奇美UV技术的开发和应用ppt课件

开发和应用UV技术，UV于20世纪80年代初广泛应用光清洗法，直到90年代，该手稿向有关人士介绍了光表面处理法的技术和动向，1，UV光的分类，UV是英语式UltravioletRays的缩写，即紫外线的波长范围为100400nm，X射线和可见光之间的电磁波有以下四种真空紫外线(VacuumUV)，波长为110-180nm/短波紫外线(UV-C)，波长为180 - 290nmUV清洗/修改/水处理/杀菌/去除有机物，2，紫外线效应，(1)产生臭氧的空气中的氧分子被波长为100230nm的紫外线氧化，产生臭氧(3O22O3)，臭氧具有较强的杀菌力和氧化力的特有恶臭。(2)杀菌作用UV光的杀菌力不是紫外线的原因，而是利用生成臭氧进行杀菌。杀菌力的强弱受波长的影响，不同波长的杀菌力不同。波长在260nm附近的紫外线的杀菌力，波长是350nm的1600倍。3、紫外线光清洗、光清洗技术就是利用紫外线发射的特殊波长(172/185/254nm)的光子能量，对吸附在物体表面的有机污染物(碳氢化合物)进行光敏氧化作用，去除附着在其上的碳氢化合物，光清洗物体的洁净度达到一般洗涤方法所难以达到的洁净度。光洗涤法确实有助于产品的旋律和质量的提高。4、用光清洗去除可去除的污物，用光清洗去除油污。表中显示，有机化合物最近报告和报告使用氯去除重金属或微细灰尘。5，uv光清洗原理，光清洗的工作原理UV光源发射185nm和254nm光子能量，作用于被清洗的物体表面，大部分碳氢化合物在185nm具有强烈的吸收力，因此在吸收了185nm光子能量后，作为离子、自由状态原子、诱导分子和中性分子空气中的氧分子吸收254纳米光子，然后产生臭氧O3和原子氧o。臭氧对185纳米也有强烈的吸收作用，臭氧再次分解为氧O2和原子氧o。原子氧o非常活跃，在它的作用下，将物体表面碳和碳氢化合物的分解物质化，使易挥发的气体二氧化碳、氧和水蒸气从表面逸出，并完全去除附在附近的碳和有机污染物。6，uv-lamp感应电刺激瞬时点火(光清洗，表面改性185nm和254nm波长)高压汞灯管(表面硬化，密封365nm波长)Excimer-Lamp感应电刺激瞬时点火(光清洗，表面改性172nm)每小时10次寿命开关减少85%，随着开关数量的增加，电极物质蒸发也增加，性能下降。打开灯，2.5小时后关闭30分钟，或3小时后关闭15分钟，初始效果降低到70，平均寿命缩短。其他图像电压变化或频率因子也会影响uv灯的功能，如果电压下降到90，uv灯可能无法打开。同时，频率在50 60赫兹(HZ)的范围内，只有紫外线灯产生效果。8，uv-lamp寿命，灯寿命低压汞灯管：2，0006，000hr高压汞灯管33601，000 2，000 HR exchtimer-uv灯管33601，000hr1，10，与uv-lamp常规灯管不同，1 .玻璃材质：常规灯：使用常规玻璃(可以防止低频uv渗透)。uv-lamp:使用合成石英玻璃灯；在厚度不同的纯石英玻璃上合成其他元素，实现低压、高压汞灯管的适当1透射比2特定波长紫外线渗透率3热增量和收缩破坏力等功能。*合成石英玻璃在uv灯(UVLAMP)的许多成本中所占比重很大，目前工厂生产兼容的UV灯的劣质玻璃材料正在市面上销售，追求暴利，客户应注意不要受骗，因为灯热爆裂、电力不足、电极容易变黑、镇流器等电气电路故障率高的问题。11、uv-与灯具和常规灯管不同，2 .灯内部压力大小：超高压汞灯管：(365nm，405nm，436nm)高压汞灯管：110压力；(285nm400nm)低压汞灯管：1 10Pa(185nm、254nm、12、UV-LAMP与常规灯管不同，3 .灯组附件材料：UV灯工作时产生高温度，释放大量紫外线，两者都有很多物质在化学作用(挥发性、脆性、劣化、剥离).)，因此UV-LAMP制造材料比普通灯更能承受UV反应和高温破坏。SEN使灯在40 60，硬化灯在100 以上)，13，紫外线灯注意事项，紫外线的渗透性不如想象的高，因此任何纸、铅玻璃、塑料都可以大大降低辐照强度。因此，灯上的灰尘、油渍直接影响渗透能力。因此，新灯管在使用前用75%的酒精涂抹的纱布擦干净，去除油渍、手出汗、灰尘。使用的照明管和石英管要定期清洗，以免影响紫外线的透射率和调查强度。14，uv灯强度检查，单位应定期进行照度检查，更换照度不足的灯。UV是不可见的光线，紫色蓝色是水银蒸气压，其强度与紫外线相关，但不表示UV的强度。不能用这种可见光判断UV强弱。石英玻璃的光衰减和UV透射比等系数。紫外线的强度意味着不能用肉眼判断。15，exchtimer-lamp感应电刺激瞬时照明，exchtimer一词是Excited Dimer的两个单词组合，即这里的两个离子在准分子状态下结合，分离不稳定分子时释放的能量是ExcimerUV。ExcimerUV的波长在100nm360nm之间，其波长破坏化学键结，切断材料表面的特定键结，形成特定应用程序。16、Excimer-Lamp发光原理在金属电极和金属网状电极之间应用高交流电电压，导致内部和外部石英玻璃之间大部分放电离子释放的离子，释放气体的原子立即进入激光状态。从这种激光状态返回到原始状态后，会发生172nm的激光，17，Excimer-Lamp辐照UNIT，18，Excimeruv工作原理，19，使用Excimeruv，20，uv光清洗结构，首先，184.9短波长紫外线是大气中的O2分子单色氧(o)与大气中的O2相结合，形成恶臭(O3)。图1 .253.7波长的紫外线是通过切断O3分子结合而产生的 O2 .图2 .21、紫外线光清洗结构，253.7波长紫外线照射主体表面附着的有机污染物膜，直接破坏分子结合。图3 .破坏的分子结合有机污染源c(碳)h(氢)化合物和o单氧分子排出H2O和CO2、CO、NO2等挥发性物质，排入大气，结果物体表面清洁，图4、22、exchimer清洁原理，172纳米光和185纳米光产生臭氧，原子光子的能量大，有机结合的阻断能力高，因此EXCIMERLamp产生的女氧原子比低汞灯(polar Lamp)多，并加快清洗速度。使用172nm灯光的UV/O3进行洗涤，主要与近距离(O(1D)清洗速度和低压汞灯灯相比相差约5倍。从氮中的洗涤实验来看，只有在172纳米光下洗涤效果很小。，23、紫外线光修正，紫外线照射到物体表面时附着的有机物去除中间层异物或疏水性引起的强度下降，由于异物去除导致亲水表面(即具有OHCOOHCHO的中间介质)的强度，因此强化变形现象，24、UV光修正电路，短波紫外线照射到材料表面时.图1，与空气中与O2分离的o氧离子结合，在素材表面形成OH或COOH或CHO等亲水自由基图2 .25，UV光修正结构图导致材质曲面形成良好的大气状态.图3；此时，可以轻松地与阻燃剂、涂料、编码等中间介质进行化学结合，形成坚固的下一个强度.图4；提高原始弱表面结合力(包括工作力)。然后降低剥离速度，提高耐湿性帮助满足我们对质量和剂量率的要求。26，Excimer修正原理，172nm的光比185nm的光子能量强，能容易地结合有机物的分子。这些被切割的分子，除了用很强的氧化力刺激氧原子外，还能像CO2，H2O的身体一样，飞走并去除，27，Excimer清洗-水晶的优点，瞬时点灯，关掉灯，不要增加时间，只有在需要的时候才能以低功率点火-高效率(发光能量约为10%) 引入成本较高的灯寿命短的成本和氧反应速度相距太远，性能下降可能会增加填充氮的工作成本29，ExcimerUVLAMP分光30，低压UVLAMPV。 SExcimerUV，31，低电压/exchimer在线操作成本，32，UV光清洗-修改的优点，与传统清洁方法相比，1可以去除大多数有机物，具有表面修改或清洁效果非常好的优点。2可以在室温、大气压环境下工作。3与溶剂清洁相比，没有废溶剂问题，因此不需要额外的废液处理费用。该技术主要是33，紫外线表面处理的优点，紫外线表面处理的特长干洗方式，大气中不使用药剂液体的干洗技术，可以在大气中处理。高性能光洗涤剂的性能优于传统湿洗涤剂。减少超纯水的高成本。低损伤UV不会造成热处理等广泛损伤，也不是等离子高能量导致的产品损坏。广泛而多样化对glass、陶瓷、金属、塑料都有处理效果。低生产费废料只不过是臭氧玻璃，生产费是灯，电费。34.处理紫外线表面的注意事项。利用光洗涤的表面清洁度很高，相反，如果不能去除大面积的污垢，不仅需要很长时间，而且从UV生成有桥接类型的东西，相反，由于有膜层，在最大限度地符合光清洗效果之前洗，Type(异丙醇)，35，紫外线表面处理的缺点，紫外线光源的共同缺点：(1)光谱带宽很大。除了我们需要的紫外线外，还有红外线、可见光等。(2)所释放的紫外线能量只是总能量的一小部分。(。(3)调查过程产生高温。36、uv灯/高压/硬化分光，37、uv曲面处理、uv曲面处理效果由于亮度和曝光量之间的差异，使用UV照明强的灯光所需的时间越短，38、UV曲面处理、UV照度越强，清洗速度越快，但此条件限制为185LAMP254LAMP波长较长的UV或可见光，并且会发生桥接反应使用高压汞灯进行清洗，在使用400W以上超高功率Type的低压汞灯时，还应考虑使用不是有效波长的UV或红外线的缺点。39、清洗速度的影响条件，除UV照度外，处理温度和O3影响一般温度高的有机物反应速度O3分解速度也加快O3，浓度越高，O3越快，不认为清洗效果好。40、光清洗温度管理、光清洗作业温度管理非常重要，有机污垢去除国际象棋在185LAMP的高温下通常不想要太低的灯的冷却基本上是O3排放和通风。这是使用高压空冷方法或灯镜水冷间接冷却的方法，组合UV输出与灯最冷的管壁温度、41、灯壁温度与254 LAMP输出关系、管壁温度-3360环境温度(无风)、42、UV清洗变形测量方法、UV具有很好的固体表面改性和清洗能力。使用UV和臭氧O3的光表面处理技术是提高目前半导体、液晶显示器和光电组件产品不良率不可缺少的新技术。另外，操作容易，有量产的能力。以下是UV清洗、变形机理评估和测量方法的六个列表。43、紫外线清洗变形测量方法，1 .uv摄影表(UV机器光度/光量测量)UV光量强度mW/cm2(千分之一瓦)；UV赤山量mJ/cm2(千分之一行)赤山量mJ强弱大小在400到800mJ之间(如果UV曝光量大于600mJ，则小于9度)UV赤山量(mJ/cm2)=UV照度(mW/cm2)O3密度计(用于测量UV生成的臭氧浓度)影响清洗效果的速度，除了UV照片的强度强外，处理过程中O3浓度和基板温度相当依赖，O3浓度是否足够，处理含油污染膜氧化分解速度和性能的基板温度越高，UV和基板必需的化学反应变化超过常温，45，UV清洗变形测量方法，3。接触角测量：在物理表面量化纯水滴，使用接触角测量仪确定水滴接触角的方法。优点：可以标准量化。缺点：必须购买试验机，费用高。测量方法：光学显示器或CCD读取。测量原理：水滴的表面张力与GLASS表面的清洁度成反比。UV调查之前(接触角度大)，UV调查之后(清洁度/亲水性高/光泽