电容式触摸屏用多层复合玻璃制造工艺流程图.doc_第1页
电容式触摸屏用多层复合玻璃制造工艺流程图.doc_第2页
电容式触摸屏用多层复合玻璃制造工艺流程图.doc_第3页
电容式触摸屏用多层复合玻璃制造工艺流程图.doc_第4页
全文预览已结束

下载本文档

版权说明：本文档由用户提供并上传，收益归属内容提供方，若内容存在侵权，请进行举报或认领

文档简介

电容式触摸屏用多层复合玻璃制造工艺流程图步骤流 程 名 称流 程 说 明所需设备主要工艺参数123456789101112131415161718玻璃基板领用和清洗F面ITO镀膜F面光刻胶涂布F 面ITO图形制作R面ITO镀膜F面正性胶保护R面光刻胶涂布R 面ITO图形制作R面 金属 镀膜F面正性胶保护R面光刻胶涂布R面金属图形制作R&F 面掩膜R&F面 Sio2 镀膜激光切割CellCell检验 转不良品处理 贴保护膜包装出货400mm500mm0.55t14”16”0.55t化学钢化玻璃基板领用及清洗镀膜前刷洗清洗机淡紫色为镀膜制程(下同)SiO2 150 (或无)ITO 300 Rs 110/sq金属镀膜线生产节拍时间 60 S淡黄色为黄光制程(下同)曝光1线Width of line 3003mSpace of line 303mTotal pitch ：X/Y 10mLocation accuracy：200um曝光机Cr MASK SIZE: 508X609.6X4.8(5.0)mmMini Gap ：27 um镀膜制程SiO2 150 (或无)ITO 300 Rs 110/sq步骤5可与步骤2合二为一金属镀膜线生产节拍时间 60 S由黄光制程决定, 步骤2和步骤5可同时双面镀黄光制程黄光制程Width of line 403mSpace of line 203mTotal pitch ：X/Y 10mR side ITO to F side ITO alignment：035um曝光机Cr MASK Mini Gap：17 umMini LW：43 um镀膜制程Mo/Al/Mo 5000 Rs 0.3 /sq金属镀膜线生产节拍时间 120 S黄光制程黄光制程Width of line 305mSpace of line 305mR side metal to R side ITO alignment：05um曝光机Cr MASK Mini Gap：27 umMini LW：33 um镀膜制程装金属MASK掩膜,可取消, 由黄光制程决定F Side and R Side Metal MASK SIZE: 400*500mmSiO2 1000可同时双面镀,由黄光制程决定.R side SIO2 to R side metal alignment：X/Y: 0.35mmF side SIO2 to F side ITO alignment：X/Y: 0.35mmITO镀膜线
人人文库> 全部分类> 应用文书 > 技术指导

温馨提示

  • 1. 本站所有资源如无特殊说明，都需要本地电脑安装OFFICE2007和PDF阅读器。图纸软件为CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.压缩文件请下载最新的WinRAR软件解压。
  • 2. 本站的文档不包含任何第三方提供的附件图纸等，如果需要附件，请联系上传者。文件的所有权益归上传用户所有。
  • 3. 本站RAR压缩包中若带图纸，网页内容里面会有图纸预览，若没有图纸预览就没有图纸。
  • 4. 未经权益所有人同意不得将文件中的内容挪作商业或盈利用途。
  • 5. 人人文库网仅提供信息存储空间，仅对用户上传内容的表现方式做保护处理，对用户上传分享的文档内容本身不做任何修改或编辑，并不能对任何下载内容负责。
  • 6. 下载文件中如有侵权或不适当内容，请与我们联系，我们立即纠正。
  • 7. 本站不保证下载资源的准确性、安全性和完整性, 同时也不承担用户因使用这些下载资源对自己和他人造成任何形式的伤害或损失。

最新文档

评论

0/150

提交评论