LCD用语LIST(中文).doc

BOE OT LCD(1.12) Pattern 检查Pattern是检查panel 的不良Mode时，使用到的Pattern。 由Pattern Ganerator提供。Panel Mode Pattern Pattern Generator .Label 管理 Label用于Data 管理的Barcode Label .Data Barcode Label.防止静电剂在Spin Scrubber中的清洗基板时，涂于基板下面的Chemical。在Processing中防止，减少基板上的静电。Spin Scrubber Processing Chemical. 每叶式一张，一张地顺序处理方式。 . MURA 面上 MURA在中间灰度上，能看到的斑点不良，占有一定的面积。（有关灰度的详细内容请参照Gray Scale） . ( Gray Scale)Short 灭线Short在L63中，暗颜色的连续不良。 （有关灰度的详细内容请参照Gray Scale）L63 . ( Gray Scale) 灭点间距在L63上的暗点间的间距。（有关灰度的详细内容请参照Gray Scale）L63 . ( Gray Scale) 灭点种数在L63上，暗点不良的总数。（有关灰度的详细内容请参照Gray Scale）L63 . ( Gray Scale)变换基板Pallet的Interface Card发出的信号传到LCM的 Connector时用的基板。Pallet Interface Card LCM Connector . 3颜色的3 要素颜色(HUE)：颜色的种类可分为红(R)、黄(Y)、绿(G)、蓝(B)、紫(P)等和中间颜色朱黄(YR)，(GY) , (GY) , 青绿(BG)，(PB) ,紫朱(RP)等10种基本颜色。再把基本颜色根据颜色的色感差4等分，在各自的简称前面加上2.5 , 5 , 7.5 ,10等数字来表示。 亮度(VALUE): 对颜色亮度的感觉，以无色为基本颜色，把黑色定为0，把纯白色定为10。彩色颜色时，亮度2到亮度9为一个单位排列。 色度(CHROMA):颜色的混合比率的程度，（颜色鲜明度的程度）。无彩色的色度为0，根据色感的增加色度也慢慢增加，到纯颜色时为最高。 加色法和減色法: 加色法同于Color TV由可显示3种颜色的荧光体的发光颜色的混合形成。（加色法的三原色：R , G , B): R + G = Ye G + B = Cy R + B = Mg R + G + B = White. 減色法是在白纸上进行多色印刷来显现颜色的方法：Mg + Cy = B Mg + Ye = R Cy + Ye = G Mg + Cy + Ye = Black.(HUE): . (R) , (Y) , (G) , (B) , (P) (YR), (GY) , (BG) , (PB) , (RP) 10 , 4 2.5 , 5 , 7.5 ,10 . (VALUE): . 0 , 10 . 2 9 1 . (CHROMA): ( ). 0 . 加色法 減色法: Color TV 3 ( : R , G , B): R + G = Ye G + B = Cy R + B = Mg R + G + B = White. : Mg + Cy = B Mg + Ye = R Cy + Ye = G Mg + Cy + Ye = Black. Block 浅线Block在中间灰度上，一个Block处的颜色较浅的不良。（有关灰度的详细内容请参照Gray Scale） Block . ( Gray Scale) 浅线 不良在中间灰度上，显示出浅颜色line的连续不良。（有关灰度的详细内容请参照Gray Scale） . ( Gray Scale) Black全画面Black全画面显示为黑色的不良。 Black . White全画面White全画面显示为白色的不良。 White .初期电流驱动LCM时，必要的电流。是Panel驱动时，必要的电流和驱动Backlight时必要的电流的结合。LCM Panel Backlight . /偏光板 异物/气泡偏光板和Cell之间的异物或气泡。 Cell Scratch/ 偏光板Scratch/污染偏光板上的Scratch或污染不良。 Scratch . 画面显示不良画面显示不正常的不良。 . 像素排列表示颜色的各个像素的排列方式上，为了突出肉眼能看到的表示效果把不同像素的排列区分开。 . Open亮线Open在L0上的亮线不良。（有关灰度的详细内容请参照Gray Scale）L0 . ( Gray Scale)亮点距离在L0上的亮点间的距离。 （有关灰度的详细内容请参照Gray Scale）L0 . ( Gray Scale)亮点总数在L0 上的亮点的总数。 （有关灰度的详细内容请参照Gray Scale）L0 ( Gray Scale)A/K(AIR KNIFE)WET ETCH后， 通过用细小的slit把高压气喷向基板，来去除基板上的水汽的module。WET ETCH .ABSORPTION CONSTANT显示介质对光的吸收程度的吸收常数。 .ABSORPTION DICHROISM对于轴性液晶而言，光的偏光方向改变光的吸收程度。 直线偏光的震动方向的不同，其吸收系数也不同。在这种显示有直线异色性或旋光性的溶液中，圆偏光的左右吸收系数不同的圆偏光异色性。(軸性) (旋光性) .ACF(ANISOTROPIC CONDUCTIVE FILM)异向导电薄膜。 TCP BONDING时，PANNEL和 TCP间的导电膜的一种类型。 . TCP BONDING PANNEL TCP .ACTIVE MATRIX DRIVE注射电极和信号电极MATRIX交点部分的像素，根据ACTIVE因子和需要会储存电荷，来提高CONTRAST或RESPONSE等因子的性能的驱动方式，也叫Switching matrix 驱动。 CONTRAST RESPONSE .Active Matrix在各个像素电极上贴和独立的Active element，使像素独立驱动，以减少引接在像素上的信号影响来提高Contrast比的驱动方式。 Active element : 二极管 Diode , 三极管 Transistor Active element Contrast . Active element : 2 Diode , 3 Transistor AD(Adhesion)以处理HMDS priming来，提高Photoresist和 sub layer间的紧密结合。 HMDS priming Photoresist sub layer .ADDRESSING TECHNIQUE为了显示出液晶显示因子所需要的画面，形成的电极和驱动液晶显示因子的技术。 .AGING为了测试产品的信赖性，主要在50度60度上驱动68个小时。 5060 68 .Aligner虽然与Stepper的作用一样，可通过Scan的方式通过MASK在基板上做出Pattern的设备。Stepper Scan MASK Pattern AMLCD(ACTIVE MATRIX LIQUID CRYSTAL DISPLAY)把画面分成数万个以至数十万个，在每个像素上制作出驱动因子，且利用其switching 的特性控制像素动作的方式。 .Amorphous silicon非晶硅，是TFT的半导体材料。非晶硅并非是晶体。观察非晶硅的TFT电学性特性可知On状态下电流虽小，但Off状态下，因为电阻大，可充当很好的Switching。因为非晶硅可在350以下的低温中形成，适合大型Glass基板。所以目前主要使用的非晶硅成膜中也使用分解plasma Gas的 plasma CVD。 , TFT Si . Si . Si TFT On Off Switching . Si 350 Glass . Gas CVD .ANALIZER贴在C/F 极板上的polarizer，也叫验光板。C/F polarizer .ANISOTROPIC ETCH与个相同性相对的各项异性ETCH，指与水平上的 ETCH RATE相比，竖直上的ETCH RATE更强的，主要适合于半导体DRY ETCH工程技术。 ETCH ETCH RATE ETCH RATE DRY ETCH .ANISOTROPY对于液晶而言，物质的水平方向上的性质与竖直方向上的性质不同。指由此性质导致的方向性，也指液晶根据其方向不同，性质也不同。 . .ANNEALING主要指热处理。 在半导体工程中，主要在与硅不反映的N2或 Ar Gas下完成。OXIDE的 QUALITY或 BULK SILICON的 DEFFECT减少及离子注入后CURE DAMAGE时利用。 Si N2 Ar Gas OXIDE QUALITY BULK SILICON DEFFECT DAMAGE CURE .ANODIZING在电解溶液中在特定金属为+， 把稳定金属为-时，+的金属被氧化；在 TFT 工程中，主要氧化 Ta，得到Gate 绝缘膜Ta2 O5。同理用于在空气中易氧化的铝定为阳极，形成密度高的氧化膜来防止更多的腐蚀。 +, - + TFT Ta Ta2 O5 . .APERTURE RATIO指Active contrast 形成面积占整个display上的比率。 这个比率因为有在display基板上有非活性的BUS LINE, BLACK MATRIX, SWITCHING DEVICE而大大减少，也叫FILL EFFECT。所有显示面积的和。 在TFT panel上不属于显示区域的部分（TFT，回路，Space等），除此之外，在ITO 像素电极内，除了Black Matrix外的面积除于像素总面积会得到开口率，也就得到了实际光透过的有效透过领域。 . BUS LINE, BLACK MATRIX, SWITCHING DEVICE . FILL EFFECT . , TFT TFT, , , Space , ITO Black Matrix .APR PLATE(ASAHIKASEI Photosensitive Resin Plate)为了把PI 取向膜 均匀coating在ARRAY基板和 C/F( color filter )上，凹凸patterning的resin 板。 PI ARRAY C/F( color filter ) patterning resin .AUTO CLAVE提高偏光板和Cell之间的贴附性，去除气泡来提高显示品质的工程。 Cell .B.Exp.(Back Exposure)Photo process中的GATE Metal Pattern上为了准确Overlap E/S(Etch Stopper) Photoresist Pattern，在E/S Mask时曝光Front Side后，利用METAL的光非透过性在Glass Back side上进行曝光的设备。Photo process GATE Metal Pattern E/S(Etch Stopper) Photoresist Pattern Overlap E/S Mask Front Side METAL Glass Back side B/L(BACKLIGHT)LCD是passive element 所以在PANEL里侧需要光源。LCD PANEL .B/M(Black Matrix)为了确保液晶显示区的contrast和防止色纯度降低的现象，R / G / B (Red Green Blue)像素之间用Cr或树脂coating。 contrast R / G / B (Red Green Blue) ( Cr ) .Back light Back light 无点灯背光灯透不过来的不良。B/L .Back light Back light不点灯B/L显示光不正常现象。B/L .Back light Back light漏光Bezel和 B/M之间漏光的不良。（原材料不良）Bezel B/M ().Back light Mura全体画面上因灰度不均匀导致的斑点。 .BATCH TYPE不是一张为单位，是以CASSETTE为单位的PROCESSING方式。 CASSETTE PROCESSING .Bit Bit缺陷因由连续的点不良导致一部分的连续不良。 .Black matrix Black matrix歪曲由Black Matrix的 Misalign导致的不良（残相画面过1秒还不消失）Black Matrix Misalign ( 1 )Black MatrixTFT液晶Panel上，为了切断像素电极间和TFT领域的广，设计在Color Filter基板上。其材料是薄金属膜，为了减少表面反射率往往形成Cr氧化膜。但是透过无法调节像素电极周边的显示区的光，可降低黑色背景的纯度，也降低Contrast。为了防止这种现象，采用Black Matrix。Black Matrix不仅规定Panel的开口率，对显示亮度也起着重大作用。TFT Panel TFT Color Filter . Cr . , Contrast . Black Matrix . Black Matrix Panel .Block Block 不良2连续的连续不良叫做Block。2 Block .BREAKING沿着Scrobing位置 cutting cell 的工程。Scrobing cell .BridgeLead间由Solder连接导致Short的状态。Lead Lead Solder Short .Brightness液晶display画面的亮度。单位为nit, fl，灰度由Back light灰度和panel的透过率决定。 nit, fl Back light .C.D.(Critical Dimension)指工程中出现的DEVICE的平面尺寸，一般也叫幅度。 DEVICE .C/F Color Mura只在各种Raster画面上看到的色斑点。 Raster .CCSS(Central Chemical Supply System)药液，DI, Gas等的中央提供方式。 DI, Gas .CCTV(Closed Circuit Tele Vision)时常注视危险地带的安全状态，以便能在发生紧急状态时，能准确，迅速采取措施的系统。 , . CD measurement(Critical Dimension measurement)Array process中对Pattern的细微幅度的测定设备。测量DI (after Develop Inspection) CD 及 FI (after Final Inspection) CD。Array process Pattern . DI (after Develop Inspection) CD FI (after Final Inspection) CD .CDE(CHEMICAL DRY ETCH)与PARALLEL ELECTRODE方式的MECHANISM不同CHAMBER和防静电室是分离的。以此来最小化ION或ELECTRON PHYSICAL的因素，且以CHEMICAL 反应为主的ETCH方式。PARALLEL ELECTRODE MECHANISM CHAMBER . ION ELECTRON PHYSICAL CHEMICAL ETCH .CELL GAP注入液晶的LCD的前后玻璃基板间的间距，也就是液晶层的厚度。LCD , .CELL TESTER测量Cell的显示品质，根据已规定的Good, Repair, Reject与否进行检查的工程。Cell , Good, Repair, Reject .Cell /Cell 污染/异物Cell内由污染或异物导致的不良。Cell .Cgs在a-Si:H TFT上存在Gate电极和Source电极间重叠Overlap的部分，所以会产生计生电容 Parastic capacitance Cgs。Cgs是TFT Turn-off时由Capacitive coupling引起V的液晶电压上的变动，这对像素质量起着重要的影响。 V = Cgs Vg / ( Cgs + CLC + Cstorage )a-Si:H TFT Gate Source Overlap Parastic capacitance Cgs . Cgs TFT Turn-off Capacitive coupling V . V . V = Cgs Vg / ( Cgs + CLC + Cstorage )CHANNEL非晶硅薄膜的souse,drain 之间的Carrier移动的领域。 .CHIPSMD Type的电阻或电容器的总称。SMD Type .CHIRAL NEMATIC PHASENEMATIC液晶里添加CHIRAL剂，使分子排列形成螺旋状，指这种NEMATIC状态。 , .CHIRAL NEMATICCholesteric液晶。起初在此液晶上发现了cholesteric诱导体的特性，所以叫cholesteric 液晶。后来的cholesteric 相是由NEMATIC状态的化合物和cholesteric化合物混合形成；这时的液晶状态叫做CHIRAL NEMATIC。表示为N*。添加CHIRAL物质时，会诱导出与NEMATIC液晶的方向垂直的螺旋状的歪曲构造，此时的状态叫做cholesteric 相。 , . . . N* . .CHROMATICITY颜色评价一般包括色相，亮度，彩度等三个要素。这三个要素总称叫色度。 , , 3 .Class在空气1 Cubic Feet(ft3)内允许存在的一定大小粒子的个数。Clean Area内应去除的空气中比规定范围Paticle Size更大的Paticle 的个数。 1 Cubic Feet(ft3) , Clean Area Paticle Size Particle.CLEAN BEFORE PI COATINGARRAY工程结束的TFT 基板和C/F(color filter)基板上，形成取向膜之前，去除基板有机物等污染物质的工程。ARRAY TFT C/F(color filter) .Clean room维持特定水平以上的操作环境的区域。如Particle，温度，湿度，震动，静电，噪音，室内气压，室内气流，室内气流风速等。 Particle, , , , , , , , .CLEANING AFTER END SEALING去除液晶注入后液晶表面残留的液晶及污染物的工程。 cell .CLEANING AFTER RUBBING去除RUBBING后在基板rubbing cloth上的particle的工程。RUBBING rubbing cloth particle .COB(CHIP ON BOARD)GLASS上BONDING IC后，使 PANEL和BOAED INTERCONNECTION 的方式。GLASS IC BONDING PANEL BOAED INTERCONNECTION .COG(CHIP ON GLASS)指在液晶PANEL的玻璃基板上针对细小pitch包含的集成电路的超薄型，轻量化新型装饰方式。用DIRECT把GLASS上的IC BONDING的方式。 . GLASS IC DIRECT BONDING .Color Filter指把R, G, B着色在Glass上的Filter。与像素电极1:1 对应，能显示出出色的color 显示能力。其构造一般由遮光板，着色层，保护层，共同电极。TFT液晶主要采取的方法是染色法和燃料喷散法。Glass R, G, B Filter 1:1 . , , , . TFT .COLORR,G,B 颜色的显示体。(R) (G), (B) .Common Electrode指给液晶Panel 引加电流的电极，带有透明的光学性质。 Panel .Common-Short垂直方向的连续不良的线上有异物的不良。 .Contrast ratio指画面上黑，白所对应的光透过率的比，是决定画面质量的主要因素。在TFT-LCD上一般得到100:1的 Contrast比。 , . TFT-LCD 100:1 Contrast .Contrast主要显示明暗的对比度，在画面上指黑，白各自所对应的光透过率的比率。在正面其值最大，是决定画面质量的最大因素。 . , .CR(CONTRAST RATIO)在display状态下，检查一定条件的光时，指液晶显示为亮的区域和暗的区域的程度对比。即决定于画面上的黑，白所对应的光透过率的比。 , .CRCLT(CIRCULATION)从module内的TANK到CHAMBER循环性提供药液或DI。 TANK CHAMBER DI .Cross-Short十字形的连续不良，在亮线上可发现异物。 .CROSSTALK在Dynamic 驱动上，由于驱动电压的歪曲，不该点灯的部分点灯或，点灯部分的亮度互相不同导致contrast 降低的现象。驱动一个PIXEL时，周围的PIXEL也被驱动的现象。 . PIXEL PIXEL .CTN(COMPLEMENTARY TN)各像素的液晶分子上提供不同的两个相反方向，使可视角增加的特殊类型的LCD。 LCD.CUT-OFF FREQUENCY液晶分子因某种频率无法用交流驱动的限度频率。 .D.I.CD (Developed Inspection Critical Dimension)进行Photo Mask后由Photo Resist Define的C.D。Photo Mask Photo Resist Define C.D. .DATA LINEMatrix排列上引加的信号线。 .DC/DC Convertor主要起到把输入进来的直流电压Vdd，转换成Source, Gate PCB所需要的直流电源Vbb+ ,Vbb-, Vgg+, Vgg-的作用。 Vdd Source, Gate PCB Vbb+ ,Vbb-, Vgg+, Vgg- .DDS(Developer Dilute System)把Developer的原溶液( 20 or 25 % )稀释成 2.38 %后供应的设备。 Developer ( 20 or 25 % ) 2.38 % .Develop使用碱性溶液( TMAH )时，利用在已涂好的Photoresist的曝光部和非曝光部之间的溶解度差，形成Pattern的工程。 ( TMAH ) Photoresist Pattern .Developer是种碱性溶液。与曝光后变成带有碱性可溶性的Photoresist进行化学反应，通过Photoresist可形成幅度小的pattern的Chemical. Photoresist Photoresist pattern Chemical.DHP(Dehydrate Hot Plate)Spin scrubber后去除Glass表面水分的工程。Spin scrubber Glass .DI(Deioniaed)指超纯水。不包含离子，有机物，细菌，微粒子等的理论上100%的纯净水，现实生活中，虽然无法得到这种水，但是这里所指的是最为接近的纯净水。 , , , , 100% , .Dieletric Anisotropy液晶长轴方向和其垂直方向上的Dielectric constant 不同的性质。 , Dielectric constant .DISINCLINATION两domain界限，也叫domain wall。 domain . domain wall .DOF(Depth Of Focus)指能体现Resolution的焦距下的Margin幅度。一般光的波长长，Lens的直径约小，清晰度越准确。Resolution Margin Lens () . (k /(NA)DOMAIN同一个液晶CELL内，作为基本因素的液晶分子的 取向矢量以，复数存在的状态。部分液晶有排列不连续的部分，液晶方向一致或连续不同的部分。 CELL . , .DS MODE(DYNAMIC SCATTERING MODE)Nematic 状态上引加电场时，电的流体动力学的不稳定性导致发生对流。增加电场，接着会形成新的对流渠道，最终形变成乱流。变成乱流后，液晶因为其光学异向性和流动，导致较强的散射现象。G.H Heilmeir把这种现象叫做动态散乱模式(DSM)。Heilmeir发现这种现象时，把Willliams domain 的这种现象认为是SDM，但现在又发现还存在以(GRID PATTERN)为首的其他构造。实际上，DSM是空间上为等方性的乱流，在不同光下的效果都一样。增加电场时，异向性DSM会间断性发生，且持续时间和间断性也越加频繁，最终形成乱流（也叫DSM2）。出现等方性乱流，切断一次电场，电位消失，恢复原状态需要一定的时间，导致电场应答慢。 发现当时，Heilmeir 利用引加电场区域由于乱流运动发生的强烈的光散射现象，试图显示字体和图像。这就叫DSM因子，有一段时间以液晶显示因子的候补因子流行。使用等方性DSM时，引加高电场，虽然能得到好的CONTRAST，但是应答性不好。又因为需要的电压为20伏特的高电压，且发生对流时，需要注入电荷，这样电力消耗增大，也就不太实用。 . . . G.H Heilmeir (DSM) . Heilmeir SDM (GRID PATTERN) . DSM , . DSM (DSM2 ) . , . , Heilmeir . DSM , . DSM CONTRAST . 20V , .DSTN(DOUBLE LAYER SUPER TWISTED NEMATIC)指为了在STN LCD中