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文档简介
实验总纲 实验目的 建立PECVD基本参数实验方法 在SiO2表面上正光阻 曝光显影后 用BOE去光阻 最后用台阶仪测量深度 计算得出速率 实验步骤 首先设定实验参数 按设定的参数沉积SiO2 测量致密性 然后拿去曝光显影 BOE蚀刻后 去掉光阻 可以用台阶仪测量高度了 测量和搜集数据 经计算得出PECVD的沉积速率是5 10A s 蚀刻芯片 使用清腔气体蚀刻上有SiO2的芯片 以判别该器台的蚀刻速率 更好的掌握清腔的时间 首先设定实验参数 把之前的芯片放进去 然后启动清腔程序 最后测量高度 用原来的高度减去蚀刻后的高度 就能得出蚀刻的高度 经计算得清腔气体蚀刻SiO2速率是2 52A 实验完毕 2010 08 02 感谢亲观看此幻灯片 此课件部分内容来源于网络 如有侵权请及时联系我们删除 谢谢配合
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