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文档简介

1、一、 所需试剂和实验仪器试验中所需试剂(均为国药集团生产)及其作用:二水合醋酸锌 Zn(CH3COO)2?2H2O金属前驱物乙二醇甲醚 CH3OCH2CH2OH溶剂无水乙醇 CH3CH2OH溶剂、清洗异丙醇 (CH3)2CHOH溶剂乙醇胺 H2NCH2CH2OH稳定剂二乙醇胺 HN(CH2CH2OH)2稳定剂九水合硝酸铝 Al(NO3)3?9H2O掺杂丙酮 CH3COCH3清洗基片浓盐酸 HCL清洗基片去离子水 H2O清洗基片制备薄膜的实验仪器设备仪器型号用途物理电子天平FA1104电子天平,测量前驱物及掺杂等物质d=0.1mg,上海方瑞仪器恒温磁力搅拌器78HW-1 型,金坛荣华仪器配制溶胶

2、台式匀胶机KW-4A 型台式匀胶机 涂胶制备薄膜中科院微电子研究所电热恒温鼓风干燥箱DHG-9101.OSA型预热处理薄膜管式电阻炉SK-2-2-12 型预热和最终高温处理薄膜上海实验电炉测试仪器X-射线衍射仪、高分辨透射电子显微镜、扫描电镜 SEM、Hitachi-F4500荧光光谱仪等。其它石英硅片1二、 实验步骤(一) ZnO 前驱溶胶的制备1、配制 0.75 M 的溶胶:用电子天平(精度为0.1mg)准确称取8.2621g 二水合醋酸锌放入大约30 mL的乙醇溶剂中用具塞三角瓶盛放,用恒温磁力搅拌器搅拌并保持温度为70,10 分钟后加入 4.60 mL 的乙醇胺稳定剂,搅拌 10 分钟

3、后,待其冷却后在 50 mL 容量瓶中用乙醇滴定,配制成 0.75 M 的溶胶,最后在 70的恒温磁力搅拌器上搅拌 1 小时后,形成均一透明的溶胶,至少静置 48 小时后待用。 在相同的条件下,分别用异丙醇(IPA),乙二醇甲醚(EGME)做为溶剂配制0.75 M 的 ZnO前驱物溶胶,至此我们配制了三种不同溶剂的ZnO 溶胶备用。2、ZnO 薄膜的制备我们选用石英片作为衬底。( 1)基片的清洗 :采用石英片为基板,在涂膜前依次用浓盐酸、酒精、丙酮和丙酮酒精混合物以及去离子水在超声仪中清洗15 分钟,然后用于涂膜。( 2)薄膜的制备 :我们在这次实验中采取四次涂膜。采用旋涂法进行涂膜,涂膜时先

4、低转速 600r/min ,时间 6 s,然后高转速为 3000 r/min ,旋转时间为 30s。涂膜结束后立即放入200oC 的烘箱中干燥 10min,然后放入管式炉中进行500oC 热处理 10 min。每一薄膜试样重复上述涂膜过程 4 次。获得的 ZnO 薄膜样品最后在 600热处理 1 小时。三、厚度、表面形貌及光学性质检测1、X-射线衍射仪( X-Ray Diffraction)从 XRD 的结果可以确定晶体的物相、晶格常数和颗粒大小,还可根据峰的2强度、择优取向如何以及哪一衍射面有此现象,从而初步断定可能存在的形貌。X 射线衍射谱用 Rigakav D/max-3A X 射线衍射

5、仪 (日本理学公司 )测试 ,测试条件 Cu-KA:射线实验参数为电压 35kV,电流 35mA。给出 ZnO 薄膜的 X 射线衍射谱 (XRD)。分析谱峰、根据 XRD数据利用 Bragg 公式计算了样品的晶格常数、分析 ZnO 薄膜晶态、晶体结构和轴择优取向。衍射峰半高宽 (FWHM)的大小反映了薄膜结构特性的优劣 ,衍射峰半高宽越小 ,薄膜品质越优。利用 X 射线衍射谱由 Scherrer 公式 d=0.98K/BcosH给出样品的粒径大小 ,其中为 K 为 X 射线的波长 0.1542nm,B 为衍射峰的半高宽 (FWHM)以弧度为单位 ,H 为衍射角 ,d 为晶粒的平均粒径。2、高分

6、辨透射电子显微镜(Transmission electron microscopy)散射角的大小与样品的密度、厚度相关,因此可以形成明暗不同的影像。给出室温下 300 800nm 范围 内测 定的 ZnO 薄膜的透射 谱 。 根据 公式d=1/2n(1/K2-1/K1),式中 d 为薄膜厚度 ,n 为薄膜透射率。 K1、K2 为透射曲线两相临近峰值对应的波长 ,计算出薄膜的厚度。由透射谱分析 ZnO 薄膜在可见光区域内薄膜的平均透射率和样品的吸收边以分析其光学性质。3、扫描电镜 SEM样品的 SEM图像在 Hi-tachis-520扫描电镜 (日本日立公司 )上得到,ZnO 薄膜的表面形貌它来观察。 ,加速电压为 20MV。得到高放大倍数下的表面图和对应的截面 SEM 图,由图得出薄膜表面结构、晶粒粒径。为了更清楚看到个别晶粒的大小, 更大放大倍数下观察晶粒大小和 ZnO 薄膜的截面图即样品厚度。4、光致发光( Photoluminescence)ZnO 薄膜的光致发光测量是在 Xe 灯激光下 ,用 Hitachi-F45

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