标准解读

《GB/T 34971-2017 半导体制造用气体处理指南》是由中国国家标准化管理委员会发布的一项国家标准，主要针对半导体制造过程中所使用的特种气体的安全处理、储存以及运输等方面提出了具体要求与指导。该标准适用于半导体材料生产及加工企业，在确保员工健康安全的同时，也保证了环境不受污染，并提高了产品质量。

在内容上，《GB/T 34971-2017》详细规定了从气体的选择到最终使用全过程中的注意事项。其中包括但不限于：

  • 气体选择时需考虑其纯度对工艺影响；
  • 对于不同种类的气体（如腐蚀性气体、毒性气体等），应根据其性质采取相应的防护措施；
  • 在储存环节强调了容器材质的重要性，指出必须使用符合特定条件的专用储罐来存放各种气体；
  • 运输过程中要注意避免震动和碰撞，防止泄露事故发生；
  • 使用现场应当配备完善的通风设施以减少有害物质浓度；
  • 强调定期检查设备状态，及时更换老化部件，确保系统正常运行；
  • 针对突发事件制定应急预案，包括但不限于泄漏处置方法、人员疏散路线等；


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  • 现行
  • 正在执行有效
  • 2017-11-01 颁布
  • 2018-02-01 实施
©正版授权
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文档简介

ICS7104040 G 86 . . 中 华 人 民 共 和 国 国 家 标 准 GB/T349712017 半导体制造用气体处理指南 Guideforgaseouseffluenthandlinginsemiconductorindustry2017-11-01发布 2018-02-01实施 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 发 布 中 国 国 家 标 准 化 管 理 委 员 会 GB/T349712017 前 言 本标准按照 给出的规则起草 GB/T1.12009 。 本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会 提出并归口 (SAC/TC203) 。 本标准起草单位 中昊光明化工研究设计院有限公司 西南化工研究设计院有限公司 高麦仪器公 : 、 、司 广东华特气体股份有限公司 东莞市联臣电子科技有限公司 上海华爱色谱分析技术有限公司 上海 、 、 、 、市计量测试技术研究院 。 本标准主要起草人 孙福楠 牛艳东 廖恒易 杜汉盛 王鸿 方华 陈鹰 周鹏云 : 、 、 、 、 、 、 、 。 GB/T349712017 半导体制造用气体处理指南1 范围 本标准规定了半导体制造用气体排放系统的原理及技术 。 本标准适用于半导体制造用气体的处理 。2 术语和定义 下列术语和定义适用于本文件 。21 . 效率 efficiency 去除的化学物类与其投放量的比率 分数或比例 ( )。22 . 管道末端减排 end-of-pipeabatement 可在废气处理系统的排放点使用的减排技术 。23 . 使用点减排 point-of-useabatement 可在半导体工艺设备气体排放装置的排放点使用的减排技术 。24 . 去除能力 removalcapacity 一种物质可被去除的量 。3 缩略语 下列缩略语适用于本文件 。 化学气相沉积 CVD: (ChemicalVaporDeposition) 外延沉积 EPI: (EpitaxialDeposition) 爆炸下限 LEL: (LowerExplosiveLimit) 低压化学气相沉积 LPCVD: (LowPressureChemicalVaporDeposition) 职业接触限值 OEL: (OcupationalExposureLimit) 等离子体增强化学气相沉积 PECVD : (PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition) 全氟化合物 PFC: (Perfluorocompounds) 使用点 POU: (PointOfUse) 快速热处理 RTP: (RapidThermalProcess) 挥发性有机化合物 VOC : (VolatileO
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