52磁控溅射镀膜机可行性论证报告书（F1）.doc

52号申请购置仪器(设备)可行性论证报告书仪器(设备)名称高真空多功能磁控溅射仪所属实验室废油资源化技术与污染治理研究实验室申报负责人冯永成申报部门废油资源化技术与装备工程研究中心申报时间2008915重庆工商大学制表一、申请购置仪器(设备)概况仪器(设备)名称中 文高真空多功能磁控溅射仪外文(原文)参考单价人民币(万)20.0数量1总价20.0美元(万)主要供货渠道原产地沈阳国别中国生产厂家中科院沈阳科仪中心型号规格JGP350拟安装地点废油资源化技术与污染治理研究实验室使用单位废油资源化技术与装备工程研究中心使用方向教学研究生、本科、专科、高职科研科学研究、产品开发、生产其它技术培训、对外服务主要用途教学和科研服务对象废油资源化技术与污染治理研究实验室使用效率计算人时/年(月)使用单位负责人郑旭煦操作、管理人员冯永成主要技术指标 极限真空：优于 6.610-5 Pa ； 真空室尺寸： 350280（mm）为圆筒形立式全不锈钢结构 样品加热温度：可水冷、可加热到 600 基片尺寸、数量： 最大 30mm 、一块 靶的 尺寸、数量：靶材直径 50mm、 二个永磁靶、一个电磁靶 基片可加负偏压、可自转 MFC质量流量计控制器进气 计算机控制挡板开关 总功率： 380V ， 8KW 冷却水：水压 12公斤/平方厘米，流量：0.6立方米/小时 占地面积：主机： 1200 800（毫米） 电控柜： 700700（毫米）共二个对安装使用环境及附属设施的要求项目安装、使用条件其它要求项目安装、使用条件其它要求水/空调/电/气/地面/二、辅助(配套)设备(设施)辅助(配套)设备(设施)经费来源/辅助设备总额(人民币元)/仪器设备投入运行后的维持费及运行费及落实情况维持费/运行费/主要辅助配套设备设施名 称参考型号金额资料来源/维护维修能力情况/三、可行性分析论证1、拟购置仪器(设备)的必要性及对实验室建设目标的作用1.1 对建设目标的作用 对工程中心环保装备的研制与制造提供硬件支持，同时对方向4（催化材料）的发展具有重要的支撑作用，对应用化学、材料等专业课可提供实验课程。(此页不够，自行另加附页)1.2 在教学、科研中的主要使用范围(简述) 可应用于应用化学本科专业实验教学及研究生课程实验，同时对将来高层次项目的申报也具有重要的作用。1.3 对仪器(设备)资源共享及开放、对外服务的设想/2、主要仪器(设备)选型依据2.1 本校（院）、重庆地区及国内同类仪器(设备)配置情况/2.2 国内、外同类仪器(设备)性能比较选择顺序首选厂家次选厂家备选厂家厂家名称中科院沈阳科仪中心有限公司北京北仪创新真空技术有限责任公司北京中科科仪技术发展有限责任公司主机金额20.025.022.0主要技术指标l 极限真空：优于 6.610-5 Pa ； l 真空室尺寸： 350280（mm）为圆筒形立式全不锈钢结构l 样品加热温度：可水冷、可加热到 600 l 基片尺寸、数量： 最大 30mm 、一块l 靶的 尺寸、数量：靶材直径 50mm、 二个永磁靶、一个电磁靶l 基片可加负偏压、可自转l MFC质量流量计控制器进气 l 计算机控制挡板开关l 总功率： 380V ， 8KW l 冷却水：水压 12公斤/平方厘米，流量：0.6立方米/小时l 占地面积：主机： 1200 800（毫米） l 电控柜： 700700（毫米）共二个售后服务情 况2.3 仪器(设备)选型的技术、价格、性能综合评价/3、投资效益预测3.1 在教学活动中服务的课程名称及实验课时，每年可使用时间(小时)/3.2 仪器设备服务的主要科研课题(国家级、省级或其它)及效益预测3.3 该仪器(设备)资源共享、对外服务的辐射面及效益预测/4、环境影响评价/四、对拟购置仪器(设备)的其它要求及建议五、审批意见 设备申报人签字： 年 月 日1、实验室（研究方向）意见方向负责人签字： 年 月 日2、直管单位意见负责人签字： (公 章) 年 月 日3、专家组论证意见专家组组长签字： 年 月 日4、学校审批意见学校领导： (公 章) 年 月 日超高真空多功能磁控溅射仪一、 仪器设备1. 生产厂家及型号：中国科学院沈阳科学仪器研制中心，JGP560C I型2. 主要技术参数：系统极限真空：12小时烘烤液氮冷阱内加注液氮可达6.6x10-6Pa。靶的结构尺寸：靶直径70mm，水冷，靶与基片距离从40到80mm连续可调。溅射压强： 0.5到5Pa。3. 仪器性能：（1）溅射仪共有4个靶， 可放置4 种材料。其中1号靶为射频靶，可以溅射导体、半导体以及绝缘材料；2号和3号靶为直流磁控靶，可溅射（磁性不强的）导电材料； 4号靶为永磁靶，可溅射导电材料（主要是铁、钴等强磁性金属或合金）。（2）溅射仪有6个样品台，制备6个相同或不同的样品。其中6 个样品台中有5个水冷台，1个加热炉台。水冷台可在室温下制备样品，加热炉台温度最高可到400摄氏度。（3） 可制备单层、多层薄膜样品。二、服务项目 按用户要求制备单层、多层薄膜样品或者镀金属电极等。三、服务指南 1 联系人 （1）业务联系人：张仁祥电话：（0531）88375854（2）操作员：田玉峰 电话：（0531）88377035-8328 （3）仪器负责人：颜世申 教授 电话：（0531）88375097 E-mail: 仪器放置地点：山东大学老校物理与微电子学院 114室 3 收费标准以小时为单位，每小时收费100 元人民币 仪器设备及检测项目名称 超高真空多靶磁控溅射仪所属单位 南京大学制造厂商 中科院沈阳科学仪器研制中心规格型号 四靶、十六样品架 JGP600A纳入机构 南京大学物理学系服务领域 双真空腔磁力进样计算机控制所在部门 新科技馆225室收费标准 300元小时联系人 张维电话 02583593704技术指标 109Torr，四靶、十六样品架高真空多靶磁控镀膜机公开招标报名公告超高真空多靶磁控镀膜机技术需求序号 名称 技术指标 备注1 真空系统 单室结构，真空专用不锈钢，电动上开盖结构，分子泵机组，设置预抽管路。采用金属密封技术，开门处采用氟橡胶圈密封。设备极限真空610-5Pa，从大气到工作背景真空810-4Pa时间30分钟，关机12小时真空度5Pa；真空测量：用电脑复合真空计和金属高低真空规管。 2 溅射镀膜组件 2英寸圆形平面磁控溅射靶3支，其中1支可镀铁磁材料，射频溅射与直流兼容，靶头可调角度；靶内水冷；靶材尺寸2英寸；电动控制挡板组件3套；靶材表面与基片距离可调6090mm,并有调位距离指示；3个靶可向心共溅射；配真空基片离子清洗装置，用于基片镀膜前的真空清洗。 3 样品台 样品台可旋转、可加热、可升降；转速度020转/分；加热器温度：室温500，可控可调；加热器抗氧化、不放气；基片尺寸2英寸。 4 气体气路 两套气路：氩气，1路气路；预留一路气路采用电脑数字式流量监控显示仪，可与电脑联网。 5 膜厚监控仪 晶振实时在线多路膜厚监控仪：晶振：6MHz；膜厚：0-99999.9 ；膜厚分辨率：0.1；频率分辨率：0.03Hz；速率：0999.9/s；速率显示分辨率：0-99999.9 ；实时多路传感器：16路；显示：中文液晶显示；可与电脑联网。 6 系统保护 缺水欠压检测与保护、强电相序检测与保护、温度检测与保护。 7 其它 标准工业电控柜1套；RF射频电源1台，500W，13.56MHz；DC直流溅射电源1台，500W；机台1套，表面用不锈钢蒙皮装饰；四只脚轮，可固定，可移动。中科院沈阳科仪中心有限公司技术指标：型号JGP280JGP350JGP450JGP500JGP560JGP800真空室尺寸溅射室280300350280450280500280560280800300进样室. .250400250450极限真空溅射室6.610-5Pa6.610-5Pa6.610-5Pa6.610-5Pa6.610-6Pa6.610-6Pa进样室.6.610-4Pa6.610-4Pa磁控靶 靶材尺寸260350460460560，4100660，5200样品台形式样品尺寸3030404040，7540，100运动方式AAAAA直线运动往复回转水冷加热加热水冷加热水冷加热温度室温600室温500室温500室温500室温500数显自动控制预处理功能无有可选自动控制功能镀膜过程采用计算机控制，具有：(1)样品转盘复位功能；(2)确认靶位功能；(3)镀膜时间控制功能；(4)样品转盘回转控制功能；(5)靶级遮挡功能。气路系统订制水压报警系统有电源配置及总功率50Hz，380V，220V，10KW50Hz，380V，220V，15KW设备占地面积主机110080012008001300850 13008002600900电控柜27007002700700270070027007002700700总重量750kg800kg900kg1000kg1200kg 1500kg应用领域：主要用于纳米级的单层及多层功能膜-各种硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、铁磁膜和磁性薄膜等的研究开发。广泛应用于半导体行业、微电子及新材料领域。 产品说明：本系统为二室或三室结构的高真空磁控溅射镀膜设备，系统主要由溅射室、磁控溅射靶、直流电源、射频电源、样品水冷加热台、泵抽系统、真空测量系统、气路系统、电控系统、微机控制膜层系统等组成。地址：沈阳市浑南新区新源街1号邮编 110168销售电售电售电MAIL:售后服MAIL:02传nd北京北仪创新真空技术有限责任公司JP系列磁控溅射镀膜机 应用范围：适用于企业批量化生产高致密度高结合力薄膜。技术特点：配备DC或RF磁控溅射源，侧面溅射，可溅射金属和介质材料；溅射靶可方便清洁和更换；工件架鼠笼式多边型结构或公自转结构，装夹量大，适应性强。主要技术参数： 型号配置JP-700JP-900溅射室尺寸(内径高 )mm7008609001200极限压力510-4Pa抽气速率从大气抽至 510-3 Pa15min真空系统 KT-500扩散泵系统K-600扩散泵系统溅射方向侧面向中心溅射溅 射 靶2个 80750mm2个 1201050mm靶 电 源DC 10 kW DC 20 kW工件旋转525r/min，连续旋转烘烤温度室温-3000C 可控可调用电功率三相380V 42kW三相380V 65kW售后服务电话：售后服务电话：60251343 传真：60250572联 系 人：陈建霞备品备件电话：58206238 传真：58206237联 系 人：张杰 范莉莉 刘恺市场部地址:北京市建国路93号万达广场9号楼6层 邮编:100022 市场部电话:60250640/58206234/58206238/58206236 市场部传真:60250572/58206235/58206237 备品备件:58205655 售后服务:60251343 公司地址:北京市大兴工业开发区前高米店盛坊路仪器仪表基地 邮编:102600 办公室电话:60251397/60251210 办公室传真:60251210 【end】北科科仪成都办事处(服务) 地址：成都市一环路东一 肆159号电子信息产业大 厦615室 电话/传真址：北京市海淀区中关村北二条十三号邮编：100080电话真子信箱： 销售电话:真空业务:010-82548198分析仪器:验室设备疗仪器:箱机柜:控溅射镀膜机dmj-001商品描述： 该设备采用F-250/1500分子泵真空系统，为了尽量减少污染，降低真空压力，整个系统全部采用不锈钢（1Cr18Ni9Ti）材料。实际证明：从大气至10-4Pa 量级压力只需十几分钟就可以满足镀膜真空度要求。磁控溅射靶是该设备的核心部件，它的性能及技术指标很大程度上决定了溅射沉积镀膜的质量。本设备使用的磁控靶和磁性材料溅射靶，前者能沉积制备非磁性以及半导体膜；后者速率高，沉淀速率可达30A/秒，工作压力范围宽；0.3Pa至4Pa之内磁控靶可以稳定工作，电压工作范围在300伏至1000伏之间，设备配备：1.基片旋转;2.膜厚测量仪;3.质量流量控制器;4.必要时可配备基片预处理室及氩离子枪 清洗装置及电阻加热装置.技术指标: 极限真空压力:510-5Pa 靶直径(mm): 50轴向移动20 靶单位面积功率: