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文档简介
1、泓域咨询 /温州半导体硅片项目可行性研究报告报告说明根据Gartner预测,2016至2022年,全球芯片制造产能中,预计20nm及以下制程占比12%,32/28nm至90nm占比41%,0.13m及以上的微米级制程占比47%。目前,90nm及以下的制程主要使用300mm半导体硅片,90nm以上的制程主要使用200mm或更小尺寸的硅片。根据谨慎财务估算,项目总投资10618.94万元,其中:建设投资8515.62万元,占项目总投资的80.19%;建设期利息101.38万元,占项目总投资的0.95%;流动资金2001.94万元,占项目总投资的18.85%。项目正常运营每年营业收入24400.00
2、万元,综合总成本费用17983.92万元,净利润4708.75万元,财务内部收益率36.09%,财务净现值12333.44万元,全部投资回收期4.28年。本期项目具有较强的财务盈利能力,其财务净现值良好,投资回收期合理。综上所述,该项目属于国家鼓励支持的项目,项目的经济和社会效益客观,项目的投产将改善优化当地产业结构,实现高质量发展的目标。本报告基于可信的公开资料,参考行业研究模型,旨在对项目进行合理的逻辑分析研究。本报告仅作为投资参考或作为参考范文模板用途。目录第一章 公司基本情况7一、 公司基本信息7二、 公司简介7三、 公司竞争优势8四、 公司主要财务数据10公司合并资产负债表主要数据1
3、0公司合并利润表主要数据10五、 核心人员介绍11六、 经营宗旨12七、 公司发展规划12第二章 背景、必要性分析18一、 SOI硅片市场现状及前景18二、 行业发展情况和未来发展趋势20第三章 行业、市场分析23一、 半导体硅片市场规模与发展态势23二、 半导体硅片市场规模与发展态势25三、 半导体硅片介绍及主要种类28第四章 项目选址分析34一、 项目选址原则34二、 建设区基本情况34三、 创新驱动发展37四、 社会经济发展目标38五、 产业发展方向39六、 项目选址综合评价43第五章 产品方案与建设规划44一、 建设规模及主要建设内容44二、 产品规划方案及生产纲领44产品规划方案一览
4、表45第六章 SWOT分析说明46一、 优势分析(S)46二、 劣势分析(W)48三、 机会分析(O)48四、 威胁分析(T)49第七章 运营模式分析53一、 公司经营宗旨53二、 公司的目标、主要职责53三、 各部门职责及权限54四、 财务会计制度57第八章 法人治理65一、 股东权利及义务65二、 董事70三、 高级管理人员75四、 监事77第九章 工艺技术说明80一、 企业技术研发分析80二、 项目技术工艺分析82三、 质量管理84四、 项目技术流程85五、 设备选型方案86主要设备购置一览表86第十章 项目规划进度88一、 项目进度安排88项目实施进度计划一览表88二、 项目实施保障措
5、施89第十一章 环境保护分析90一、 编制依据90二、 环境影响合理性分析91三、 建设期大气环境影响分析92四、 建设期水环境影响分析96五、 建设期固体废弃物环境影响分析96六、 建设期声环境影响分析97七、 营运期环境影响98八、 环境管理分析99九、 结论及建议103第十二章 人力资源分析104一、 人力资源配置104劳动定员一览表104二、 员工技能培训104第十三章 投资方案107一、 投资估算的依据和说明107二、 建设投资估算108建设投资估算表110三、 建设期利息110建设期利息估算表110四、 流动资金111流动资金估算表112五、 总投资113总投资及构成一览表113六
6、、 资金筹措与投资计划114项目投资计划与资金筹措一览表114第十四章 风险评估分析116一、 项目风险分析116二、 项目风险对策118第十五章 附表附件121营业收入、税金及附加和增值税估算表121综合总成本费用估算表121固定资产折旧费估算表122无形资产和其他资产摊销估算表123利润及利润分配表123项目投资现金流量表124借款还本付息计划表126建设投资估算表126建设期利息估算表127固定资产投资估算表128流动资金估算表129总投资及构成一览表130项目投资计划与资金筹措一览表130第一章 公司基本情况一、 公司基本信息1、公司名称:xxx(集团)有限公司2、法定代表人:曹xx3
7、、注册资本:1090万元4、统一社会信用代码:xxxxxxxxxxxxx5、登记机关:xxx市场监督管理局6、成立日期:2010-3-267、营业期限:2010-3-26至无固定期限8、注册地址:xx市xx区xx9、经营范围:从事半导体硅片相关业务(企业依法自主选择经营项目,开展经营活动;依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动;不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。)二、 公司简介本公司秉承“顾客至上,锐意进取”的经营理念,坚持“客户第一”的原则为广大客户提供优质的服务。公司坚持“责任+爱心”的服务理念,将诚信经营、诚信服务作为企业立世之本,在服务社会、方便大众
8、中赢得信誉、赢得市场。“满足社会和业主的需要,是我们不懈的追求”的企业观念,面对经济发展步入快车道的良好机遇,正以高昂的热情投身于建设宏伟大业。展望未来,公司将围绕企业发展目标的实现,在“梦想、责任、忠诚、一流”核心价值观的指引下,围绕业务体系、管控体系和人才队伍体系重塑,推动体制机制改革和管理及业务模式的创新,加强团队能力建设,提升核心竞争力,努力把公司打造成为国内一流的供应链管理平台。三、 公司竞争优势(一)自主研发优势公司在各个细分领域深入研究的同时,通过整合各平台优势,构建全产品系列,并不断进行产品结构升级,顺应行业一体化、集成创新的发展趋势。通过多年积累,公司产品性能处于国内领先水平
9、。公司多年来坚持技术创新,不断改进和优化产品性能,实现产品结构升级。公司结合国内市场客户的个性化需求,不断升级技术,充分体现了公司的持续创新能力。在不断开发新产品的过程中,公司已有多项产品均为国内领先水平。在注重新产品、新技术研发的同时,公司还十分重视自主知识产权的保护。(二)工艺和质量控制优势公司进口大量设备和检测设备,有效提高了精度、生产效率,为产品研发与确保产品质量奠定了坚实的基础。此外,公司是行业内较早通过ISO9001质量体系认证的企业之一,公司产品根据市场及客户需要通过了产品认证,表明公司产品不仅满足国内高端客户的要求,而且部分产品能够与国际标准接轨,能够跻身于国际市场竞争中。在日
10、常生产中,公司严格按照质量体系管理要求,不断完善产品的研发、生产、检验、客户服务等流程,保证公司产品质量的稳定性。(三)产品种类齐全优势公司不仅能满足客户对标准化产品的需求,而且能根据客户的个性化要求,定制生产规格、型号不同的产品。公司齐全的产品系列,完备的产品结构,能够为客户提供一站式服务。对公司来说,实现了对具有多种产品需求客户的资源共享,拓展了销售渠道,增加了客户粘性。公司产品价格与国外同类产品相比有较强性价比优势,在国内市场起到了逐步替代进口产品的作用。(四)营销网络及服务优势根据公司产品服务的特点、客户分布的地域特点,公司营销覆盖了华南、华东、华北及东北等下游客户较为集中的区域,并在
11、欧美、日本、东南亚等国家和地区初步建立经销商网络,及时了解客户需求,为客户提供贴身服务,达到快速响应的效果。公司拥有一支行业经验丰富的销售团队,在各区域配备销售人员,建立从市场调研、产品推广、客户管理、销售管理到客户服务的多维度销售网络体系。公司的服务覆盖产品服务整个生命周期,公司多名销售人员具有研发背景,可引导客户的技术需求并为其提供解决方案,为客户提供及时、深入的专业技术服务与支持。公司与经销商互利共赢,结成了长期战略合作伙伴关系,公司经销网络较为稳定,有利于深耕行业和区域市场,带动经销商共同成长。四、 公司主要财务数据公司合并资产负债表主要数据项目2020年12月2019年12月2018
12、年12月资产总额3878.293102.632908.72负债总额2223.781779.021667.84股东权益合计1654.511323.611240.88公司合并利润表主要数据项目2020年度2019年度2018年度营业收入17271.2813817.0212953.46营业利润4130.803304.643098.10利润总额3615.232892.182711.42净利润2711.422114.911952.22归属于母公司所有者的净利润2711.422114.911952.22五、 核心人员介绍1、曹xx,中国国籍,无永久境外居留权,1970年出生,硕士研究生学历。2012年4月
13、至今任xxx有限公司监事。2018年8月至今任公司独立董事。2、马xx,中国国籍,1978年出生,本科学历,中国注册会计师。2015年9月至今任xxx有限公司董事、2015年9月至今任xxx有限公司董事。2019年1月至今任公司独立董事。3、曹xx,1957年出生,大专学历。1994年5月至2002年6月就职于xxx有限公司;2002年6月至2011年4月任xxx有限责任公司董事。2018年3月至今任公司董事。4、黎xx,中国国籍,1977年出生,本科学历。2018年9月至今历任公司办公室主任,2017年8月至今任公司监事。5、孙xx,中国国籍,无永久境外居留权,1958年出生,本科学历,高级
14、经济师职称。1994年6月至2002年6月任xxx有限公司董事长;2002年6月至2011年4月任xxx有限责任公司董事长;2016年11月至今任xxx有限公司董事、经理;2019年3月至今任公司董事。6、尹xx,中国国籍,无永久境外居留权,1971年出生,本科学历,中级会计师职称。2002年6月至2011年4月任xxx有限责任公司董事。2003年11月至2011年3月任xxx有限责任公司财务经理。2017年3月至今任公司董事、副总经理、财务总监。7、毛xx,中国国籍,1976年出生,本科学历。2003年5月至2011年9月任xxx有限责任公司执行董事、总经理;2003年11月至2011年3月
15、任xxx有限责任公司执行董事、总经理;2004年4月至2011年9月任xxx有限责任公司执行董事、总经理。2018年3月起至今任公司董事长、总经理。8、熊xx,1974年出生,研究生学历。2002年6月至2006年8月就职于xxx有限责任公司;2006年8月至2011年3月,任xxx有限责任公司销售部副经理。2011年3月至今历任公司监事、销售部副部长、部长;2019年8月至今任公司监事会主席。六、 经营宗旨自主创新,诚实守信,让世界分享中国创造的魅力。七、 公司发展规划(一)公司未来发展战略公司秉承“不断超越、追求完美、诚信为本、创新为魂”的经营理念,贯彻“安全、现代、可靠、稳定”的核心价值
16、观,为客户提供高性能、高品质、高技术含量的产品和服务,致力于发展成为行业内领先的供应商。未来公司将通过持续的研发投入和市场营销网络的建设进一步巩固公司在相关领域的领先地位,扩大市场份额;另一方面公司将紧密契合市场需求和技术发展方向进一步拓展公司产品类别,加大研发推广力度,进一步提升公司综合实力以及市场地位。(二)扩产计划经过多年的发展,公司在相关领域领域积累了丰富的生产经验和技术优势,随着公司业务规模逐年增长,产能瓶颈日益显现。因此,产能提升计划是实现公司整体发展战略的重要环节。公司将以全球行业持续发展及逐渐向中国转移为依托,提高公司生产能力和生产效率,满足不断增长的客户需求,巩固并扩大公司在
17、行业中的竞争优势,提高市场占有率和公司影响力。在产品拓展方面,公司计划在扩宽现有产品应用领域的同时,不断丰富产品类型,持续提升产品质量和附加值,保持公司产品在行业中的竞争地位。(三)技术研发计划公司未来将继续加大技术开发和自主创新力度,在现有技术研发资源的基础上完善技术中心功能,规范技术研究和产品开发流程,引进先进的设计、测试等软硬件设备,提高公司技术成果转化能力和产品开发效率,提升公司新产品开发能力和技术竞争实力,为公司的持续稳定发展提供源源不断的技术动力。公司将本着中长期规划和近期目标相结合、前瞻性技术研究和产品应用开发相结合的原则,以研发中心为平台,以市场为导向,进行技术开发和产品创新,
18、健全和完善技术创新机制,从人、财、物和管理机制等方面确保公司的持续创新能力,努力实现公司新技术、新产品、新工艺的持续开发。(四)技术研发计划公司将以新建研发中心为契机,在对现有产品的技术和工艺进行持续改进、提高公司的研发设计能力、满足客户对产品差异化需求的同时,顺应行业技术发展,不断研发新工艺、新技术,不断提升产品自动化程度,在充分满足下游领域对产品质量要求不断提高的同时,强化公司自主创新能力,巩固公司技术的行业先进地位,强化公司的综合竞争实力。积极实施知识产权保护自主创新、自主知识产权和自主品牌是公司今后持续发展的关键。自主知识产权是自主创新的保障,公司未来三年将重点关注专利的保护,依靠自主
19、创新技术和自主知识产权,提高盈利水平。公司计划在未来三年内大量引进或培养技术研发、技术管理等专业人才,以培养技术骨干为重点建设内容,建立一支高、中、初级专业技术人才合理搭配的人才队伍,满足公司快速发展对人才的需要。公司将采用各种形式吸引优秀的科技人员。包括:提高技术人才的待遇;通过与高校、科研机构联合,实行对口培训等形式,强化技术人员知识更新;积极拓宽人才引进渠道,实行就地取才、内部挖掘和面向社会广揽人才相结合。确保公司产品的高技术含量,充分满足客户的需求,使公司在激烈的市场竞争中立于不败之地。公司将加强与高等院校、研发机构的合作与交流,整合产、学、研资源优势,通过自主研发与合作开发并举的方式
20、,持续提升公司技术研发水平,提升公司对重大项目的攻克能力,提高自身研发技术水平,进一步强化公司在行业内的影响力。(五)市场开发规划公司根据自身技术特点与销售经验,制定了如下市场开发规划:首先,公司将以现有客户为基础,在努力提升产品质量的同时,以客户需求为导向,在各个方面深入了解客户需求,以求充分满足客户的差异化需求,从而不断增加现有客户订单;其次,公司将在稳定与现有客户合作关系的同时,凭借公司成熟的业务能力及优质的产品质量逐步向新的客户群体拓展,挖掘新的销售市场;最后,公司将不断完善营销网络建设,提升公司售后服务能力,从而提升公司整体服务水平,实现整体业务的协同及平衡发展。(六)人才发展规划人
21、才是公司发展的核心资源,为了实现公司总体战略目标,公司将健全人力资源管理体系,制定科学的人力资源开发计划,进一步建立完善的培训、薪酬、绩效和激励机制,最大限度的发挥人才潜力,为公司的可持续发展提供人才保障。公司将立足于未来发展需要,进一步加快人才引进。通过专业化的人力资源服务和评估机制,满足公司的发展需要。一方面,公司将根据不同部门职能,有针对性的招聘专业化人才:管理方面,公司将建立规范化的内部控制体系,根据需要招聘行业内专业的管理人才,提升公司整体管理水平;技术方面,公司将引进行业内优秀人才,提升公司的技术创新能力,增加公司核心技术储备,并加速成果转化,确保公司技术水平的领先地位。另一方面,
22、公司将建立人才梯队,以培养管理和技术骨干为重点,有计划地吸纳各类专业人才进入公司,形成高、中、初级人才的塔式人才结构,为公司的长远发展储备力量。培训是企业人力资源整合的重要途径,未来公司将强化现有培训体系的建设,建立和完善培训制度,针对不同岗位的员工制定科学的培训计划,并根据公司的发展要求及员工的发展意愿,制定员工的职业生涯规划。公司将采用内部交流课程、外聘专家授课及先进企业考察等多种培训方式提高员工技能。人才培训的强化将大幅提升员工的整体素质,使员工队伍进一步适应公司的快速发展步伐。公司将制定具有市场竞争力的薪酬结构,制定和实施有利于人才成长和潜力挖掘的激励政策。根据员工的服务年限及贡献,逐
23、步提高员工待遇,激发员工的创造性和主动性,为员工提供广阔的发展空间,全力打造团结协作、拼搏进取、敬业爱岗、开拓创新的员工队伍,从而有效提高公司凝聚力和市场竞争力。第二章 背景、必要性分析一、 SOI硅片市场现状及前景1、SOI硅片市场规模2016年至2018年全球SOI硅片市场销售额从4.41亿美元增长至7.17亿美元,年均复合增长率27.51%;同期,中国SOI硅片市场销售额从0.02亿美元上升至0.11亿美元,年均复合增长率132.46%。作为特殊硅基材料,SOI硅片生产工艺更复杂、成本更高、应用领域更专业,全球范围内仅有Soitec、信越化学、环球晶圆、SUMCO和硅产业集团等少数企业有
24、能力生产。而在需求方面,中国大陆芯片制造领域具备SOI芯片生产能力的企业并不多,因此中国SOI硅片产销规模较小。2、SOI硅片在射频前端芯片中的应用射频前端芯片是超小型内置芯片模块,集成了无线前端电路中使用的各种功能芯片,包括功率放大器、天线调谐器、低噪声放大器、滤波器和射频开关等。射频前端芯片主要功能为处理模拟信号,是以移动智能终端为代表的无线通信设备的核心器件之一。近年来,移动通信技术迅速发展,移动数据传输量和传输速度不断提升,对于配套的射频前端芯片的工作频率、集成度与复杂性的要求随之提高。RF-SOI硅片,包括HR-SOI(高阻)和TR-SOI(含有电荷陷阱层的高阻SOI),是用于射频前
25、端芯片的SOI硅片,其具有寄生电容小、短沟道效应小、集成密度高、速度快、功耗低、工艺简单等优点,符合射频前端芯片对于高速、高线性与低插损等要求。为了应对射频前端芯片对于集成度与复杂性的更高要求,RF-SOI工艺可以在不影响半导体器件工作频率的情况下提高集成度并保持良好的性能;另一方面,SOI以其特殊的结构与良好的电学性能,为系统设计提供了巨大的灵活性。由于SOI是硅基材料,很容易与其它器件集成,同时可以使用标准的集成电路生产线以降低芯片制造企业的生产成本。例如,SOI与CMOS工艺的兼容使其能将数字电路与模拟电路混合,在射频电路应用领域优势明显。RF-SOI工艺在射频集成方面具有多种优势:SO
26、I硅片中绝缘埋层(BOX)的存在,实现了器件有源区和衬底之间的完全隔离,有效降低了寄生电容,从而降低了功耗;RF-SOI可以提供高阻衬底,降低高频RF和数字、混和信号器件之间的串扰并大幅度降低射频前端的噪声量,同时降低了高频插入损耗;作为一种全介质隔离,RF-SOI实现了RF电路与数字电路的单片集成。目前海外RF-SOI产业链较为成熟,格罗方德、意法半导体、TowerJazz、台电和台湾联华电子等芯片制造企业均具有基于RF-SOI工艺的芯片生产线。国内RF-SOI产业链发展不均衡,下游终端智能手机市场发展迅速,中游射频前端模块和器件大部分依赖进口。目前,虽然我国企业具备RF-SOI硅片大规模生
27、产能力,但是国内仅有少数芯片制造企业具有基于RF-SOI工艺制造射频前端芯片的能力,因此国产RF-SOI硅片以出口为主。SOI硅片主要应用于智能手机、WiFi等无线通信设备的射频前端芯片,亦应用于汽车电子、功率器件、传感器等产品。未来,随着5G通信技术的不断成熟,新一轮智能手机的更新换代即将到来,以及自动驾驶、车联网技术的发展,SOI硅片需求将持续上升。二、 行业发展情况和未来发展趋势依照摩尔定律,半导体行业呈现产品升级迭代快、性能持续提升、成本持续下降、制程不断缩小的基本发展趋势。1、制程的不断缩小提升了对半导体硅片的技术要求制程亦称为节点或特征线宽,即晶体管栅极宽度的尺寸,用来衡量半导体芯
28、片制造的工艺水准。遵循摩尔定律,半导体芯片的制程已经从上世纪70年代的1m、0.35m、0.13m逐渐发展至当前的90nm、65nm、45nm、22nm、16nm、10nm、7nm。随着制程的不断缩小,芯片制造工艺对硅片缺陷密度与缺陷尺寸的容忍度不断降低。对应在半导体硅片的制造过程中,需要更加严格地控制硅片表面微粗糙度、硅单晶缺陷、金属杂质、晶体原生缺陷、表面颗粒尺寸和数量等技术指标,这些参数将直接影响半导体产品的成品率和性能。根据Gartner预测,2016至2022年,全球芯片制造产能中,预计20nm及以下制程占比12%,32/28nm至90nm占比41%,0.13m及以上的微米级制程占比
29、47%。目前,90nm及以下的制程主要使用300mm半导体硅片,90nm以上的制程主要使用200mm或更小尺寸的硅片。2、未来几年,300mm仍将是半导体硅片的主流品种随着半导体制程的不断缩小,芯片生产的工艺愈加复杂,生产成本不断提高,成本因素驱动硅片向着大尺寸的方向发展。半导体硅片尺寸越大,对于技术和设备的要求越高,半导体硅片的尺寸每进步一代,生产工艺的难度亦随之提升。3、半导体硅片市场将继续保持较高的集中度半导体硅片行业技术壁垒高、资金壁垒高、人才壁垒高,并且与宏观经济关联性较强,半导体硅片企业需通过规模效应来提高盈利能力,预计未来半导体硅片市场仍将保持较高的集中度。4、中国大陆半导体硅片
30、行业快速发展近年来,中国政府高度重视半导体行业,制定了一系列政策推动中国大陆半导体行业的发展。2014年,国务院印发了国家集成电路产业发展推进纲要,纲要指出:集成电路产业是信息技术产业的核心,是支撑经济社会发展和保障国家安全的战略性、基础性和先导性产业。当前和今后一段时期是我国集成电路产业发展的重要战略机遇期和攻坚期。加快推进集成电路产业发展,对转变经济发展方式、保障国家安全、提升综合国力具有重大战略意义。到2020年,中国集成电路行业与国际先进水平的差距逐步缩小,全行业销售收入年均增速超过20%。到2030年,产业链主要环节达到国际先进水平,实现跨越发展。近年来,在中国政府高度重视、大力扶持
31、半导体行业发展的大背景下,中国大陆的半导体产业快速发展,产业链各环节的产能和技术水平都取得了长足的进步,但相对而言,半导体材料仍是我国半导体产业较为薄弱的环节。目前,我国半导体硅片市场仍主要依赖于进口,我国企业具有很大的进口替代空间。受益于产业政策的支持、国内硅片企业技术水准的提升、以及全球芯片制造产能向中国大陆的转移,预计中国大陆半导体硅片企业的销售额将继续提升,将以高于全球半导体硅片市场的增速发展,市场份额占比也将持续扩大。第三章 行业、市场分析一、 半导体硅片市场规模与发展态势1、全球半导体硅片市场规模与发展态势由于半导体行业与全球宏观经济形势紧密相关,全球半导体硅片行业在2009年受经
32、济危机影响较为低迷出货量与销售额均出现下滑;2010年由于智能手机放量增长,硅片行业大幅反弹。2011年至2016年,全球经济逐渐复苏但依旧较为低迷,硅片行业亦随之低速发展。2017年以来,受益于半导体终端市场需求强劲,下游传统应用领域计算机、移动通信、固态硬盘、工业电子市场持续增长,新兴应用领域如人工智能、区块链、物联网、汽车电子的快速发展,半导体硅片市场规模不断增长,并于2018年突破百亿美元大关。2、全球各尺寸半导体硅片市场情况2018年,300mm硅片和200mm硅片市场份额分别为63.83%和26.14%,两种尺寸硅片合计占比接近90.00%。2011年开始,200mm半导体硅片市场
33、占有率稳定在25-27%之间。2016年至2017年,由于汽车电子、智能手机用指纹芯片、液晶显示器市场需求快速增长,200mm硅片出货面积从2,690.00百万平方英寸上升至3,085.00百万平方英寸,同比增长14.68%。2018年,受益于汽车电子、工业电子、物联网等应用领域的强劲需求,以及功率器件、传感器等生产商将部分产能从150mm转移至200mm,带动200mm硅片继续保持增长,200mm硅片出货面积达到3,278.00百万平方英寸,同比增长6.25%。自2000年全球第一条300mm芯片制造生产线建成以来,300mm半导体硅片市场需求增加,出货面积不断上升。2008年,300mm半
34、导体硅片出货量首次超过200mm半导体硅片;2009年,300mm半导体硅片出货面积超过其他尺寸半导体硅片出货面积之和。2000年至2018年,由于移动通信、计算机等终端市场持续快速发展,300mm半导体硅片出货面积从94.00百万平方英寸扩大至8,005.00百万平方英寸,市场份额从1.69%大幅提升至2018年的63.83%,成为半导体硅片市场最主流的产品。2016至2018年,由于人工智能、区块链、云计算等新兴终端市场的蓬勃发展,300mm半导体硅片出货面积分别为6,817.00、7,261.00、8,005.00百万平方英寸,年均复合增长率为8.36%。3、中国大陆半导体硅片市场现状及
35、前景2008年至2013年,中国大陆半导体硅片市场发展趋势与全球半导体硅片市场一致。2014年起,随着中国各半导体制造生产线投产、中国半导体制造技术的不断进步与中国半导体终端产品市场的飞速发展,中国大陆半导体硅片市场步入了飞跃式发展阶段。2016年至2018年,中国大陆半导体硅片销售额从5.00亿美元上升至9.92亿美元,年均复合增长率高达40.88%,远高于同期全球半导体硅片的年均复合增长率25.65%。中国作为全球最大的半导体产品终端市场,预计未来随着中国芯片制造产能的持续扩张,中国半导体硅片市场的规模将继续以高于全球市场的速度增长。半导体硅片作为芯片制造的关键材料,市场集中度很高,目前全
36、球半导体硅片市场主要被日本、德国、韩国、中国台湾等国家和地区的知名企业占据。中国大陆的半导体硅片企业主要生产150mm及以下的半导体硅片,仅有少数几家企业具有200mm半导体硅片的生产能力。2017年以前,300mm半导体硅片几乎全部依赖进口。2018年,硅产业集团子公司上海新昇作为中国大陆率先实现300mm硅片规模化销售的企业,打破了300mm半导体硅片国产化率几乎为0%的局面。二、 半导体硅片市场规模与发展态势1、全球半导体硅片市场规模与发展态势由于半导体行业与全球宏观经济形势紧密相关,全球半导体硅片行业在2009年受经济危机影响较为低迷出货量与销售额均出现下滑;2010年由于智能手机放量
37、增长,硅片行业大幅反弹。2011年至2016年,全球经济逐渐复苏但依旧较为低迷,硅片行业亦随之低速发展。2017年以来,受益于半导体终端市场需求强劲,下游传统应用领域计算机、移动通信、固态硬盘、工业电子市场持续增长,新兴应用领域如人工智能、区块链、物联网、汽车电子的快速发展,半导体硅片市场规模不断增长,并于2018年突破百亿美元大关。2、全球各尺寸半导体硅片市场情况2018年,300mm硅片和200mm硅片市场份额分别为63.83%和26.14%,两种尺寸硅片合计占比接近90.00%。2011年开始,200mm半导体硅片市场占有率稳定在25-27%之间。2016年至2017年,由于汽车电子、智
38、能手机用指纹芯片、液晶显示器市场需求快速增长,200mm硅片出货面积从2,690.00百万平方英寸上升至3,085.00百万平方英寸,同比增长14.68%。2018年,受益于汽车电子、工业电子、物联网等应用领域的强劲需求,以及功率器件、传感器等生产商将部分产能从150mm转移至200mm,带动200mm硅片继续保持增长,200mm硅片出货面积达到3,278.00百万平方英寸,同比增长6.25%。自2000年全球第一条300mm芯片制造生产线建成以来,300mm半导体硅片市场需求增加,出货面积不断上升。2008年,300mm半导体硅片出货量首次超过200mm半导体硅片;2009年,300mm半导
39、体硅片出货面积超过其他尺寸半导体硅片出货面积之和。2000年至2018年,由于移动通信、计算机等终端市场持续快速发展,300mm半导体硅片出货面积从94.00百万平方英寸扩大至8,005.00百万平方英寸,市场份额从1.69%大幅提升至2018年的63.83%,成为半导体硅片市场最主流的产品。2016至2018年,由于人工智能、区块链、云计算等新兴终端市场的蓬勃发展,300mm半导体硅片出货面积分别为6,817.00、7,261.00、8,005.00百万平方英寸,年均复合增长率为8.36%。3、中国大陆半导体硅片市场现状及前景2008年至2013年,中国大陆半导体硅片市场发展趋势与全球半导体
40、硅片市场一致。2014年起,随着中国各半导体制造生产线投产、中国半导体制造技术的不断进步与中国半导体终端产品市场的飞速发展,中国大陆半导体硅片市场步入了飞跃式发展阶段。2016年至2018年,中国大陆半导体硅片销售额从5.00亿美元上升至9.92亿美元,年均复合增长率高达40.88%,远高于同期全球半导体硅片的年均复合增长率25.65%。中国作为全球最大的半导体产品终端市场,预计未来随着中国芯片制造产能的持续扩张,中国半导体硅片市场的规模将继续以高于全球市场的速度增长。半导体硅片作为芯片制造的关键材料,市场集中度很高,目前全球半导体硅片市场主要被日本、德国、韩国、中国台湾等国家和地区的知名企业
41、占据。中国大陆的半导体硅片企业主要生产150mm及以下的半导体硅片,仅有少数几家企业具有200mm半导体硅片的生产能力。2017年以前,300mm半导体硅片几乎全部依赖进口。2018年,硅产业集团子公司上海新昇作为中国大陆率先实现300mm硅片规模化销售的企业,打破了300mm半导体硅片国产化率几乎为0%的局面。三、 半导体硅片介绍及主要种类1、半导体硅片简介常见的半导体材料包括硅(Si)、锗(Ge)等元素半导体及砷化镓(GaAs)、氮化镓(GaN)等化合物半导体。相较于锗,硅的熔点为1,415,高于锗的熔点937,较高的熔点使硅可以广泛应用于高温加工工艺中;硅的禁带宽度大于锗,更适合制作高压
42、器件。相较于砷化镓,硅安全无毒、对环境无害,而砷元素为有毒物质;并且锗、砷化镓均没有天然的氧化物,在晶圆制造时还需要在表面沉积多层绝缘体,这会导致下游晶圆制造的生产步骤增加从而使生产成本提高。硅基半导体材料是目前产量最大、应用最广的半导体材料,90%以上的半导体产品是用硅基材料制作的。硅在地壳中占比约27%,是除了氧元素之外第二丰富的元素,硅元素以二氧化硅和硅酸盐的形式大量存在于沙子、岩石、矿物中,储量丰富并且易于取得。通常将95-99%纯度的硅称为工业硅。沙子、矿石中的二氧化硅经过纯化,可制成纯度98%以上的硅;高纯度硅经过进一步提纯变为纯度达99.9999999%至99.999999999
43、%(9-11个9)的超纯多晶硅;超纯多晶硅在石英坩埚中熔化,并掺入硼(P)、磷(B)等元素改变其导电能力,放入籽晶确定晶向,经过单晶生长,制成具有特定电性功能的单晶硅锭。熔体的温度、提拉速度和籽晶/石英坩埚的旋转速度决定了单晶硅锭的尺寸和晶体质量,而熔体中的硼(P)、磷(B)等杂质元素的浓度决定了单晶硅锭的电特性。单晶硅锭经过切片、研磨、蚀刻、抛光、外延(如有)、键合(如有)、清洗等工艺步骤,制造成为半导体硅片。在半导体硅片上可布设晶体管及多层互联线,使之成为具有特定功能的集成电路或半导体器件产品。在生产环节中,半导体硅片需要尽可能地减少晶体缺陷,保持极高的平整度与表面洁净度,以保证集成电路或
44、半导体器件的可靠性。2、半导体硅片的主要种类1965年,戈登摩尔提出摩尔定律:集成电路上所集成的晶体管数量,每隔18个月就提升一倍,相应的集成电路性能增强一倍,成本随之下降一半。对于芯片制造企业而言,这意味着需要不断提升单片硅片可生产的芯片数量、降低单片硅片的制造成本以便与摩尔定律同步。半导体硅片的直径越大,在单片硅片上可制造的芯片数量就越多,单位芯片的成本随之降低。半导体硅片的尺寸(以直径计算)主要有50mm(2英寸)、75mm(3英寸)、100mm(4英寸)、150mm(6英寸)、200mm(8英寸)与300mm(12英寸)等规格。在摩尔定律的影响下,半导体硅片正在不断向大尺寸的方向发展。
45、为提高生产效率并降低成本,向大尺寸演进是半导体硅片制造技术的发展方向。硅片尺寸越大,在单片硅片上制造的芯片数量就越多,单位芯片的成本随之降低。同时,在圆形的硅片上制造矩形的芯片会使硅片边缘处的一些区域无法被利用,必然会浪费部分硅片。硅片的尺寸越大,相对而言硅片边缘的损失会越小,有利于进一步降低芯片的成本。例如,在同样的工艺条件下,300mm半导体硅片的可使用面积超过200mm硅片的两倍以上,可使用率(衡量单位晶圆可生产的芯片数量的指标)是200mm硅片的2.5倍左右。半导体硅片尺寸越大,对半导体硅片的生产技术、设备、材料、工艺的要求越高。目前,全球市场主流的产品是200mm、300mm直径的半
46、导体硅片,下游芯片制造行业的设备投资也与200mm和300mm规格相匹配。考虑到大部分200mm及以下芯片制造生产线投产时间较早,绝大部分设备已折旧完毕,因此200mm及以下半导体硅片对应的芯片制造成本往往较低,在部分领域使用200mm及以下半导体硅片的综合成本可能并不高于300mm半导体硅片。此外,在高精度模拟电路、射频前端芯片、嵌入式存储器、CMOS(互补金属氧化物半导体)图像传感器、高压MOS等特殊产品方面,200mm及以下芯片制造的工艺更为成熟。综上,200mm及以下半导体硅片的需求依然存在。随着汽车电子、工业电子等应用的驱动,200mm半导体硅片的需求呈上涨趋势。目前,除上述特殊产品
47、外,200mm及以下半导体硅片的需求主要来源于功率器件、电源管理器、非易失性存储器、MEMS、显示驱动芯片与指纹识别芯片等,终端应用领域主要为移动通信、汽车电子、物联网、工业电子等。目前,300mm半导体硅片的需求主要来源于存储芯片、图像处理芯片、通用处理器芯片、高性能FPGA(现场可编程门阵列)与ASIC(专用集成电路),终端应用主要为智能手机、计算机、云计算、人工智能、SSD(固态存储硬盘)等较为高端领域。根据制造工艺分类,半导体硅片主要可以分为抛光片、外延片与以SOI硅片为代表的高端硅基材料。单晶硅锭经过切割、研磨和抛光处理后得到抛光片。抛光片经过外延生长形成外延片,抛光片经过氧化、键合
48、或离子注入等工艺处理后形成SOI硅片。随着集成电路特征线宽的不断缩小,光刻机的景深也越来越小,硅片上极其微小的高度差都会使集成电路布线图发生变形、错位,这对硅片表面平整度提出了苛刻的要求。此外,硅片表面颗粒度和洁净度对半导体产品的良品率也有直接影响。抛光工艺可去除加工表面残留的损伤层,实现半导体硅片表面平坦化,并进一步减小硅片的表面粗糙度以满足芯片制造工艺对硅片平整度和表面颗粒度的要求。抛光片可直接用于制作半导体器件,广泛应用于存储芯片与功率器件等,也可作为外延片、SOI硅片的衬底材料。外延是通过化学气相沉积的方式在抛光面上生长一层或多层,掺杂类型、电阻率、厚度和晶格结构都符合特定器件要求的新
49、硅单晶层。外延技术可以减少硅片中因单晶生长产生的缺陷,具有更低的缺陷密度和氧含量。外延片常在CMOS电路中使用,如通用处理器芯片、图形处理器芯片等,由于外延片相较于抛光片含氧量、含碳量、缺陷密度更低,提高了栅氧化层的完整性,改善了沟道中的漏电现象,从而提升了集成电路的可靠性。除此之外,通常在低电阻率的硅衬底上外延生长一层高电阻率的外延层,应用于二极管、IGBT(绝缘栅双极型晶体管)等功率器件的制造。功率器件常用在大功率和高电压的环境中,硅衬底的低电阻率可降低导通电阻,高电阻率的外延层可以提高器件的击穿电压。外延片提升了器件的可靠性,并减少了器件的能耗,因此在工业电子、汽车电子等领域广泛使用。S
50、OI硅片即绝缘体上硅,是常见的硅基材料之一,其核心特征是在顶层硅和支撑衬底之间引入了一层氧化物绝缘埋层。SOI硅片的优势在于可以通过绝缘埋层实现全介质隔离,这将大幅减少硅片的寄生电容以及漏电现象,并消除了闩锁效应。SOI硅片具有寄生电容小、短沟道效应小、低压低功耗、集成密度高、速度快、工艺简单、抗宇宙射线粒子的能力强等优点。因此,SOI硅片适合应用在要求耐高压、耐恶劣环境、低功耗、集成度高的芯片上,如射频前端芯片、功率器件、汽车电子、传感器以及星载芯片等。第四章 项目选址分析一、 项目选址原则所选场址应避开自然保护区、风景名胜区、生活饮用水源地和其他特别需要保护的环境敏感性目标。项目建设区域地
51、理条件较好,基础设施等配套较为完善,并且具有足够的发展潜力。二、 建设区基本情况温州,简称“温”或“瓯”,是浙江省地级市,长江三角洲中心区27城之一,国务院批复确定的中国东南沿海重要的商贸城市和区域中心城市。截至2018年,全市下辖4个区、5个县、代管3个县级市,总面积11612.94平方千米,2019年末全市常住人口为930万人,其中市区人口305.2万人;城镇化率为70.5%,全市户籍总人口832.4万人,常住外来人口达297万人。温州地处中国华东地区、浙江东南部、瓯江下游南岸,东濒东海、南毗福建、西及西北部与丽水市相连、北和东北部与台州市接壤,是中国数学家的摇篮、中国南戏的故乡、中国海鲜
52、鸡蛋之乡、中国鞋都,温州人被国人称之为东方犹太人。温州是国家历史文化名城,素有“东南山水甲天下”之美誉。温州古为瓯地,也称东瓯,公元323年建郡,为永嘉郡,传说建郡城时有白鹿衔花绕城一周,故名鹿城。唐朝时(公元675年)始称温州,至今已有2000余年的建城历史。温州是中国民营经济发展的先发地区与改革开放的前沿阵地,在改革开放初期,以“南有吴川,北有温州”享誉全国。2017年中国百强城市排行榜排37位。2018年,温州市生产总值(GDP)6006.2亿元,比2017年增长7.8%。2019年,全年全市实现生产总值(GDP)6606.1亿元,按可比价计算,同比增长8.2%。2018年12月,温州入
53、选2018中国大陆最佳地级城市30强。一年来,我们砥砺奋进、踊跃争先,全市实现地区生产总值6606.1亿元,增长8.2%,总量迈入全国前30强;一般公共预算收入579亿元,增长12.5%;城乡居民人均可支配收入60957元、30211元,分别增长8.7%和9.9%。地区生产总值、城乡居民收入等18项主要指标增速位居全省前三,呈现了稳中有进、逆势上扬的良好态势。全市经济社会发展的主要预期目标是:地区生产总值增长7%左右;一般公共预算收入增长8%左右,规上工业增加值增长7%左右;城乡居民人均可支配收入分别增长7.5%左右、8.5%左右,收入比力争缩小到2:1;R&D经费投入强度达到2.3%,全员劳
54、动生产率提高8%以上,节能减排降碳指标完成省下达的目标任务。未来国际国内宏观环境仍将持续深刻变化,经济社会发展呈现新的阶段性特征。对温州来说,需要认清形势,强化忧患意识和底线思维,坚定发展信心,保持战略定力。从国际看,国际经济进入金融危机以来的深度调整期,在再平衡中实现艰难复苏。全球经济版图深度调整,经济重心持续向亚太地区移动。全球经济贸易增长乏力,国际和区域经贸规则主导权争夺加剧,地缘政治风险导致外部环境更加复杂。全球科技和产业变革孕育新的突破,绿色低碳经济正在开启一个新的时代。从国内看,我国正处在全面建成小康社会决胜阶段,经济发展进入新常态。经济发展方式加快改变,新的增长动力正在孕育形成,
55、“中国制造2025”、“互联网+”等战略启动实施,新技术、新产品、新业态、新商业模式不断涌现,“一带一路”、长江经济带、京津冀一体化,以及自由贸易区、各类示范区等正在改变区域经济战略版图。经济韧性好、潜力足、回旋余地大,长期向好的基本面没有改变,但发展不平衡、不协调、不可持续问题仍然突出,结构性产能过剩比较严重。从浙江省看,“十三五”是强化创新驱动、完成新旧发展动力转换的关键期,是优化产业结构,全面提升产业竞争力的关键期,是加强制度供给、实现治理体系和治理能力现代化的关键期,是协同推进“两富”“两美”建设、增强人民群众获得感的关键期,是防范化解风险矛盾、夯实长治久安基础的关键期。但同时也必须清
56、醒地看到,温州经济社会发展中一些结构性、素质性问题仍然突出,地方金融风险对实体经济的消极影响仍将持续;产业结构路径依赖仍未改观,增长新动力尚未有效形成;半城市化问题依然突出,中心城区首位度亟待提升;资源要素、生态环境对经济社会发展制约更加明显;政府公共品供给与群众不断增长的需求仍不匹配。这些突出矛盾和问题,需要我市在“十三五”时期着力加以解决。三、 创新驱动发展围绕“十三五”发展目标,必须精准发力,突出四大战略重点:综合交通先行。着眼于温州都市区构建,加快综合交通枢纽建设。以“直通高铁、加密高速、提升机场、优化港口、发展城轨、完善城网、建设枢纽”为抓手,加快实现对外交通互联互通、快捷高效,对内
57、交通通畅有序、换乘便捷,进一步改善温州区位交通条件,努力打造我国东南沿海重要交通枢纽城市。陆海统筹推进。着眼于东部新增长极打造,大力推进湾区经济发展。重点谋划构建东部区域发展新格局,深化交通导向型开发模式和产城融合发展理念,科学实施海涂围垦建设,推进海岛、海湾、海港“三海”联动,全面实现东部发展环境联合共治、产业协调共育、新城一体共建、设施互联共享,开创产城融合的东部发展新局面。城区首位度提升。着眼于都市核心区集聚辐射力增强,推进市区城市面貌根本改善和城市功能品位提升。大力实施市区70个以上城中村整体连片改造,推进旧厂房、旧市场搬迁改造和旧小区改造提升,切实改变城市形象。推动中心城区空间布局、产业结构、环境整治、城市管理、服务质量加快转变;增强中心城区交通、教育、医疗、文化、金融、商务等要素集聚辐射能力,促进城市发展由粗放向精致转型。产业人才联动。着眼于温州实体经济提质提效,全力推进产业转型升级和人才引进培育。着力打造高端产业平台,加大对领军企业、高成长型企业扶持力度,形成大企业“顶天立地”和小企业“铺天盖地”的生动局面;完善人才政策,形成能吸引人、留住人、成就人的良好环境,加大招才引智力度,促进产业人才联动发展,推进产业由中低端向中高端迈进。四、 社会经济发展目标综合实力显著
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