2010级五七八年制《牙体牙髓病学》期中摸底测试.doc

2010级五七八年制牙体牙髓病学期中摸底测试姓名 学号 组别 一. 名词解释（5分6）1. Smear layer2. Incidence rate 3. Pulpodentinal complex4. Axial wall5. Undermining caries6. Indirect pulp capping二. 单项选择题（1分22）1. 患龋率最低的是 ( )A. 上颌磨牙 B. 上颌前磨牙 C. 上颌前牙 D. 下颌前磨牙 E. 下颌前牙 2. 最早在牙面定居的细菌是 ( ) A. 变异链球菌 B. 血链球菌 C. 轻链球菌 D. 乳杆菌 E. 放线菌3. 口腔中的主要致龋菌为 ( ) A. 血链球菌 B. 变异链球菌 C. 乳杆菌 D. 放线菌 E. 轻链球菌4. 龋病最为好发的部位为( )A. 牙颈部 B. 颊面 C. 咬合面 D. 舌面 E. 邻面5. 关于乳铁蛋白（LF）说法错误的是（ ）A. 可由中性白细胞、浆液性腺上皮细胞、胃和十二指肠的上皮细胞产生B. 是一种与铁结合的糖蛋白 C. LF可竞争性结合铁而对需铁微生物发挥作用D. LF只发挥抑菌作用 E. 多种微生物对LF敏感6. 人类唾液中变异链球菌可检测出的浓度平均为 ( ) A. 10 3 CFUml B. 10 7CFUml C. 10 5CFUml D.10 6CFUml E. 10 4 CFUml7. 按龋病发病情况和进展速度分类的是哪项 ( ) A牙合面(窝沟)龋和平滑面龋 B. 根面龋 C线形釉质龋 D. 猛性龋 E. 潜行性龋 9. 中龋的临床表现为（ ） A. 受外界的物理化学刺激无明显反应 B. 龋洞形成, 酸甜冷热刺激痛, 刺激去除后症状立即消失C. 龋洞形成, 冷热刺激痛、自发痛D. 龋洞形成, 冷热刺激痛、放射痛E. 龋洞形成, 食物嵌塞痛、夜间痛10. 患者，男性，20岁。因左侧上颌后牙遇甜食物不适就诊。检查：26颊沟龋洞，中等深，探软，稍敏感，冷刺激进洞后稍敏感，冷热试验与对照牙相同。该患牙诊断可能为 （ ）A. 浅龋 B. 中龋 C. 深龋 D. 牙髓充血 E. 慢性牙髓炎11. 急性龋又称作 ( ) A继发龋 B湿性龋 C干性龋 D隐匿性龋 E静止龋12窝沟龋的特点为 ( ) A. 从窝沟基底部开始 B. 在窝沟侧壁产生损害，最后扩散至基底 C. 龋损平行于秞牙本质界发展 D. 窝沟龋早期在釉质表面即有明显破坏 E. 龋损垂直于釉牙本质界发展13. 左上颌第二恒磨牙邻面龋损破坏越过边缘嵴至牙合 面窝沟是( ) A. I类洞 B.类洞 C. 类洞 D. 类洞 EV类洞14. 左下第一磨牙远中邻面颈1/3龋损制备的洞型为（ ）A. I类洞 B. 类洞 C. 类洞 D. 类洞 EV类洞15. 右上侧切牙腭面窝龋坏制备的洞型是（ ）A. I类洞 B. 类洞 C. 类洞 D. 类洞 EV类洞16. 上颌第一磨牙类洞制备时，鸠尾峡宽度正确的是( ) A.颊舌牙尖间距的l/4 B.颊舌牙尖间距的1/41/3 C.颊舌牙尖问距的l/3l/2 D.颊舌牙尖间距的l/22/3 E.颊舌牙尖问距的2/33/4 17. V类洞必要时可在何处做倒凹以增加固位( )A.洞壁与轴壁相交的线角 B.近中轴线角C.远中轴线角 D.牙合轴线角和龈轴线角E.洞壁任何部位18. 类洞制备时( ) A.必须做鸠尾 B.无须做鸠尾C.在舌侧(腭侧)做相应的鸠尾 D.往颊侧设计相应鸠尾E.根据龋损的部位、范围及邻牙情况选择制备鸠尾19. 中层龋和深龋用银汞合金充填时需用单层或双层垫底是因为银汞合金有（ ）A. 可塑性 B. 传导性 C. 成球性 D. 膨胀性 E. 变色性20. 老年人口腔中唾液分泌减少，牙龈萎缩，牙根暴露，根面龋和非龋性颈部缺损的发生率增加，在此情况下，首选的充填材料是( ) A. 复合体 B. 复合树脂 C. 银汞 D. 玻璃离子体 E. 银离子21. 树脂充填修复过程中，填充时必须遵循分层充填和分层固化的原则，第一层充填厚度应控制在( )，光照固化( ) A .1mm, 1020秒 B. 1 .5mm, 2050秒 C. 2mm, 1030秒D.2mm, 2040秒 E. lmm, 2040秒22. 1992年，Kanca等发现亲水性预处理剂在表面湿润的牙本质获得的粘结强度明显高于表面干燥的牙本质的粘结强度，提出的概念是( ) A. 全酸蚀 B. 微拉伸粘结强度 C. 自酸蚀 D. 牙本质湿粘结 E. 混合层 三. 简答题 (7分4)1. The functions of acquired pellicle. 2. Outline the class and cavity of G. V. Black classification.3. The differences of total-etch adh