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绝对精度折叠滤芯在半导体中的应用,MembraneSolutionsUna/2014.7.21,迈博瑞生物膜技术南通有限公司,绝对精度折叠滤芯介绍,半导体哪些地方用到绝对精度,竞争分析和推广话术,CONTENT,何谓绝对精度,Absoluterating,Meaningthat99.9%(oressentiallyall)oftheparticleslargerthanaspecificmicroratingwillbetrappedonorwithinthefilter.,Whyuseabsoluterating,Providetheultimateineconomicalfiltrationforeventhemostcriticalprocessfluids.,绝对精度的表征,PolyPure-AB绝对精度,半导体哪些地方用到绝对精度,绝对精度折叠滤芯介绍,竞争分析和推广话术,CONTENT,WET湿法清洗,应用点详解,ITOEtching(草酸系或盐酸系),PHT显影制程,ITOEtching,蚀刻:蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击技术而移除的技术。蚀刻技术可以分为湿蚀刻和干蚀刻,在湿蚀刻中使用化学溶液,经由化学反应达到蚀刻的目的,而干蚀刻通常是一种等离子体蚀刻,其作用是等离子体撞击芯片表面的物理作用,或者是等离子体活性基与芯片表面原子间的化学反应。,随着集成电路中组件尺寸越做越小,由于化学反应没有方向性,而湿蚀刻是等向性的,当蚀刻溶液做纵向蚀刻时,侧向蚀刻同时发生,从而导致图案线宽失真,因此湿蚀刻在3微米以下组件的制程中已逐渐被干蚀刻取代。,草酸系VS盐酸系,ITO规格的不同,蚀刻液的选择和浓度配比都不同,ITO是IndiumTinOxides的缩写,纳米级铟锡金属氧化物,有良好的导电性,有效切断电子辐射,非晶系:草酸系(3.4%)经典配方,晶系:盐酸系(FeCl+HCl或者王水),3.4%的草酸属于弱酸,可以用PP材质预过滤,PP材料无法耐受强酸,建议使用PTFE或PVDF,PHT,PHT,碱性溶液适用于PP材质过滤,PP材料耐热性高,耐碱pH范围广,=,+,WET,+,+,采用液体化学溶剂和DI水氧化、蚀刻和溶解晶片表面污染物、有机物及金属离子污染,依靠溶剂、酸、表面活性剂和水在不破坏晶元表面特征的情况下通过喷射、净化、氧化和溶解晶元表面污染物。在每次使用化学品后都要在超纯水中彻底清洗,在RCA清洗的基础上,对SC1,SC2混合物采用稀释化学法可以大量节约化学品和DI水的消耗量。并且SC2混合物中的H2O2可以完全去除,科普:SC1:APM称为SC1清洗液,配方为:SC2:HPM称为SC2清洗液,配方为:HCL:H2O2:H2O=1:1:61:2:7,第一步生成薄层化学氧化物;第二步去除氧化物,同时去除颗粒和金属污染物;第三步在沉积了金属氧化物的硅表面产生亲水性,防止干燥出现水印,大直径晶片的清洗,清洗过程采用DI水及HF的循环再利用,由于集成电路内个元件及连线相当细微,因此制造过程中如果遭到尘粒、金属的污染,很容易造成晶片内电路功能的损坏,形成短路或断路等,导致集成电路失效以及影响几何特征的形成。因此在制作过程中除了要排出外界的污染源外,集成电路制造步骤如高温扩散、离子植入前均需要进行清洗工作。所以半导体制造清洗效果的好坏,较大程度的影响芯片制程及电路特性等质量问题。清洗液使用的各种化学品处理不当就会严重污染环境,清洗次数繁多消耗大量的化学品和DI水,面对更细,集成度更高的制程,对化学品以及清洗液的纯度要求也越来越高,超纯化学品的需求越发广泛。,清洗制程总结,竞争分析和推广话术,绝对精度折叠滤芯介绍,半导体哪些地方用到绝对精度,CONTENT,PolyPure-AB竞争分析表,PolyPure-AB竞争分析表,流量对比,效率对比,销售话术总结,Absoluteratingsforconsistentandreliableperformance(99.98%;=5000)2.Abso-Matecatridgesarenon-fiberreleasingandcontainminimalextractables3.AllmaterialsofconstructionareFDAlistedasacceptableforpotableandedibleliquidcontactaccordingtoCFRTitle214.All-polypropyleneconstructionofferswidechemicalcompatibilitywithmostchemicals,acids,basesandsolvents5.Absolutecartr
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