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文档简介
1、第 一 章,半 导 体 器 件 与 模 型,1.4 半导体三极管,1.4.1 三极管的结构、符号及分类,双极型晶体管,1. 基本结构和符号,平面型(NPN)三极管制作工艺:,在 N 型硅片(集电 区)氧化膜上刻一个窗口,将硼杂质进行扩散形成 P 型(基区),再在 P 型区上刻窗口,将磷杂质进行扩散形成N型的发 射区。,扩散法,在 N 型锗片(基区)两边各置一个铟球,加温铟被熔化并与 N 型锗接触,冷却后形成两个 P 型区,集电区接触面大,发射区掺杂浓度高。,合金型(PNP)三极管制作工艺:,和金法,2. 三极管的分类,按照材料分:硅管、锗管等,按照频率分:高频管、低频管,按照功率分:小、中、大
2、功率管,按照结构分:NPN型和PNP型,三极管结构示意图和符号,三极管结构示意图和符号,1.4.2 三极管放大区的工作原理,三极管的工作状态,以 NPN 型管为例,双极型三极管的符号中,发射极的箭头代表发射极电流的实际方向。 从外表上看两个N区,(或两个P区)是对称的。,三极管的主要应用电流放大,三极管具有电流放大作用的条件,双极型三极管的结构可看成由两个背靠背 的PN结组成,三极管若实现放大,必须从三极管内部结构和外部所加电源的极性来保证。,三极管内部结构要求:,1. 发射区高掺杂。,通常只有几微米到几十微米,而且掺杂浓度低。,3. 集电结面积大。,2. 基区做得很薄。,?,三极管具有电流放
3、大作用的内因:,晶体管具有电流放大作用的外部条件:,1. 电流的传输过程,VCC,内部载流子的传输过程,1)发射极正偏与注入载流子:,电子注入:,空穴注入:,发射区中多子电子通过发射结源源不断注入基区。,基区中多子空穴通过发射结注入发射区。,(基区多子数目较少,空穴电流可忽略),发射极电流 IE :多子扩散电流,2)非平衡少子(电子)在基区中的扩散与复合 :,基极电流IB:电子与空穴的复合电流,复合和扩散:,多数电子在基区继续扩散,到达集电结的一侧。,电源VEE的正端不断从基区拉走电子,好像不断供给基区空穴。复合的数目与拉走的电子数目相等,基本维持基区的空穴浓度。,集电极电流 IC : 多子漂
4、移电流,集电区和基区的少子在外电场的作用下进行的漂移运动而形成。,反向饱和电流 ICBO:,电流的传输过程:,发射结正偏电压控制 IE 和 IB 通过注入、扩散、收集转化为 IC。 且转化几乎不受集电结反偏电压的影响,电流的传输过程:,三极管的放大作用是通过载流子传输体现出来的。,三极管的电流分配关系,发射结正偏 集电结反偏,电流分配关系,本质:,?,外部条件:,集电极电流,发射极电流,基极电流,外电路电流平衡方程,发射效率,基区的传输效率,2. 直流电流传输方程,三极管(放大电路)的组态,三极管(放大电路)的三种组态,外部条件:发射结正偏,集电结反偏,1)共基极电路直流电流传输方程,输出电流
5、与输出电流之间的关系?,共基组态直流电流传输系数,2)共发射极电路直流电流传输方程,共发电路直流电流传输系数:,三极管的基极电流对集电极电流 具有控制作用,表示 IB0(相当于基极开路)时,集电极到发射极的直通电流。,3)共集电极电路直流电流传输方程,三极管的电流分配关系,一组三极管电流关系典型数据,任何一列电流关系符合 IE = IC + IB, IB IC IE, IC IE,当 IB 有微小变化时, IC 较大。说明三极管具有电流放大作用。, 在表的第一列数据中,IE = 0 时, IC = 0.001 m A = ICBO, ICBO 称为反向饱和电流。,在表的第二列数据中, I B
6、= 0时, IC = 0.01 m A = ICEO, 称为穿透电流。,共射电流放大系数,共基电流放大系数,三极管的交流电流传输系数, 与 两个参数之间满足以下关系:,三极管的放大作用,主要是依靠发射极电流通过基区传输,到达集电极而实现的。,放大作用原理,关键:,(1)内部条件:发射区杂质浓度远大于基区杂质浓度,且基区很薄。 (2)外部条件:发射结正向偏置,集电结反向偏置。,实现传输过程的两个条件:,1.4.3 三极管的伏安特性曲线,1. 共基电路特性曲线,(1)输入特性曲线,特性曲线左移,原因?,基区宽度调制效应:输出端电压的增加使曲线左移,输出端电压,浓度曲线斜率变大 线线,(2)输出特性
7、曲线,特性曲线上翘?,基区宽度调制效应:特性曲线上翘,特性曲线测试电路,输入特性:,输出特性:,2. 共发射极电路特性曲线,(1) 输入特性,1) v CE = 0 时的输入特性曲线,当 v CE = 0 时,基极和发射极之间相当于两个 PN 结并联。,当 b、e 之间加正向电压时, 应为两个二极管并联后的正向伏安特性。,2) v CE 0 时的输入特性曲线,基区宽度效应: 特性右移,(2)输出特性曲线,划分三个区:截止区、放大区和饱和区。,i B 0 的区域。,两个结都处于反向偏置。,i B= 0 时,i C = ICEO。,硅管约等于 1 A,锗管约为几十 几百微安。,截止区:,放大区:,
8、发射结正偏、集电结反偏,对 NPN 管 v BE 0,v BC 0,集电极电流和基极电流体现放大作用,饱和区:,两个结均正偏,对 NPN 型管,v BE 0, v BC 0 。,特点:i C 基本上不随 i B 而变化,在饱和区三极管失去放大作用。,i C i B,硅管: VCES 0.4 V,过饱和:,饱和管压降:,锗管: VCES 0. 2 V,导致曲线随 v CE 增加而上倾。输出特性曲线向左延伸交于一点,相应的电压 VA称为厄尔利电压。,基区宽度调制效应:,三极管工作状态的判断,测量某硅材料NPN型BJT各电极对地的电压值如下,试判别管子工作在什么区域?,例1 .10,原则:,解:,对
9、NPN管放大时 VC VB VE 对PNP管放大时 VC VB VE,(1)放大区 (2)截止区 (3)饱和区VCE VBE,三极管的连接方式,1.4.4 三极管的主要参数,1. 电流传输系数,表征管子放大作用的参数。, 和 这两个参数不是独立的,而是互相联系,关系为:,2. 反向饱和电流,小功率锗管ICBO 约为几微安;,硅管的 ICBO 小, 有的为纳安数量级。,当 b 开路时, c 和 e 之间的电流,集电极穿透电流。,3. 极限参数,1) 集电极最大允许电流 ICM,当 IC 过大时,三极管的 值要减小。,在 IC = ICM 时, 值下降到额定值的三分之二。,2)集电极最大允许耗散功
10、率 PCM,将 IC 与 VCE 乘积等于规定的 PCM 值各点连接起来,可得一条双曲线。,安全工作区,过损耗区,3) 极间反向击穿电压,外加在三极管各电极之间的最大允许反向电压。,基极开路时,集电极和发射极之间的反向击穿电压。,发射极开路时,集电极和基极之间的反向击穿电压。,安全工作区同时要受 PCM、ICM 和V(BR)CEO限制。,PNP 型三极管,放大原理与 NPN 型基本相同,但为了保证发射结正偏,集电结反偏,外加电源的极性与 NPN 正好相反。,三极管外加电源的极性,计算中VBE 、VCE 为负值;输入与输出特性曲线横轴为(- VBE) 、(- VCE)。,某放大电路中BJT三个电
11、极的电流如图所示。 IA-2mA,IB-0.04mA,IC+2.04mA, 试判断管脚、管型。,例1 .11,C 发射极 B 基极 A 集电极。 管型 NPN管。,解:,电流判断法。,电流的正方向和KCL。,IE=IB+ IC,测得工作在放大电路中几个晶体管三个电极的电位U1、U2、U3分别为:,判断它们是NPN型还是PNP型? 是硅管还是锗管? 确定e、b、c。,例1 .12,先求UBE,若等于0.6-0.7V,为硅管;,解:,原则:发射结正偏,集电结反偏。,NPN管UBE0, UBC0,若等于0.2-0.3V,为锗管。,PNP管自己分析。,温度对三极管参数的影响,在相同的 IB 情况下,集
12、电极电流 IC 随温度上升而增大。温度每上升 l,值约增大 0.51。,(1)对的影响:,和二极管的正向特性一样,温度上升1,v be 将下降 22.5mV。,3)对发射结电压v be的影响:,温度上升,值将增大, i C也将增大,v CE将下降。,ICEO 是由少数载流子漂移运动形成,会随温度上升急剧增加。温度上升10,ICEO将增加一倍。,2)对反向饱和电流 ICEO的影响:,1.4.5 三极管的EM方程和电路模型,埃伯尔斯莫尔(EM)方程反映结电压对三极管各极电流的控制作用。,1. EM 方程的导出,发射结正偏等效模型,发射结用二极管模拟,其对集电极电流的影响用受控源表示。,共基极正向电
13、流传输系数,集电结用二极管模拟, 其对发射极电流的影响用受控源表示。,集电结正偏等效模型,共基极反向电流传输系数,共基组态的EM电路模型,由图可得,埃伯尔斯莫尔方程组反映了各极电流与外加电压的关系,可作为三极管的数学模型。,2. 电路模型,三极管指数模型,(1)正向工作区,正向工作区共射电路的指数模型,受控电流源,(2)饱和区 v BE0、v BC0,集射极间饱和压降,极间饱和压降,饱和状态下的简化模型,v BC增大,i R增大,i C 、i E减小; 基区载流子的复合作用加强, i B增大。 放大状态下的电流传输方程已不成立。,饱和状态时,两结正向电阻都很小,管子呈低阻特性。,三极管已无放大
14、状态时的受控作用,(3)截止区,(4)反向工作区 v BE0,反向电流传输系数很小,不用。,电极之间可视为开路,截止状态下的简化模型,1.4.6 三极管的小信号模型,加入vi ,电路中的瞬时值为静态值与交流瞬时值的叠加。如,瞬时值:,vi 较小时,其对应变化范围内的输入输出特性可视为直线,非线性器件三极管可等效为线性器件来进行分析。,VBEQ对应的静态电流:,瞬时值:,三极管的跨导:,输出电流瞬时值与输入电压瞬时值成线性关系。,小信号的条件:,三极管放大工作时,在静态点上叠加交流小信号,三极管对交流信号具有线性传输特性,三极管可用线性有源网络来进行等效。,线性有源网络与三极管的端电压、电流有函
15、数关系,为三极管的小信号模型。,建立小信号模型的依据,(1) 小信号(微变)(图解)基本满足叠加原理!,输入特性:工作点在Q附近移动范围小,切线代替曲线,(2) 双口有源网络的参数模型,已知端口瞬时值之间的关系(即输入输出特性曲线)如下:,在工作点Q附近展开成泰勒级数,小信号时可忽略高阶项,,可得,并利用,为简化表达,引入四个g参数,共发射极三极管混合型模型,线性g参数模型,用三极管参数表示g参数,取,考虑基区 体电阻,低频混合型电路模型,低频混合型简化模型,相对很小, 可忽略。,高频混合型电路模型,关于混合型模型的说明,点是基区内的等效点,或者说是基区内的等效基极。,混合参数在很宽的频率范围
16、内可以看作与频率无关的常数,因此混合型模型适用的频率范围很宽。,2. 混合型参数与工作点电流的关系,在工作点Q处对指数模型求导可得到相应的g参数,发射结正偏时Q点的动态电阻,1)三极管的跨导gm,室温时,,2)发射结的结层电阻,其大小反映了输出特性曲线的倾斜程度,又称为基区宽度调制参数。,3)集射电阻,一般在几千欧以上,其值在100K10M之间,反映了输出电压对输入电流的影响,也称为基区宽度调制参数。,4)集电结的结层电阻,5)基区体电阻,基区体电阻和接触电阻,低频小功率管约为200300;,ICQ增大,体电阻将减小, VCEQ增大,体电阻将增大。,3. 三极管的网络参数模型,放大器采用不同组态,其端口参量必然不同,得到的参数也会不同.,1)H参数的引出,已知端口瞬时值之间的关系(即输入输出特性曲线)如下:,在小信号(线性)条件下:,H
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