SITO结构及流程(动画)

,ITO,绝缘材料OG,金属METAL,SITO结构示意图,A-SiO2,METAL,X-ITO、Y-ITO、OG,Glass,B-SiO2,ShieldingITO,镀膜前清洗（ITO）A,镀A面SiO2&ITO,中间水洗（ITO）,PR涂布（ITO）,PR固烤（ITO）,曝光（ITO）,显影固烤（ITO）,中间水洗（OG）,蚀刻剥膜（ITO）,曝光（OG）,预烤（OG）,SLIT/SPIN（OG）,HMDS（OG）,显影（OG）,烤箱（OG）,镀膜前清洗（METAL）,镀A面METAL,中间水洗（METAL）,预烤（METAL）,SLIT/SPIN（METAL）,蚀刻剥膜（METAL）,固烤（METAL）,曝光（METAL）,显影（METAL）,镀膜前清洗（ITO）B,镀A面SiO2,镀膜前清洗（SiO2）A,镀B面ITO,镀膜前清洗（SiO2）B,镀B面SiO2,外观检查,网印前水洗,A面可剥胶网印,烤箱（可剥胶）,B面可剥胶网印,烤箱（可剥胶）,仿形,切割裂片,清洗,清洗,外观检查,电测,出货,出货检查,FLOWCHART,1F,2F1000级,2F100级,ITO完成图形,OG完成图形,METAL完成图形,镀膜,DC,AC,MF,RFPOWER,溅镀原理：如上图所示，在一真空腔体内，将靶材接阴极，而基板接正极或接地，并导入Ar气体，当两极间加入一高电压时，其Ar会解离成Ar+和e-(其Ar+和e-的等离子体谓之电浆)，而Ar+会冲向阴极之靶材，并将靶材的原子冲撞出来，而后被冲撞出的原子会落在基板上堆积形成薄膜。TARGET后装永久磁石或可动式磁石，作用为在TARGET表面行成强大磁场，可以大幅提高表面电浆离子化程度。,蚀刻(Etching),显影(Developing),玻璃(Glass),镀ITO(Sputter),涂布光阻(Coating),曝光(Exposure),剥膜(Striping),ITO制程(正型光阻),需要“播放”此页观看动画效果,绝缘层OG(正型光阻),ITO完成玻璃(Glass),涂布OG光阻(Coating),曝光(Exposure),显影(Developing),需要“播放”此页观看动画效果,蚀刻(Etching),显影(Developing),OG完成玻璃(Glass),金属镀膜(Sputter),涂布光阻(Coating),曝光(Exposure),剥膜(Striping),金属制程(正型光阻),需要“播放”此页观看动画效果,网印可剥胶,可剥胶,切割,切割线,仿形,仿出所需外形,10,中国触摸屏网（),中国触摸屏网无“触”不在,您下载的该触摸屏技术文档来自于中国触摸屏网(中国触摸屏网四大版块：触摸屏论坛：触摸屏供求商机：招聘/找工作求职：触摸屏行业杂志：2.触摸屏供求商机：免费发布触摸屏相关产品：触控面板、触摸屏材料、触摸屏设备、触摸屏一体机、人机界面、大屏幕显示器、广告机、金融自助设备、薄膜开关、电子显示屏等3.招聘/找工作求职：触摸屏厂商