学系 64 C3N4与TCNQ复合提升性能 复合结构调低了价带位置 提升了氧化能力 相互作用的电荷转移拓展了可见光活性范围 K离子掺杂提升C3N4的性能 2020 3 23 65 AppliedCatalysisB Environmental 164 2015 77 K离子掺杂不影响化学基团 2020 3 23 清华大学化学系 66 K离子掺杂提升C3N4的性能 降解活性提高了3 5倍光电流提高了5倍 67 K离子掺杂提升C3N4的性能 K掺杂 促进了电荷的分离 提升活性 2020 3 23 清华大学化学系 68 K离子掺杂提升C3N4的性能 K掺杂结构调低了价带位置 提升了氧化能力 C3N4表面杂化提高光催化性能 2020 3 23 清华大学化学系 69 J Mater Chem 2012 22 11568 EnergyEnviron Sci 2011 4 2922 Adv Funct Mater 2012 22 1518 1524 C3N4表面杂化提高光催化性能 石墨烯 聚苯胺 PANI 共轭 分子良好的载流子传输能力 光生电子 空穴的快速分离和迁移 增强光活性抑制光腐蚀可见光响应 共轭 键分子 具有HOMO和LUMO轨道 在载流子传输方面具有良好特性 共轭 键容易和其它化学键产生相互作用 引起光电性能的变化 石墨 C60 g C3N4 P3HT 70 C3N4 ZnO杂化催化剂研究 EnergyEnviron Sci 2011 4 2922 C3N4 ZnO杂化催化剂的制备 将C3N4分散于于100ml甲醇溶液中 加入1g纳米ZnO 超声30min 充分分散后 搅拌24小时 使吸附反应充分进行 待甲醇自然挥发干后 所得固体于200 C烘12小时 研磨 备用 表面杂化催化的制备 光催化活性的提高 可见光 450nm C3N4杂化后紫外光催化活性是修饰前的3 5倍 也提高了矿化能力2 C3N4表面杂化后光催化剂的响应范围拓展到可见光区 MB 10 5M TOC 紫外光 254nm 光电流的提高 紫外光 254nm 可见光 450nm 杂化催化剂的紫外光光电流响应值约是ZnO电极5倍 C3N4的10倍2 杂化催化剂的响应拓展到可见光区3 C3N4的杂化可有效提高电荷分离效率 光腐蚀的抑制 ZnO发生了严重的光腐蚀C3N4 ZnO具有良好的光稳定性 紫外光 254nm 光强 0 8mW cm2 MB 10 5M 光腐蚀的抑制 ZnO C3N4 ZnO 2 反应前 反应前 48h反应后 48h反应后 ZnO发生严重的光腐蚀C3N4 ZnO具有良好的光稳定性C3N4的修饰抑制了ZnO的光腐蚀效应 光腐蚀的抑制 XRD 体系溶液中Zn2 浓度 ug mL ZnO发生严重的光腐蚀C3N4的修饰抑制了ZnO的光腐蚀效应 杂化结构 杂化后 ZnO的晶型和晶粒度没有明显改变光催化剂能带没有变化 吸收范围拓展到可见光区 XRD DRS 表面杂化结构 C3N4在ZnO表面以单分子层化学吸附形式存在 C3N4 ZnO 3 HRTEM C3N4 ZnO 8 杂化结构 FT IR TG DTA空气气氛 C3N4与ZnO间存在强烈的价键相互作用 比表面与孔分布 BET m2 g C3N4的杂化对ZnO的孔分布和比表面影响不大 光催化活性提高机理 光催化活性 吸附性能 电荷分离效率 晶相结构 BET 紫外EIS拟合 紫外光照下 ZnO及C3N4 ZnO 3 交流阻抗谱的拟合数据 C3N4修饰有效提高ZnO光生电子和空穴对的分离效率和实现快速的界面分离 b 图中 a a 为非光照情况下的ZnO b b 为非光照情况下的C3N4 ZnO 3 c c 为紫外光照射下的ZnO d d 紫外光照射下的C3N4 ZnO 3 a b c d 为实测交流阻抗谱数据 a b c d 为拟合数据 紫外光催化活性提高及光腐蚀抑制机理 1 ZnO与C3N4 ZnO 氧化活性物种是空穴2 ZnO发生直接光腐蚀 活性物种捕获 光生电子和空穴的快速分离紫外光催化活性大幅提高空穴的快速移出ZnO的光腐蚀被完全抑制 可见EIS拟合 可见光下 ZnO及C3N4 ZnO 3 交流阻抗谱的拟合 C3N4修饰有效提高ZnO光生电子和空穴对的分离效率和实现快速的界面分离 b 可见光催化活性机理 自由基是主要的活性物种C3N4的激发态电子注入ZnO的导带可见光活性产生 活性物种捕获 87 C3N4 BiPO4杂化光催化研究 利用杂化结构促进电荷分离 提高降解活性 利用C3N4的共轭结构 产生可见光活性 88 C3N4表面杂化BiPO4光催化剂的制备 BiPO4纳米棒 超声 C3N4 C3N4 BiPO4 CH3OH 覆盖层厚度由负载量决定 3 30nm Adv Funct Mater 2012 22 1518 1524 89 C3N4表面杂化BiPO4结构 晶格常数相近 有利于复合 XPS N1sP2pBi4f010 5411 723 228 939 548 253 263 83 E 0 4eV 复合后 Bi化学位移升高 N化学位移降低 反映 作用结合引起的Bi到N上的电子转移 90 杂化结构提高光催化活性 MB UV MB VIS 420nm MB 摸拟太阳光 10 C3N4 BiPO4 91 杂化催化剂活性提高机理 BiPO4价带空穴经C3N4迅速迁移到催化剂表面 C3N4激发态电子注入BiPO4的导带