半导体物理刘恩科考研复习总结

1、1.半导体中的电子状态金刚石与共价键（硅锗IV族）：两套面心立方点阵沿对角线平移1/4套构而成闪锌矿与混合键（砷化镓III-V族）：具有离子性，面心立方+两个不同原子纤锌矿结构：六方对称结构（AB堆积）晶体结构：原子周期性排列（点阵+基元）共有化运动：原子组成晶体后，由于电子壳层的交叠，电子不再完全局限在某一个原子上，可以由一个原于转移到相邻的原子上去，电子可以在整个晶体中运动。能带的形成： 组成晶体的大量原子的相同轨道的电子被共有化后，受势场力作用，把同一个能级分裂为相互之间具有微小差异的极其细致的能级，这些能级数目巨大，而且堆积在一个一定宽度的能量范围内，可以认为是连续的。能隙（禁带）的起

2、因：晶体中电子波的布喇格反射周期性势场的作用。（边界处布拉格反射形成驻波，电子集聚不同区域，造成能量差）自由电子与半导体的E-K图：自由电子模型：半导体模型： 导带底：E(k)>E(0)，电子有效质量为正值；价带顶：E(k)<E(0)，电子有效质量为负值；能带越窄，k=0处的曲率越小，二次微商就小，有效质量就越大。正负与有效质量正负有关。空穴：共价键上流失一个电子而出现空位置，认为这个空状态带正电。波矢为k的电子波的布喇格衍射条件：一维情况（布里渊区边界满足布拉格）：第一布里渊区内允许的波矢总数=晶体中的初基晶胞数N每个初基晶胞恰好给每个能带贡献一个独立的k值；直接推广到三维情况考

3、虑到同一能量下电子可以有两个相反的自旋取向，于是每个能带中存在2N个独立轨道。若每个初基晶胞中含有一个一价原子，那么能带可被电子填满一半；若每个原子能贡献两个价电子，那么能带刚好填满；初基晶胞中若含有两个一价原子，能带也刚好填满。杂质电离：电子脱离杂质原子的的束缚成为导电电子的过程。脱离束缚所需要的能力成为杂质电离能。杂质能级：1）替位式杂质（3、5族元素，5族元素释放电子，正电中心，称施主杂质；3族元素接收电子，负电中心，受主杂质。） 2）间隙式杂质（杂质原子小）杂质能带是虚线，分离的。浅能级杂质电离能：施主杂质电离能 受主杂质电离能杂质补偿作用：施主和受主杂质之间的相互抵消作用（大的起作用

4、）杂质高度补偿：施主电子刚好能填充受主能级，虽然杂质多，但不能向导带和价带提供电子和空穴。深能级杂质：非III，V 族杂质在禁带中产生的施主能级和受主能级距离导带底和价带顶都比较远。1）杂质能级离带边较远，需要的电离能大。2）多次电离多重能级，还有可能成为两性杂质。（替位式）缺陷、错位能级：1）点缺陷：原子获得能量克服周围原子的束缚，挤入晶格原子的间隙，形成间隙原子。弗仓克尔缺陷：间隙原子和空位成对出现。肖特基缺陷：只在晶体内形成空位而无间隙原子。 2）位错（点缺陷，空穴、间隙原子；线缺陷，位错；面缺陷，层错、晶粒间界）导体、半导体、绝缘体的能带：绝缘体：至一个全满，其余全满或空（初基晶胞内的

5、价电子数目为偶数,能带不交叠）2N.金属：半空半满半导体或半金属：一个或两个能带是几乎空着或几乎充满以外，其余全满（半金属能带交叠）Si、Ge和GaAs的能带图及其相关特性比较共同点：1）都存在一定大小的禁带宽度，并且禁带宽度都具有负的温度系数。（锗的Eg在边界处；砷化镓在中心处，有两个谷能。） 2）价带结构基本上相同价带顶都位于布里渊区中心，并且该状态都是三度简并的态。 3）在计入电子自旋后，价带顶能带都将一分为二：出现一个二度简并的价带顶能带和一个能量较低一些的非简并能带分裂带。在价带顶简并的两个能带，较高能量的称为重空穴带，较低能量的称为轻空穴带 4）在0K时，导带中完全是空着的（即其中

6、没有电子），同时价带中填满了价电子是满带，这时没有载流子。在0K以上时，满带中的一些价电子可以被热激发（本征激发）到导带，从而产生出载流子；温度越高，被热激发而成为载流子的数目就越多，因此就呈现出所有半导体的共同性质：电导率随着温度的升高而很快增大。不同点：Si和Ge是完全的共价晶体，而GaAs晶体的价键带有约30%的离子键性质），因此它们的能带也具有若干重要的差异，这主要是表现在禁带宽度和导带结构上的不同 1）不同半导体的键能不同，则禁带宽度不同（GaAs>Si>Ge）造成：(1)本征载流子浓度ni不同；(2)载流子在强电场下的电离率不同；(3)光吸收和光激发的波长不同。 2）因

7、为导带底（能谷）的状况不完全决定于晶体的对称性，则Si、Ge和GaAs的的导带底状态的性质以及位置等也就有所不同。 3）导带底的三维形状可以采用等能面来反映，因为Si和Ge的多个导带底都不在k=0处，则它们的等能面都是椭球面；而GaAs的一个导带底，正好是在k=0处，则其等能面是球面。 4）在强电场下，GaAs与Si、Ge的导带的贡献情况有所不同。而Si、Ge的导带则不存在这种次能谷，也不可能产生负电阻。 5）在价带顶与导带底的相互关系上，Si、Ge具有间接跃迁的能带结构（导带底与价带顶不在布里渊区区中的同一点，而GaAs具有直接跃迁的能带结构（即电子与空穴的波矢基本相同）。3.半导体中载流子

8、的统计分布本征激发：电子从价带跃迁到导带，形成导带电子和价带空穴。载流子复合：电子从高能级跃迁到低能级，并向晶格释放能量，从而使导带的电子和价带的空穴减少。状态密度g(E)：能带中能量E附近单位能量间隔内的量子态数。k空间中的每个最小允许体积元是 即这个体积中只存在一个允 许波矢 （电子态）。k空间的量子态密度（均匀）为： 导带底的状态密度： （抛物线） 对于椭球等能面： （硅s6，锗s4）价带顶的状态密度：对于椭球等能面： （重轻空穴）费米能级：当系统处于热平衡状态，也不对外界做功的情况下，系统中增加一个电子所引起的系统自由能的变化。费米能级是T=0K时电子系统中电子占据态和未占据态的分界线

9、，是T=0K电子所具有的最高能量。标志了电子填充水平费米分布函数：f(E)表示能量为E的量子态被电子占据的概率，小于费米能级的量子态被占据概率大。（ 空穴的概率为1-f(E) ）玻尔兹曼分布：导带中的电子浓度和价带中的空穴浓度 非简并导带电子浓度：（Nc导带有效状态密度） 简并时：非简并价带空穴浓度：简并时：载流子浓度积与费米能级无关，只取决于温度T，与杂质无关。本征半导体载流子浓度 电中性1）和T有关，对于某种半导体材料，T确定，ni也确定。（随T增大） 2）本征费米能级Ei基本上在禁带中线处。杂质半导体的载流子浓度与费米分布区别！杂质能级最多容纳1个电子（能带中的能级可以两个），故要修正！

10、电子占据施主能级的几率 空穴占据受主能级的几率 （基态简并度gD=2，gA=4）电离施主浓度施主能级上的电子浓度（未电离的施主浓度）ND为施主浓度（向导带激发电子的浓度）受主能级上的空穴浓度（未电离的受主浓度）NA为受主浓度电离受主浓度（向价带激发空穴的浓度）非补偿情形：n型半导体中的载流子浓度（电中性条件和Ef）只要T确定，Ef也随着确定，n0和p0也确定。不同温区讨论低温弱电离区：导带中的电子全部由电离施主提供。本征弱忽略。杂质能级从中线开始变，随温度先增后减，有极大值。 中等电离区强电离区（杂质全电离）:载流子浓度饱和！过渡区（强电离区本征激发）:（杂质全电离+部分本征）完全本征激发区:

11、 1）掺有某种杂质的半导体的载流子浓度和费米能级由温度和杂质浓度决定；2）随温度升高，费米能级由杂质能级附近逐渐移近禁带中线；3）费米能级（电子多少）：强N >弱N >本征（中线）>弱P >强P.电子浓度逐渐升高。补偿情形多种施主、多种受主并存：讨论：少量受主杂质情况：电中性：低温弱电离区：强电离区：（全电离无本征）过渡区（考虑本征激发作用）：本征激发区：费米能级Ef在Ec之上，进入导带（掺杂高或导带底附近量子基态已被占据）简并半导体：强电离饱和（重掺杂）简并时杂质不能充分电离由电中性得： 解得ND的值，（简并条件ND>>NC，或NA>>NV.）

12、4.半导体的导电性漂移运动：电子在电场力作用下的运动，定向运动的速度为漂移速度。漂移运动和迁移率J电流密度，u电子迁移率，电导率（电阻率的倒数）载流子的电导率与迁移率 在半导体中，两种载流子，电子的迁移率大些。格波：晶格中原子振动都是由若干不同的基本波动按照波的叠加原理合成，这些基本波动就是格波。弹性散射：散射前后电子能量基本不变。非弹性散射：散射前后电子能量有较大的改变。谷间散射：对于多能谷的半导体，电子可以从一个极值附近散射到另一个极值附近。载流子散射：（载流子晶格振动或电离杂质碰撞） 根本原因：周期性势场被破坏（附加电场影响）。散射机构： 1）电离杂质中心散射：电离，形成库仑力势场，弹性

13、散射。 电离杂质Ni越大，散射概率P越大，温度越高，概率小。 （T大，平均速度大） 2）晶格振动散射(声子散射) 长声学波：弹性散射，纵波影响大 长光学波：非弹性散射，T大，概率大 3）等同的能谷间散射 电子与短波声子发生作用，同时吸收或发射一个高能声子，非弹性散射。 4）中性杂质散射重掺杂，低温起作用 5）缺陷散射（位错，各项异性，内电场造成） 6）合金散射（不同原子排列造成电场干扰）自由时间：载流子在电场中做漂移运动，只有在连续两次散射之间的时间内才做加速运动，这段时间为自由时间。平均自由时间：电导率、迁移率与平均自由时间：等能面为椭球： 各向异性电流密度（n型半导体，等能面横2纵4）几种

14、散射机构同时存在时：迁移率与杂质浓度和温度的关系：（平均自由时间也一样）迁移率随杂质浓度和温度变化： 半导体：电离杂质散射+声学波散射1）低杂质浓度下，随温度上升迁移率不断下降。2）高杂质浓度下，随温度增加，先上升后下降。（上图所示）少数载流子迁移率和多数载流子迁移率： 1）杂质浓度低，多子和少子的迁移率趋近相同。 2）杂质浓度增加，电子与空穴的多子和少子迁移率都单调下降。 3）给定杂质浓度，电子与空穴的少子迁移率均大于同杂质浓度的多子迁移率。 4）少子与多子的迁移率，随杂质浓度增大差别越大。重掺杂时杂质能级扩展为杂质能带，导致禁带变窄，多数载流子运动会被杂质能级俘获，导致漂移速度降低，迁移率

15、减小。电阻率与杂质浓度关系： 轻掺杂时：电阻率与杂质浓度成简单反比关系 重掺杂时：杂质不能完全电离，出现简并，迁移率随浓度增加而显著下降。（非线性）电阻率随温度变化： 本征半导体：本征载流子浓度随温度急剧增加，电阻率下降。 杂质半导体：（杂质电离+本征电离）AB：温度低，载流子有杂质电离提供，随温度上升增大， 散射由杂质电离决定，迁移率随温度上升增大，电 阻率减小。 BC：杂质全部电离，部分本征。载流子基本不变，晶格 振动为主，迁移率随温度上升而下降，电阻率增大。 CD ：本征激为主，本征载流子增大，电阻率随温度下降。热载流子：载流子的平均能量明显高于热平衡时的值。 热载流子可以在等价或不等价

16、能谷间转移强电场效应：弱电场：电导率为常数，平均漂移速度与场强成正比，迁移率与电场无关。强电场：偏离欧姆定律，电导率非常数，迁移率随电场变化。 热载流子能量比晶格大，散射时，速度大于热平衡状态的速度，平均自由时间减少，迁移率下降。平均漂移速度与电场强度关系：负阻效应：能谷1中的电子可以从电场获取足够的能量而转移到能够2，发生能谷间的散射，电子的准动量有较大的改变，伴随散射就发射或吸收一个光学声子，由能谷1进入能谷2的电子（能谷2曲率小，有效质量大，迁移率小），有效质量增加，迁移率降低，平均漂移速度减小，电导率下降，产生负阻效应。5.非平衡载流子非平衡载流子的复合：由于内部作用，使非平衡态恢复到

17、平衡态，过剩载流子逐渐消失。非平衡载流子的寿命：非平衡载流子的平均生存时间。（倒数为复合概率）非平衡载流子浓度与时间关系：准费米能级：非平衡时费米能级不重合，非平衡载流子越多，准费米能级偏离EF就越远，越接近两边。 载流子浓度为偏离程度：复合理论：1）直接复合：电子在导带和价带之间直接跃迁，引起电子空穴的直接复合。2）间接复合：电子空穴通过禁带的能级（复合中心）进行复合。复合时释放能量：1）发射光子，发光复合或辐射复合； 2）发射声子，将能量传给晶格振动； 3）俄歇复合，将能量给予其他载流子。泡利不相容原理：价带中电子不能激发到导带中已被电子占据的状态上去。直接复合： 热平衡时可以看出，r越大

18、，复合率越大，寿命越短，寿命不仅与平衡载流子浓度有关，还和非平衡载流子浓度有关。（取决于多子）一般禁带宽度越小，直接复合概率大。电子俘获率：把单位体积、单位时间被复合中心俘获的电子数。间接复合： 半导体杂志越多，晶格缺陷越大，非平衡载流子寿命越短。（促进复合）复合中心（杂质或缺陷）四个基本过程：小注入时：强N型半导体：少数载流子空穴俘获系数决定高阻区：与多数载流子浓度反比强P型半导体：少数载流子决定位于禁带中线附近的深能级才是最有效复合中心！表面复合：表面处的杂质和缺陷也能在禁带形成复合中心，间接复合。 较高的表面复合速度，会严重影响器件特性。俄歇复合：载流子从高能级向低能级跃迁，发生复合，吧

19、多余能量传给另一个载流子，是这个载流子被激发到更高的能级上去，当它重新跃迁回到低能级，多余能量常以声子放出。陷阱效应：杂质能级积累非平衡载流子的作用。（增加少子寿命） 杂质能级与平衡时费米能级重合时，最有利于陷进作用。（接近显著）扩散定理：非平衡少数载流子空穴的扩散规律。载流子扩散运动：空穴电流：电子电流爱因斯坦关系：代入的：连续性方程：漂移运动和扩散运动同时存在时少数载流子所遵循的运动方程。 N型：丹倍电场的来源：电子与空穴扩散不同步，电子比空穴快；丹倍电场的作用：降低电子扩散，加速空穴扩散，努力使它们同步；6.pn结PN结的形成：1）合金法-突变结 2）扩散法-缓变结 PN结能带：N区电子

20、费米能级下移，P区空穴费米能级上移，两者重合。平衡时：p-n结接触电势差：电势差和两边的掺杂浓度、温度、材料的禁带宽度（ni与宽度反）有关。p-n结的载流子分布：势垒区中载流子浓度可以忽略，空间电荷密度就等于电离杂质浓度p-n结电流电压特性：正向电压：势垒减小，漂移削弱，扩散增强，继续向内扩散。（电流分布如右图）反向电压：势垒增大，漂移增强，扩散减弱，少数载流子被电场驱回，内部少子就补充，形成反向电压下的电子扩散电流和空穴扩散电流。扩散电流小。p-n结能带图：p-n结电场电势：突变结P+N结耗尽区主要在轻掺杂区的一边理想p-n结J-V关系：1）单向导电性或整流特性 2）温度影响大，温度越大，J

21、越大偏离影响：1）表面效应；2）势垒区产生电流及复合；3）大注入条件；4）串联电阻效应p-n结电容：势垒电容：pn结上外电压的变化，引起电子和空穴在势垒区的存入和取出作用，导致势垒区的空间电荷数量随外加电压而变化，与电容器充放电相似。扩散电容：由于扩散区的电荷数量随外加电压的变化而产生的电容效应。 突变结：势垒区空间电荷区宽度与浓度成反比 势垒电容 1）和结的面积以及轻掺杂一边浓度有关； 2）反向偏压越大，势垒电容越小 线性缓变结 等效为平行板电容，都与外加电压有关。扩散电容(正向偏压) 随正电压按指数关系增长，大的正向偏压下，扩散电容为主。p-n结的击穿：1）雪崩击穿：载流子具很大的动能，与

22、势垒区晶格原子碰撞，把价键上的电子碰撞出来，成为导电电子，同时产生空穴。由于倍增效应，使势垒区单位时间产生大量载流子，迅速增大反向电流，从而发生击穿。（雪崩击穿除了与势垒中电场强度有关，还和势垒宽度有关。）2）齐纳击穿：重掺杂，在强电场作用下，由于隧道效应，是大量电子从价带穿过禁带而进入到导带所引起。3）热电击穿：反向电流耗损，产生大量热能，导致结温上升，由于热不稳定引起击穿。负阻：随电压的增大电流反而减小的现象。隧道效应：重掺杂，费米能级进入价带和导带。 电流=隧道电流+扩散电流1）热平衡，隧道不通过载流子2） 加小正V，n区电子穿过隧道到p区， 产生正隧道电流p到n。点13）增大正V，势垒

23、下降，更多电子从n 到p，隧道电流不断增大。点24）继续增大V，两边能量相同的量子态减小，能穿过的电子减少，出现负阻，隧道电流减少。35）V增加使n导带底和p价带顶一样高，没有量子态， 不能发生隧道穿通，隧道电流为零，有谷值电流。点46）继续加大，扩散电压为主。7）加反向V，p区电子穿到n区，产生反向隧道电流。点57.金属和半导体接触金半接触：金属功函数半导体接触电势差：（费米能级差）（金属功函数大，电势差为负值）半导体边的势垒高度：（费米能下降）金属边的势垒（肖特基）高度 金属与n型半导体接触：1）若Wm>Ws，表面形成正电荷空间，电场由体内指向表面，Vs<0，表面电子能量高，能

24、带向上弯曲，形成表面势垒，表面电子浓度小，高阻区域，称为阻挡层。（高阻，整流）2）若Wm<Ws，电子由金属流向半导体，半导体表面形成负空间电荷区，电场由表面指向体内，Vs>0，能带下弯，表面电子浓度高，是一个高导区域，为反阻挡层。（低阻，欧姆）！（电子由费米能级高的流向费米能级低的，直到两者费米能级一样高）金属与n型半导体接触：1）若Wm>Ws，能带上弯，形成p型反阻挡层。2）若Wm<Ws，能带下弯，造成空穴势垒，形成p型阻挡层。表面态的影响（钉扎）：表面态在三分之一的禁带处（费米能级钉扎）表面能级以上基本被电子占据，带负电；表面态能态密度高，能态海洋，可以完成所有交换

25、；半导体势垒高度与金属功函数基本无关；即使Wm< Ws，阻挡层依然存在。 半导体的功函数增大：金半接触的整流理论：1）处于平衡状态的阻挡层中没有净电流，电子动态平衡。2）外加正电压，势垒下降，正向电流增大。3）外加反向电压，势垒增大，半导体到金属的电子减少，金属流向半导体的电子占优势，形成反向电流。 p型阻挡层相反：加正向电压，形成反向电流；加负压，形成半导体流向金属的正向电流。厚阻挡层：当势垒的宽度比电子的平均自由程大得多，电子通过势垒区要发生多次碰撞，这样的阻挡层称。扩散理论：适用于势垒宽度>>电子平均自由程。热电子发射理论：适用于势垒宽度<<电子平均自由程（

26、无碰撞）镜像力和隧道效应：对反向特性的影响特别显著，引起势垒高度降低，反向电流增加，随反向电压的提高，降低更加显著。少数载流子的注入：扩散效率越高，少数载流子对电流贡献越大。（正压）欧姆接触：一种金属与半导体的接触，它不产生明显的附加阻抗，而且不会使半导体内部的平衡载流子浓度发生显著的改变。（重掺杂）8.半导体表面与MIS结构达姆表面能级：晶体自由表面的存在使其周期场在表面处发生中断，引起附加能级。理想表面：表面层中原子排列的对称性与体内原子完全相同，且表面上不附着任何原子或分子的半无限晶体表面。表面态：电子被局限在表面附近，这种电子状态。 每个表面原子在禁带中对应一个表面能级，表面能级组成表

27、面能带。表面电场效应：MIS结构实际上就是个电容表面势Vs：空间电荷层两端的电势差，表面比内部高为正三种状态： 1）多数载流子堆积状态（p型半导体） 加负压，表面势为负，半导体表面层出现空穴堆积带正电。 2）多数载流子耗尽 加正压，表面势为正，半导体表面层空穴浓度低，耗尽。 3）少数载流子的反型状态 增大正向电压，表面处电子浓度超过空穴，形成与原来半导体衬底导电类型相反的一层，叫反型层。负电荷：1耗尽层中已电离的受主负电荷，2反型层中的电子。对于n型半导体：加正压，表面电子堆积；加负压，表面电子耗尽；加大负压，形成少数载流子空穴堆积的反型层。表面空间电荷区五种基本状态（p型为例）1）多子堆积状

28、态2）平带状态（表面能带不弯曲）3）耗尽状态4）反型状态 强反型表面处少子浓度开始超过体内多子浓度 表面电场增加，耗尽层增加，强反型达到最大值。5）深耗尽状态从深耗尽到热平衡反型层态所需的热驰豫时间MIS结构的C-V特性 理想MIS电容的CV特性（p型） 氧化层完全绝缘； 氧化层中不存在任何电荷； 在氧化层与半导体界面上无界面态； 忽略金属与半导体的接触电势差； 1）低频情况(10100 Hz)2）高频情况(104106Hz)1。反型层中电子的产生与复合跟不上高频 信号的变化，即反型层中电子的数量不能随高频信号而变。此时，反型层中的电子对电容没有贡献。2。QS的变化只能靠耗尽层的电荷变化实现，

29、强反型时耗尽层已达最大厚度。 3）深耗尽情况 (快速CV扫描)实际MIS电容的CV特性 1）金半接触电势差的影响 2）绝缘层中电荷的影响10.半导体的光学性质及光电效应本征吸收：半导体价带中的电子吸收足够能量的光子使电子激发，越过禁带跃迁入导带，在价带中留下空穴，形成电子-空穴对。本征吸收条件：光子能量必须等于或大于禁带宽度Eg（最低限度光子能量），即本征吸收限：当角频率低于0或波长大于0时，不发生本征吸收，吸收系数迅速下降，这种吸收迅速下降的特定波长0或特定频率0，为半导体的本征吸收限（=2/）计算公式： 跃迁的选择定则：电子吸收光子产生跃迁时波矢保持不变（电子能量增加）。直接跃迁：两点位于

30、E(k)曲面同一垂直线。（抛物线）直接带隙半导体：导带极小值和价带极大值对应同一波矢。直接光吸收系数与光子能量：间接带隙半导体：导带极小值和价带极大值并不对应同一波矢。间接跃迁：电子不仅吸收光子，同时还和晶格交换能量，即放出或吸收一个声子。间接光吸收系数（间接比直接跃迁的吸收系数小）：博斯坦移动：本征吸收的长波限要向短波方向移动。费朗兹-克尔德什效应：强电场的作用下，本征吸收的长波限将向长波方向移动。其他吸收：1）激子吸收：吸收光子不足以引起价带电子直接激发到导带而成为自由电子。（激子空穴相束缚，受库仑力，不形成电流）2）自由载流子吸收：入射光子频率不够高，不足以引起电子从带到带的跃迁或形成激

31、子，存在吸收。自由载流子在同一带内的跃迁。（伴随吸收发射声子） 3）杂质吸收： 束缚在杂质能级上的电子或空穴也能引起光的吸收，电子跃迁到导带，空穴到价带。 （随光子能量增加，吸收系数下降，因低于价带顶，跃迁概率下降） 4）晶格振动吸收： 光子能量转换为晶格振动能量。半导体光电导：光吸收使载流子浓度增加，附加光电导。 一般只有一种光生载流子起作用，一般为多子。量子额度：每吸收一个光电子产生的电子-空穴对数。定态光电导：恒定光照下产生光电导电子浓度线性增加，一段时间后达到稳定，产生率等于复合率。弛豫现象：在光照下的光电导逐渐上升和光照停止后光电导逐渐下降的现象。 1）小注入光生载流子浓度按指数增长

32、，最终到达定态。光照结束后， 光电导和浓度有同样上升下降关系。 2）强注入（弛豫过程比较复杂）光电导灵敏度：单位光照度所引起的光电导 要求灵敏度高（浓度ns大），弛豫时间短（长慢，短快）。光电导增益：光电导效应的增强 与光电子寿命，迁移率，两电极距离有关复合与陷进效应：1）少数载流子陷进效应增大了自由非平衡电子的寿命，使光电导明敏度增大。 2）多数载流子陷进增长光电导上升和下降的弛豫时间，取决陷进深度。光生伏特效应：当用适当的光照射非均匀半导体（pn结）时，由内电场作用，半导体内部产生电动势，这种由内电场引起的光电效应。（研究少数载流子运动）pn结的光生伏特效应：光生少流子运动，是P端电势升高

33、，n端电势降低，产生光生电动势相当于pn接两端加正向电压（势垒降低）。光电池的电流电压：3电流，光生电流IL（N-P方向），pn结正向电流IF，外电流 负载：随光强增大，Voc最大达到结势垒。 电流线性增长，电压指数增长。半导体发光：电子从高能级向低能级跃迁，伴随着发射光子（光辐射释放能量）。 （系统必须处于非平衡状态）辐射跃迁：电子从高能级向低能级跃迁，必定释放一定的能量，发射光子。 三种：1）有杂质或缺陷参与的跃迁 2）带与带之间的跃迁 3）热载流子在带内的跃迁本征跃迁（带与带之间的跃迁）：导带的电子跃迁到价带，与价带空穴复合，伴随着发射光子。 直接带隙半导体：直接跃迁，效率高 间接带隙半

34、导体：间接跃迁，发光微弱非本征跃迁：电子从导带跃迁到杂质能级，或杂质能级上的电子跃迁入价带，或电子在杂质能级之间的跃迁，都可以引起发光。 （施主与受主杂质之间的跃迁，效率高，发光二极管多属）俄歇过程（非辐射）：电子从高能级向低能级跃迁时，可以将多余的能量传给第三个载流子，使其受激发跃迁到更高能级。 复合时，也可以将能量转化为晶格振动，伴随发射声子的无辐射复合过程发光效率：电致发光激发机构：1）pn结注入发光 加正电压，势垒减小，扩散大，非平衡少数载流子不断与多数载流子复合发光（辐射复合。） 2）异质结注入发光 提高少数载流子注入效率半导体激光自发辐射：不受外界因素作用，原子自发地从激发态回到基

35、态引起的光子发射过程。（激发态不稳定） 光辐射随机受激辐射：在光辐射的刺激下，受激原子从激发态向基态跃迁的辐射过程。 （光辐射与入射光辐射完全相同）光量子放大：由系统发射的某能量的光子数大于进入系统的同样能量的光子数粒子数反转：处于激发态（高能级）的原子数大于处于基态（低能级）的原子数。（分布反转）受激辐射超过吸收条件：pn结激光器（激光二极管） 1）注入机构（重掺杂） 载流子的抽运（泵）：由外界输入能量，使电子不断激发到高能级。 形成分布反转区（导带电子浓度和价带空穴浓度很高） 2）激光产生 非平衡电子-空穴复合，释放光子，引起其他电子-空穴受激辐射，产生更多光子。 3）共振腔（反射）阈值：

36、增益等于损耗是的注入电流密度。 光谱：低于阈值电流时，辐射主要是自发辐射，谱线宽，随电流增大，受激辐射增强，谱线变窄。接近阈值电流，谱线出现一系列峰值。激光形成条件：11.半导体的热电性质赛贝克效应：当两个不同导体两端相接，组成闭合线路，如两个接头具有不同温度，则线路中便有电流，这种电流称为温差电流，环路组成温差电偶，产生温差电动势。珀耳贴效应：两个不同半导体连接后通以电流，在接头处便有吸热或放热现象。汤姆逊效应：当存在温度梯度的均匀导体中通有电流时，导体中除了产生和电阻相关的焦耳热外，还要吸收或放出热量。一种载流子的绝对温差电动势率： n型半导体 （电场热到冷） p型半导体 （电场冷到热）两

37、种载流子的绝对温差电动势率： 两种材料的温差电动势率：1）具不同杂质浓度的同一种材料（n型半导体） 2）具不同杂质浓度的同一种材料（p型半导体） 3）金属-半导体 金属载流子浓度不随温度变化，费米能级基本不变。温差电动势率小。半导体的热导率： 1）晶体的热传导可以通过载流子，也可以通过晶格的热振动，即通过声子。 2）金属的热传导主要通过电子运动。3）绝缘体的热传导依靠格波传播，即声子的运动。载流子对热传导贡献： 一种载流子：温度梯度>载流子>高温端>低温端 两种载流子：温度梯度>电子空穴>电子扩散大于空穴>产生电场>两者一同运动>双极扩散>

38、复合>载流子不断减少>释放能量 激子的产生、运动和复合，将能量由高温处传向低温处。声子对传导贡献： 半导体中热传导绝大部分是声子贡献，即晶格振动。（扩散、碰撞、非线性）9.半导体异质结构同质结：由同种半导体单晶材料组成的结。异质结：由不同种半导体单晶材料组成的结。 1）反型异质结：导电类型相反 2）同型异质结：导电类型相同 1）突变型异质结（界面过渡窄） 2）缓变型异质结（界面过渡长）突变型异质结能带图p型接收界面电子，耗尽远离费米能级，下翘n型给界面电子，远离费米能级，上翘12.半导体磁和压阻效应霍尔效应：当电流垂直于外磁场通过导体时，在导体的垂直于磁场和电流方向的两个端面之间会

39、产生一个横向电场，出现电势差。一种载流子的霍尔效应： 横向电场与洛伦兹力相抵消，达到稳态 P型半导体 n型半导体 霍尔角： 考虑速度统计分布两种载流子的霍尔效应： 空穴和电子都包含两股电流，总电流为零。磁阻效应：在于电流垂直的方向加磁场后，沿外加电场方向的电流密度有所下降，即半导体电阻增大。（材料电阻率随磁场增大）压阻效应：对半导体施加应力时，半导体的电阻率要发生变化。单轴应力：最简单的形变是沿某一方向进行纵向拉伸或压缩。液体净压强作用下的效应： 1）晶格间距减小，禁带宽度发生变化，对于本征半导体，浓度发生较大变化，电导率改变。（本征浓度降低，电导率减少） 2）锗和砷化镓随压强增大，禁带宽度增

40、大，而硅随压强增大，禁带降低。单轴拉伸或压缩下的效应： 1）对称性发生改变，各项异性，能带结构发生变化2）迁移率的改变对电导率的影响名词解释共有化运动：原子组成晶体后，由于电子壳层的交叠，电子不再完全局限在某一个原子上，可以由一个原于转移到相邻的原子上去，电子可以在整个晶体中运动。布里渊区：晶体中电子的所有运动状态都可以由K空间一个有限区域描述。费米能级：当系统处于热平衡状态，也不对外界做功的情况下，系统中增加一个电子所引起的系统自由能的变化。费米能级是T=0K时电子系统中电子占据态和未占据态的分界线，是T=0K电子所具有的最高能量。标志了电子填充水平陷阱效应：杂质能级积累非平衡载流子的作用。扩散电容：由于扩散区的电荷数量随外加电压的变化所产生的电容效应。光生伏特效应：半导体在受到光照射时，光生少数载流子的运动，使P端电势升高，n端电势降低，产生光生电动势（相当于pn结两端加正向电压，势垒降低）。非平衡载流子：处于非平衡状态的半导体，可以比平衡状态多出一部分。比平衡状态多出来的这部分载流子称为非平衡载流子。迁移率：单位电场强度载流子平均漂移速度。杂质电离：电子脱离杂质原子的的束缚成为导电电子的过程。杂质补偿作用：施主和受主杂质之间的相互抵消作用。杂质高度补偿：施主电子刚好能填充受主能级，虽然杂质多，但不能向导带和价带提供电子和空穴。点缺陷：原子获