二维纳米材料VIP

第五章二维纳米结构-纳米薄膜,第一节纳米薄膜的分类,纳米薄膜(nano-thinfilm)定义:1)由纳米晶粒构成的薄膜;将纳米晶粒嵌在某种薄膜中的复合膜;每层厚度在纳米量级的单层或多层膜.分类级别1)按微结构分类.含有纳米粒子;厚度为纳米级2)按用途分类.功能纳米薄膜,结构纳米薄膜3)根据层数分类单层或多层,第二节纳米薄膜的制备方法,一、物理法,1真空蒸发镀膜加热方式有：电阻加热，电子束加热，高频加热原理：经高温蒸发的原料蒸气在基体上成膜,电子束加热法装置原理图,真空蒸镀法的应用,蒸镀法具有速度快的优点，可用于制备不同功能的纳米膜，如导电膜，光学增透膜，金属膜等。缺点：膜强度不高，控制合金成分有效率低。,2、溅射镀膜,原理：在真空室中，利用荷能粒子轰击靶材表面，使被轰击出的粒子在基片表面成膜。离子溅射产生原理：高能辐射离子轰击固体，部分被轰击的原子克服表面能飞离固体的现象,溅射产额与入射离子能量关系,贱射技术,直流溅射技术三极和四极溅射射频溅射磁控溅射离子束溅射,射频磁控溅射SiO2装置图,溅射镀膜技术的应用,低温合成高温材料SiC用CVD法温度为1330度，而用溅射法只需500度。多层结构的连续合成,3离子镀膜,离子镀是指在镀膜的同时，利用离子轰击基体表面和膜层的镀膜技术，其目的是改善膜层的性能。离子镀的分类：1)空心阴极离子镀2)多弧离子镀3)离子束辅助沉积,4分子束外延法,原理：在超高真空下，使具有一定热能的两种或两种以上的分子(原子)束喷射至被加热的衬底上，在衬底表面进行反应，并生成薄膜样品的过程。,二、化学法,1化学气相沉积法(CVD)CVD的分类:,CVD的特点,中温和高温下，通过气态的初始化合物之间的气相化学反应而沉积固体可以在常压或者低于常压下进行沉积采用特殊技术，沉积可以在更低温度下进行可以改变沉积层的化学成分，得到混合沉积层可以控制沉积层的密度与纯度绕镀性好，可在复杂形状的基体及颗粒材料上沉积气流条件通常是层流的，在基体表面形成厚的边界层沉积层通常具有柱状晶体结构，不耐弯曲，但通过其他技术可以改善。可以形成多种金属，合金，陶瓷和化合物的沉积层。,CVD的反应类型,CVD的原理,以TiCl4+CH4+H2反应析出TIC为例,析出过程,反应气体向基片表面扩散气体分子被吸附到基片或薄膜表面气体分子、原子在基片或薄膜表面发生化学反应反应产物沉积在基片上形成薄膜，反应副产物离开基体表面。,2.溶胶-凝胶法(Sol-gel),优点:工艺简单,便于推广温度底,不排斥易挥发原料制膜形状多样和基片材料选择性高有效控制薄膜的成分和结构用料省,成本降低,三、分子组装法,分子组装技术：将具有一定功能的分子(包括生物分子)，在分子或超分子尺度范围内，通过物理或化学的方法聚集成稳定的有序体系的方法。分子组装技术LB膜技术和分子自组装技术,LB膜技术,由Langmuir-Blodgett首先发现。技术内容：将双亲分子在水面形成有序的紧密单分子层膜，再利用端基的亲水、疏水作用将单层膜转移至固体基片上。LB膜的分类X型，Z型和Y型,LB膜的制备方法,A.垂直提拉法B.水平附着法,单分子层排列整齐避免垂直提拉法所存在的流动变形问题,水平附着法优点,C.亚相降低法,D单分子层扫动法,第三节纳米薄膜的性能,一力学性能膜的硬度跟系统有关.有些比正常形态硬,有些变软.韧性.多层膜会提高材料的韧性.耐磨研究较少.但如果合理地搭配材料可大大提高材料的耐磨性,二光学性能蓝移和宽化线性和非线性.三电磁学性能永久磁体潜在材料增国电导率.如非晶Si膜改变巨磁电阻效应气敏特性,可充当气体反应催化剂,第四节纳米薄膜的应用,一纳米光学薄膜用于分解有机物,氧化室内有害气体.吸收紫外线,保护眼睛.增加光反射率,节能二纳米耐磨损