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Confidential注入机进阶报告注入机进阶报告Confidential射频离子源气体面板加速器氩气面板：氩气面板： 提供氩气射频离子源点火的介质，并在在红磷加热升华前，维持射频等离子体。红磷加热器硅片 射频离子源：射频离子源： 将介质离子化，提供工艺需要的等离子体。加速器：加速器： 引出离子并使其加速，使离子获得一定的能量。硅片：硅片： 离子注入的靶材。Confidential1.1.点火：点火：使用氩气点火，气压要在-3次方下。手动调节手动调节Confidential2.2.加速加速Source chamberIon beam currentConfidential （1 1）在加速场中，较宽的电场对等离子体进行束流，通过前后左右的电场将离子左右的动量抵消，使离子垂直向下从缝隙中进入第二电场。 在第二电场中，通过反向电场，剔除等离子体中多余的电子，减少干扰。Confidential（2 2）影响加速场的因素：）影响加速场的因素： 1.第一电场中两板之间的距离d 2.两个电场的场强E 3.缝隙的宽度 4.电场中的压强Confidential电源的使用：电源的使用： RF 380V suppression 220V10kV Extaction 330V40kV 泵 20kV水：水： 各种泵、离子源、加速器、皮带轴、电磁铁CDA:CDA: 阀门、水冷系统

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