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薄膜物理与技术课程教学大纲一、课程说明（一）课程名称、所属专业、课程性质、学分；课程名称：薄膜物理与技术所属专业：电子器件与材料工程课程性质：必修课学 分：3（二）课程简介、目标与任务；本课程讲授薄膜的形成机制和原理、薄膜结构和缺陷、薄膜各项物理性能和分析方法等物理内容；讲授薄膜各种制备技术。通过本课程学习，使学生具备从事电子薄膜、光学薄膜、以及各种功能薄膜研究与开发的能力（三）先修课程要求，与先修课与后续相关课程之间的逻辑关系和内容衔接；量子力学、热力学与统计物理、固体物理、电子技术、电路分析等。（四）教材与主要参考书。教材：杨邦朝，王文生. 薄膜物理与技术，成都：电子科技大学出版社，1994主要参考书：1.陈国平.薄膜物理与技术，东南大学出版社，19932.田民波，薄膜技术与薄膜材料，清华大学出版社，2006-8二、课程内容与安排本课程全部为课堂讲授。重点：真空的获得和真空测量的工作原理；物理气相沉积和化学气相沉积的原理及方法；薄膜生长的机理。难点：磁控溅射的机理及控制；MOCVD技术；薄膜形成过程的机理（一）绪论 2学时1、薄膜的概念和历史2、薄膜材料与薄膜技术的发展3、薄膜科学是边缘交叉学科4、薄膜产业是腾飞的高科技产业（二）真空技术基础 2学时1、真空的基本知识2、真空的获得3、真空的测量（三）真空蒸发镀膜 4学时1、真空蒸发原理2、蒸发源的蒸发特性及膜厚分布3、蒸发源的类型4、合金及化合物的蒸发5、膜厚和淀积速率的测量与控制（四）溅射镀膜 4学时1、溅射镀膜的特点2、溅射的基本原理3、溅射镀膜类型4、溅射镀膜的厚度均匀性（五）离子镀膜 2学时1、离子镀原理2、离子镀的特点3、离子轰击的作用4、离子镀的类型（六）化学气相沉积镀膜 4学时1、化学气相沉积的基本原理2、化学气相沉积的特点3、化学气相沉积方法简介4、低压化学气相沉积5、等离子体化学气相沉积6、其他化学气相沉积（七）溶液镀膜法 2学时1、化学反应沉积2、阳极氧化法3、电镀法4、LB膜的制备（八）薄膜的形成 4学时1、凝结过程2、核形成过程3、薄膜形成过程生长模型4、溅射薄膜的形成过程5、薄膜的外延生长6、薄膜形成过程的计算机模拟（九）薄膜的结构和缺陷 4学时1、薄膜的结构2、薄膜的缺陷3、薄膜表面缺陷：再构表面和吸附表面4、薄膜结构与组分的分析方法（十）薄膜的性质和应用 4学时1、薄膜的力学性质和应用2、光学薄膜的性质和应用3、金属薄膜的电学性质和应用4、功能介质薄膜的电学性质和应用5、半导体薄膜的性质和应用6、磁性薄膜的性质和应
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