半导体工艺简介30844ppt课件_第1页
半导体工艺简介30844ppt课件_第2页
半导体工艺简介30844ppt课件_第3页
半导体工艺简介30844ppt课件_第4页
半导体工艺简介30844ppt课件_第5页
已阅读5页，还剩17页未读， 继续免费阅读

下载本文档

版权说明：本文档由用户提供并上传，收益归属内容提供方，若内容存在侵权，请进行举报或认领

文档简介

1 集成电路制造工艺简介生产工厂简介 国外某集成电路工厂外景 2 FabTwowascompletedJanuary2 1996andisa StateoftheArt facility This2 200squarefootfacilitywasconstructedusingallthelatestmaterialsandtechnologies Inthissetofcleanroomswechangetheair390timesperhour ifyoudothemathwithULPAfiltrationthisisaClassOnefacility WehavehadittestedanditdoesmeetClassOneparameters withoutanypeopleworkinginit Sincewearenotmakingmicroprocessorshereandwedon twanttowear spacesuits werunitasaclass10fab EventhoughitconsistentlyrunswellbelowClassTen 1级净化厂房 10级净化厂房 3 HereintheFabTwoPhotolithographyareaweseeoneofour200mm0 35micronI LineSteppers thissteppercanimageandalignboth6 8inchwafers 投影式光刻机 4 AnotherviewofoneoftheFabTwoPhotolithographyareas 投影式光刻机 5 Hereweseeatechnicianloading300mmwafersintotheSemiTool Thewafersareina13waferTefloncassetteco designedbyProcessSpecialtiesandSemiToolin1995 Againthesearetheworld sfirst300mmwetprocesscassettes thatcanbespinrinsedried 硅片清洗装置 6 AswelookinthiswindowweseetheWorld sFirsttrue300mmproductionfurnace Ourdevelopmentanddesignofthistoolbeganin1992 itwasinstalledinDecemberof1995andbecamefullyoperationalinJanuaryof1996 12英寸氧化扩散炉 7 Herewecanseetheloadingof300mmwafersontothePaddle 12英寸氧化扩散炉装片工序 8 ProcessSpecialtieshasdevelopedtheworld sfirstproduction300mmNitridesystem Webeganprocessing300mmLPCVDSiliconNitrideinMayof1997 12英寸氧化扩散炉取片工序 已生长Si3N4 9 2 500additionalsquarefeetof StateoftheArt ClassOneCleanroomiscurrentlyprocessingwafers Withincreased300mm 200mmprocessingcapabilitiesincludingmorePVDMetalization 300mmWetprocessing Cleaningcapabilitiesandfullwafer300mm0 35umPhotolithography allinaClassOneenviroment PVD 10 CurrentlyourPS300AandPS300Bdiffusiontoolsarecapableofrunningboth200mm 300mmwafers Wecanevenprocessthetwosizesinthesamefurnaceloadwithoutsufferinganyuniformityproblems ThermalOxideOnly 12英寸和8英寸氧化扩散炉 11 AccuracyinmetrologyisneveranissueatProcessSpecialties Weusethemostadvancedroboticlaserellipsometersandothercalibratedtoolsforprecisionthinfilm resistivity CDandstepheightmeasurement IncludingournewNanometrics8300fullwafer300mmthinfilmmeasurementandmappingtool WealsouseoutsidelaboratoriesandourexcellentworkingrelationshipswithourMetrologytoolcustomers foradditionalcorrelationandcalibration 检测工序 12 OneoftwoSEMLabslocatedinourfacility InthisoneweareusingafieldemissiontoolforeverythingfromlookingatphotoresistprofilesandmeasuringCD stodoublecheckingmetaldepositionthicknesses Atthehelm anotheroneofourprocessengineersyoumayhavespokenwithMarkHinkle 扫描电镜SEM检测工序 13 HerewearelookingattheIncomingmaterialdispositionracks 库房 14 AboveyouarelookingatacoupleofviewsofthefacilitiesonthewestsideofFabOne Hereyoucanseeoneofour18 5Meg OhmDIwatersystemsandoneoffour10 000CFMairsystemsfeedingthisfab leftpicture aswellasoneofourwasteairscrubberunits rightpicture Bothareinsidethebuildingforeasiermaintenance longerlifeandbetterc
人人文库> 全部分类> 教育资料 > 课件下载

温馨提示

  • 1. 本站所有资源如无特殊说明，都需要本地电脑安装OFFICE2007和PDF阅读器。图纸软件为CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.压缩文件请下载最新的WinRAR软件解压。
  • 2. 本站的文档不包含任何第三方提供的附件图纸等，如果需要附件，请联系上传者。文件的所有权益归上传用户所有。
  • 3. 本站RAR压缩包中若带图纸，网页内容里面会有图纸预览，若没有图纸预览就没有图纸。
  • 4. 未经权益所有人同意不得将文件中的内容挪作商业或盈利用途。
  • 5. 人人文库网仅提供信息存储空间，仅对用户上传内容的表现方式做保护处理，对用户上传分享的文档内容本身不做任何修改或编辑，并不能对任何下载内容负责。
  • 6. 下载文件中如有侵权或不适当内容，请与我们联系，我们立即纠正。
  • 7. 本站不保证下载资源的准确性、安全性和完整性, 同时也不承担用户因使用这些下载资源对自己和他人造成任何形式的伤害或损失。

最新文档

评论

0/150

提交评论