牙本质封闭ppt课件

牙本质小管,1,牙本质小管封闭,定义：封闭暴露的牙本质，降低牙本质小管的通透性。牙本质小管封闭分为牙本质小管即刻封闭（IDS）与延时牙本质封闭(DDS)IDS：牙体预备后取模前使用DBA封闭牙本质小管，消除牙体敏感，减轻细菌微渗漏，增加牙本质粘接固位力。DDS：牙体缺损的修复体修复法中传统的粘接方法，即经过12周的暂时修复，在粘接永久修复体时封闭牙本质小管，但在暂时修复期间可能会出现牙体敏感,2,为什么要做牙本质小管封闭？,牙本质小管封闭与牙本质过敏息息相关。牙本质过敏：是由于釉质的完整性受到破坏（龋坏，活髓牙体预备，楔状缺损等），造成牙本质小管暴露从而使牙齿对温度，化学物质和机械刺激等敏感的一种临床病症。,3,牙本质小管封闭的处理,牙本质小管封闭的处理分别有a粘接覆盖法b氟诱导矿化c纳米粒子填塞d原位沉积法e激光熔融法等随着粘接材料的发展，粘接覆盖法在临床应用中越来越广，接下来主要来介绍牙本质小管封闭粘接覆盖法。,4,IDS中DBA的选择,现今DBA已发展到第七代，由于理论的完善，牙本质粘接强度大大的提高，临床操作也更加简便。按照对玷污层的不同处理方式可将DBA分两类：全酸蚀粘接系统与自酸蚀粘接系统。DuarteSjr等在体外发现两者都可增强粘接固位力，并且无差异。Eduardo等用牛牙体外试验后发现全酸蚀与自酸蚀比显示更好的边沿封闭能力，这可能是因为全酸蚀DBA中酸蚀步骤去除玷污层胶原纤维网暴露与树脂突形成微机械联锁，这种方式使牙本质与树脂结合更加严密。,5,活髓基牙敏感的处理,活髓牙体预备后在取模型前做IDS,首先隔湿，用棉球擦干，用第七代自酸蚀粘接剂，反复涂擦3060S,用小棉球蘸干粘接剂，光固化至少10S。用气枪轻轻吹一下若还是敏感可重复以上操作。注:肩台的位置不做处理。,6,窝洞敏感的处理,洞型预备后用清水冲洗窝洞，隔湿，釉质本质共同先用37%磷酸酸蚀60秒，然后用大量的水冲洗，再将合适大小、合适松紧度的棉球置入窝洞（边缘尽量勿覆盖牙釉质），用充填器一端轻压棉球中部，最后用气枪,沿棉球一周（沿釉质边缘）逐步加压吹出空气，至釉质边缘脱矿变为轻度白垩色即可，接着取出棉球。之后再用蘸有粘结剂（注其中必须含有偶联剂成分，如3MSingleBond）的粘结棒涂擦窝洞各个部位3060S后用小棉球蘸干多余的粘接剂用光固化至少十秒。用气枪轻轻吹若敏感则重复涂布粘接剂最后再进行树脂的分层充填与抛光。,7,楔状缺损敏感的控制,楔状缺损术后敏感的几个因素。1酸蚀深度大于粘接深度是术后即刻敏感的主要原因之一。使用自酸蚀技术可以解决这个问题2牙本质内外两条防线的控制是目前认为最有效最先进的预防牙本质牙髓损伤的方法。内防线是混合层的形成-控制牙本质渗透性和控制牙髓组织夜外渗流率（建议必兰局麻下可以收缩血管，降低渗透和外渗流率）在近髓处牙本质小管直径变大小管压力也相应增大处理液处理粘接剂涂布后会出现太阳风洞现象-局部牙本质小管液体有发泡现象。直接填充后敏感症状还会发生，两次粘接剂涂布可以缓解。内防护控制不良是术后即刻敏感的主要原因。防止边缘改变，破坏，减少继发龋是防止术后延期敏感最重要的因素。充填后短期无敏感，而数月后发生敏感可以考虑到外防护的破坏。3是否形成有效粘接也是术后敏感的因素之一。在遇到深度楔缺时候，很多医生需要垫底操作，垫底材料的选择有很多争议，有的主张用氢氧化钙垫底理由是有助于牙本质钙化，现有资料证实基本没有作用。树脂型玻璃离子是不错的选择或者流体树脂，化学固化型流体会更好（化学固化流体会向温度高的牙髓方向收缩）。只要形成有效混合层可以不垫底。有效粘接的前提是新鲜牙本质所以充填之前清除龋坏及陈旧硬化牙本质，玻璃离子和牙本质的鳌合作用也是建立在新鲜牙本质上的。这与充填楔缺备洞是吻合的。4还有一些操作细节的把握，如术前排龈，处理液不要过饱和防止进入龈沟及粘接剂涂布方法。术后打磨的工具选择，打磨后边缘封闭和抛光控制等等。,8,DBA,第一代第三代全酸蚀内容较多，无法一一列举。具体内容可查阅相关文献粘接强度2-7MPa，较低目前已基本弃用第四代全酸蚀（双组分，使用前混合）（多瓶多步骤）（先配和35-37%的磷酸全酸蚀剂处理牙面)35-37%磷酸酸蚀+底胶（N-甲苯基甘油酸-缩水甘油丙烯酸树脂等，载体为丙酮或水）+粘结剂（HEMA羟乙基甲基丙烯酸脂或氨基甲酸乙酯二甲基丙烯酸UDMA等）17-25MPa3M:Scotchbond义获嘉：Heliobond可乐丽：ClearfilPhotoBondKerr：Optibond第五代全酸蚀(单瓶)(需先配和35-37%的磷酸全酸蚀剂处理牙面)底胶与粘结剂混合为单瓶粘结剂20-25Mpa3M:AdperSinglebondplus义获嘉：Syntac可乐丽：ClearfilLinerBondKerr：OptibondSolo贺利氏：GlumaComfortBond登士:柏:Prime组分2：18-25Mpa登士:柏:XENO3M:AdperPromptL-Rop第七代自酸蚀